【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容的实施方式一般涉及基板处理设施。
技术介绍
1、兆声波清洁腔室在半导体工业中被用于清洁各种类型的基板。兆声波清洁腔室一般使用声能在指向基板的清洁流体中产生腔体内爆。然而，清洁流体中的大腔体可能会在清洁期间损坏基板。
2、据此，专利技术人提供了用于在兆声波清洁腔室中清洁基板的改进的设备和方法。
技术实现思路
1、本文提供兆声波清洁腔室的实施方式。在一些实施方式中，兆声波清洁腔室包括：腔室主体，该腔室主体界定该腔室主体中的内部空间；基板支撑件，该基板支撑件支撑设置于该内部空间中的基板；供应管，该供应管包括透明材料，该透明材料被构造为引导清洁流体至该基板支撑件；兆声波功率产生器，该兆声波功率产生器耦接至该供应管以提供兆声波功率至该清洁流体；兆声波转换器，该兆声波转换器耦接至该兆声波功率产生器及该供应管以在该清洁流体中产生兆声波波动及在该清洁流体中形成腔体，其中该兆声波转换器被构造为引导该兆声波波动及腔体朝向该基板支撑件；及一个或多个传感器，该一个或多个传感器被构造为产生信号...
【技术保护点】
1.一种兆声波清洁腔室，包括：
2.如权利要求1所述的兆声波清洁腔室，进一步包括设置于所述内部空间中的激光源，且其中所述一个或多个传感器为沿着所述供应管的垂直位置设置的多个传感器且被构造为感测来自所述激光源的激光束，且其中所述腔体的所述特性包括基于测量的所述激光束的衍射来确定的所述腔体的尺寸。
3.如权利要求2所述的兆声波清洁腔室，其中绕着所述供应管沿着多个径向位置来设置所述多个传感器。
4.如权利要求1所述的兆声波清洁腔室，进一步包括指向所述供应管的光源，且其中所述一个或多个传感器为高速摄影传感器，所述高速摄影传感器被构造为捕捉由...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种兆声波清洁腔室，包括：
2.如权利要求1所述的兆声波清洁腔室，进一步包括设置于所述内部空间中的激光源，且其中所述一个或多个传感器为沿着所述供应管的垂直位置设置的多个传感器且被构造为感测来自所述激光源的激光束，且其中所述腔体的所述特性包括基于测量的所述激光束的衍射来确定的所述腔体的尺寸。
3.如权利要求2所述的兆声波清洁腔室，其中绕着所述供应管沿着多个径向位置来设置所述多个传感器。
4.如权利要求1所述的兆声波清洁腔室，进一步包括指向所述供应管的光源，且其中所述一个或多个传感器为高速摄影传感器，所述高速摄影传感器被构造为捕捉由所述光源照明的所述腔体的图像，以确定所述腔体的特性。
5.如权利要求1所述的兆声波清洁腔室，其中所述一个或多个传感器设置于光学发射光谱仪中，所述光学发射光谱仪被构造为确定由于所述清洁流体中的所述腔体发射的光学发射频谱(oes)。
6.如权利要求1至5的任一项所述的兆声波清洁腔室，其中所述基板支撑件耦接至电机，所述电机被构造为旋转所述基板支撑件。
7.如权利要求1至5的任一项所述的兆声波清洁腔室，其中所述供应管由石英制成。
8.如权利要求1至5的任一项所述的兆声波清洁腔室，其中所述供应管及所述一个或多个传感器被构造为遍及所述基板支撑件平移。
9.如权利要求1至5的任一项所述的兆声波清洁腔室，进一步包括控制器，所述控制器被构造为使用所述一个或多个传感器以确定所述清洁流体中的所述腔体的所述特性。
10.一种在兆声波清洁腔室中清洁基板的方法，包括以下步骤：
<...【专利技术属性】
技术研发人员：吴半秋，哈立德·马哈姆雷，埃利亚胡·什洛莫·达甘，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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