一种高效的臭氧溶液制备系统技术方案

本发明专利技术提供了一种高效的臭氧溶液制备系统，包括用于生成臭氧溶液的混液筒及至少一组内部连通的混液管组件，其中，入流管沿所述混液筒的大致切向并贴近混液筒的内壁设置。在混液管组件中，沿流动方向，将臭氧气体粉碎成小气泡后与液体溶剂相混合，形成气体与液体的混合液，由入流管送入混液筒。入流管沿切向贴近混液筒内壁设置，入流管输出的混合液沿切向并贴近内壁流动，形成螺旋向下的安静流动，在流动中进一步溶解混合液中携带的臭氧气泡，形成相对稳定的臭氧溶液，再由出液口输出。通过延长混合液的流动路径，降低混合液的流速，还可使得混合液以层流态流动，进一步维持了混合液的稳定状态，避免在流动过程中，因为可能的扰动导致臭氧析出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洗，尤其涉及一种高效的臭氧溶液制备系统。

技术介绍

1、臭氧是一种强氧化剂，其氧化能力仅次于氟气，可与许多物质发生反应，可被用作消毒剂和漂白剂。标准状况(0℃，1atm)下，臭氧密度大约为2.144克/升。标准状况下，一升水可溶解约1.37克(641毫升)的纯臭氧。臭氧浓度经常使用ppm来衡量，1ppm的臭氧水溶液表示一立方米水中含有1毫升(或2.14毫克)臭氧。

2、在半导体制备行业，硅片经过线切割机的切割加工后，其表面往往会受到严重沾污，故而要达到工业应用标准，就必须经过严格的清洗工序。硅片表面沾污大致可分为三类：油脂、松香、蜡、环氧树脂、聚乙二醇等有机杂质沾污(使用有机溶剂清洗)；尘埃及其他颗粒沾污(使用物理方法如机械擦洗或超声波清洗)；和金属、金属离子及一些无机化合物沾污(使用化学方法清洗)。

3、现有技术中，对硅片的清洗通常采用化学清洗方法，传统的rca清洗硅片的方法中，涉及氨水、双氧水、氢氧化钾等化学品的使用及排放，对环境造成极大的污染。传统的清洗工艺是用碱(如koh或氨水)和双氧水的水溶液，来去除硅片表本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种臭氧溶液制备系统，其特征在于，包括用于生成臭氧溶液的混液筒，及至少一组内部连通的混液管组件；所述混液管组件沿流动方向依次包括：用于连接外部液体溶剂的进液口、用于连接外部臭氧气体源的臭氧入口、用于粉碎臭氧并混合臭氧及液体溶剂以生成混合液的混液管，以及与所述混液筒的内部相连通、用于输出所述混合液的入流管；

2.根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于，所述混液筒的内部，沿周向设置有一组螺旋向下的导流片，所述入流管开口于所述导流片附近。

3.根据权利要求2所述的制备系统，其特征在于，所述导流片的径向宽度大于所述入流管的开口直径。

4.根据权利要求2所...

【技术特征摘要】

1.一种臭氧溶液制备系统，其特征在于，包括用于生成臭氧溶液的混液筒，及至少一组内部连通的混液管组件；所述混液管组件沿流动方向依次包括：用于连接外部液体溶剂的进液口、用于连接外部臭氧气体源的臭氧入口、用于粉碎臭氧并混合臭氧及液体溶剂以生成混合液的混液管，以及与所述混液筒的内部相连通、用于输出所述混合液的入流管；

2.根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于，所述混液筒的内部，沿周向设置有一组螺旋向下的导流片，所述入流管开口于所述导流片附近。

3.根据权利要求2所述的制备系统，其特征在于，所述导流片的径向宽度大于所述入流管的开口直径。

4.根据权利要求2所述的制备系统，其特征在于，同一螺旋角度处，所述导流片与所述混液筒的内壁接触的外边沿，在高度位置上，低于所述导流片接近螺旋中心线的内边沿。

5.根据权利要求2所述的制备系统，其特征在于，所述入流管在所述混液筒内的开口处，还设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘运宇，韩培丁，张良，方士祺，
申请(专利权)人：上海钧乾智造科技有限公司，
类型：发明
国别省市：