【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学材料制备领域，涉及一种纳米二氧化钛高分散性双基改性方法。
技术介绍
1、目前，滤光片、镜片、抗反射涂层，以及增强现实(ar)光波导方案中对高折射率光学材料的需求日趋增加。由于除极少部分设计分子外，绝大部分有机材料折射率均＜1.7，这也严重限制了光学性能的提升。因此，通过向有机材料中引入高折射率无机组分是制备折射率＞1.7光学涂层的重要技术方案。
2、在全世界范围内，使用最多的高折射率无机组分有二氧化钛、二氧化锆、氧化锌等。为满足光学涂层高透明性的特征，以上无机金属氧化物须制备粒径小于100nm甚至接近10nm的纳米粉体。由于纳米材料高表面能导致的易团聚的特性。因此，迫切需要寻求能够在各种极性、非极性溶剂中都能达到单分散状态的表面改性方法。
3、高折射率二氧化钛颗粒由于其制备简单、折射率高、价格低廉作为无机填料被广泛运用于显示电子领域中，以提高材料总体折射率。目前，工业上通常使用偶联剂和表面活性剂对二氧化钛颗粒进行修饰，使其能够均匀稳定的分散在溶剂中。随着尺寸减小，二氧化钛颗粒比表面积增加，表面活...
【技术保护点】
1.一种纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，采用至少两种硅烷偶联剂来改性纳米二氧化钛，制备得到高分散性纳米二氧化钛。
2.如权利要求1所述的纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，所述至少两种硅烷偶联剂为两种硅烷偶联剂，其中一种硅烷偶联剂为含长链的硅烷偶联剂，另一种硅烷偶联剂为含丙烯酸的硅烷偶联剂。
3.如权利要求2所述的纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，所述含长链的硅烷偶联剂为十八烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷，十四烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷中的任意一种；所述含丙烯酸的硅烷偶联...
【技术特征摘要】
1.一种纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，采用至少两种硅烷偶联剂来改性纳米二氧化钛，制备得到高分散性纳米二氧化钛。
2.如权利要求1所述的纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，所述至少两种硅烷偶联剂为两种硅烷偶联剂，其中一种硅烷偶联剂为含长链的硅烷偶联剂，另一种硅烷偶联剂为含丙烯酸的硅烷偶联剂。
3.如权利要求2所述的纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，所述含长链的硅烷偶联剂为十八烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷，十四烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷中的任意一种；所述含丙烯酸的硅烷偶联剂为3-(三甲氧基甲硅基)丙烯酸丙酯、3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷中的任意一种。
4.如权利要求2所述的纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，所述含长链的硅烷偶联剂的用量为纳米二氧化钛重量的1-10％，所述含丙烯酸的硅烷偶联剂的用量为纳米二氧化钛重量的1-10％。
5.如权利要求1所述的纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，包括以下步骤：
6.如权利要求5所述的纳米二氧化钛高分散性双基改性方法，其特征在于，所述步骤一中，通过水热法制备晶态纳米二氧化钛的方法为：取钛酸丁酯、无水乙醇和醋酸，将其置于容器中搅拌均匀，得到酸丁酯醇溶液；将无水乙醇水溶液滴入持续搅拌的钛酸丁酯醇溶液中，滴毕持...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆聪，
申请(专利权)人：四川通元新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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