【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种氢氧化细菌的培养方法及氢氧化细菌的培养装置。
技术介绍
1、氢氧化细菌通过将氢氧化为水而获得能量，并进行碳酸固定而增殖。因而，正在努力通过将二氧化碳等无机碳作为原料培养氢氧化细菌来生产各种化学品。由此，有助于实现碳中和，并使化学品生产成为可能。
2、专利文献1中，作为氢氧化细菌的培养方法公开了：首先，向培养容器中加入培养基，接着，向培养容器内供给包含氢、氧以及二氧化碳的混合气体；以及在供给混合气体后的培养容器内，对氢氧化细菌进行静置培养或振荡培养。另外还公开了：通过优化混合气体中的氢、氧、二氧化碳的容量比，使氢氧化细菌的生长变好，能够高效地制造目标化合物。
3、专利文献1：国际公开第2019/207812号说明书
4、然而，在专利文献1所记载的培养方法中，需要预先准备大量氢、氧和二氧化碳。特别是氢由于为可燃性气体，所以对其的保存需要特别注意。因此，专利文献1所记载的培养方法存在需要考虑安全性、以及设备投资的负担大等技术问题。另外，为了将混合气体供给至培养容器内，需要将氢气及混合气体加压后储存、或者需要使用泵。因此，在考虑到氢氧化细菌的社会实践的情况下，需要降低氢的储存及供给所需的能量。
5、因而，建立一种在氢氧化细菌的培养中，无需储存大量的氢即可供给氢，同时扼制能量消耗的机制成为技术问题。
技术实现思路
1、本专利技术的应用例所涉及的氢氧化细菌的培养方法具有：
2、氢产生工序，使金属体和包含水的液体接触，
3、氢供给工序，向接种有氢氧化细菌的培养基供给所产生的所述氢。
4、本专利技术的应用例所涉及的氢氧化细菌的培养装置具备：
5、培养容器；
6、金属体，收容于所述培养容器，通过与包含水的液体接触发生腐蚀反应，并产生氢；以及
7、培养基，以与所产生的所述氢接触的方式收容于所述培养容器，并接种有氢氧化细菌。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种氢氧化细菌的培养方法，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
3.根据权利要求2所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
4.根据权利要求3所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
5.根据权利要求1或2所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
6.根据权利要求1或2所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
7.根据权利要求1或2所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
8.一种氢氧化细菌的培养装置，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的氢氧化细菌的培养装置，其中，
10.根据权利要求8所述的氢氧化细菌的培养装置，其中，
11.根据权利要求10所述的氢氧化细菌的培养装置，其中，
12.根据权利要求8所述的氢氧化细菌的培养装置，其中，
13.根据权利要求8所述的氢氧化细菌的培养装置，其中，
【技术特征摘要】
1.一种氢氧化细菌的培养方法，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
3.根据权利要求2所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
4.根据权利要求3所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
5.根据权利要求1或2所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
6.根据权利要求1或2所述的氢氧化细菌的培养方法，其中，
7.根据权利要求1或2所述的氢...
【专利技术属性】
技术研发人员：秀嶋保利，富田奈绪子，前田郁也，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。