8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱及其制备方法和应用技术

技术编号:41467900 阅读:19 留言:0更新日期:2024-05-30 14:22
本发明专利技术公开了一种8‑甲酰基‑7‑羟基‑4‑甲基香豆素席夫碱及其制备方法和应用,该8‑甲酰基‑7‑羟基‑4‑甲基香豆素席夫碱的结构式为:其中,R<subgt;1</subgt;、R<subgt;2</subgt;、R<subgt;3</subgt;和R<subgt;4</subgt;分别独立地为H或碳数为1‑4的烷基。该8‑甲酰基‑7‑羟基‑4‑甲基香豆素席夫碱可以解决光致变色材料的响应速度问题,并且满足光束可寻址的条件,从而能够应用于静态体三维显示系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于有机发光材料,具体涉及一种8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱及其制备方法和应用


技术介绍

1、体3d显示技术是通过在空间中显示真实的体像素点的方式来实现3d效果,可以使多名观看者从不同角度获得同一3d物体的不同侧面的信息,同时兼顾了人眼的辐辏与调节特性,因此,不会给观看者带来视觉疲劳感。根据成像原理的不同,体3d显示技术可以分为动态扫描体三维显示技术与静态体三维显示技术两种。

2、动态扫描体三维显示技术是通过一定方式把显示的立体图像用二维切片的方式投影到一个屏幕上,该屏幕同时做高速的平移或旋转运动,由于人眼的视觉暂留,从而在人眼观察到的不是离散的二维图片,而是由它们组成的三维立体图像。静态体三维显示技术是通过高速投影机把图像投射在层状分布的投影屏幕上,从而形成空间发光点分布。

3、利用光束寻址的静态体三维显示器通常使用高功率光束来诱导一个特殊静态体的三维空间内部产生体素点发光。这种特殊的静态体一般使用上转换发光材料或等离子体产生,但这些技术需要昂贵的高能量光束,从而构成重大的安全风险。开发光束可寻址的发光材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱,其特征在于,所述8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱的结构式为:

2.一种制备权利要求1所述的8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱的方法,其特征在于,包括:将胺化合物与8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素在有机溶剂中进行第一反应,以便得到所述8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱,所述胺化合物的结构式为:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素与所述胺化合物的摩尔比为1:(0.9-1.1);

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述有机溶剂...

【技术特征摘要】

1.一种8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱,其特征在于,所述8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱的结构式为:

2.一种制备权利要求1所述的8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱的方法,其特征在于,包括:将胺化合物与8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素在有机溶剂中进行第一反应,以便得到所述8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素席夫碱,所述胺化合物的结构式为:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,8-甲酰基-7-羟基-4-甲基香豆素与所述胺化合物的摩尔比为1:(0.9-1.1);

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述有机溶剂包括甲醇、乙醇和二甲基亚砜中的至少之一。

5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一反应的温度为65℃-85℃,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:张亮亮王海倩王慧张旭东于增朝韩东成
申请(专利权)人:安徽省东超科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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