System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉制造技术_技高网

一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉制造技术

技术编号:41391472 阅读:10 留言:0更新日期:2024-05-20 19:13
一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉,包括硅晶炉本体,硅晶炉本体的热结构材料为C/C复合材料,C/C复合材料的表面设有材质为硅酸锆的耐硅元素腐蚀涂层,该耐硅元素腐蚀涂层通过以下方式制备:将C/C复合材料放入喷砂机中,以砂粒为碳化硅颗粒、氧化铝颗粒、石英砂中的任意一种对C/C复合材料表面进行喷砂处理;选取硅酸锆为造粒团聚体,在C/C复合材料的表面采用大气等离子喷涂,形成耐硅元素腐蚀涂层。本发明专利技术的硅晶炉,其中作为热结构材料的C/C复合材料的表面设有材质为硅酸锆的耐硅元素腐蚀涂层,使得具有良好的防硅腐蚀、防二氧化硅腐蚀和防一氧化硅腐蚀的效果,避免了热结构材料在高温条件下发生硅化反应而影响热场的稳定性,提高了硅晶炉的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无机非金属基复合材料,具体涉及一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉


技术介绍

1、硅电池占市场的主导地位,单晶硅和多晶硅是其光电转化的物质基础。在晶硅的制备过程中,c/c复合材料因其高强度、低热膨胀系数、耐冲击、高模量、耐腐蚀等优良特点,成为晶硅炉(又称单晶硅炉)热场中的理想结构材料。在晶硅材料的实际生产过程中,由于温度较高,用来盛放硅料的石英坩埚以及熔化的硅料均会挥发产生大量的sio2和si蒸汽,这些气体与碳基的热场材料接触时容易硅化反应而产生腐蚀,这种腐蚀会对材料造成严重的损害,从而影响热场的稳定性,同时对晶硅炉设备造成安全隐患。

2、碳和硅之间在超过1150℃时便存在化学反应,单晶硅的生产温度在1450℃以上,在此条件下二者反应生成碳化硅的吉布斯自由能大约为-61kj,这意味着熔融硅液滴或硅蒸汽接触到碳素热场材料将即刻发生反应。其中,反应的化学方程式为:

3、c(s)+si(g)→sic(s)。

4、在这一环境条件下,sio2蒸汽与c/c埚帮发生反应,反应的化学方程式为:

5、3c(s)+sio2(g)→sic(s)+2co(s)

6、c(s)+sio2(g)→sio(g)+co(g)

7、其中生成的sio蒸汽也会黏附在热场材料表面,并且也会和碳素热场材料发生反应。反应的化学方程式为:

8、3c(s)+sio(g)→sic(s)+2co(s)。


技术实现思路

1、基于此,本专利技术提供了一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉,以解决现有技术的硅晶炉在高温条件下生产晶硅材料时,其碳基热场材料会因硅化反应而产生腐蚀的技术问题。

2、为实现上述目的,本专利技术提供了一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉,包括硅晶炉本体,所述硅晶炉本体的热结构材料为c/c复合材料,其特征在于,所述c/c复合材料的表面设有材质为硅酸锆的耐硅元素腐蚀涂层,该耐硅元素腐蚀涂层在c/c复合材料的表面通过以下方式制备:

3、将c/c复合材料放入喷砂机中,选取碳化硅颗粒、氧化铝颗粒、石英砂中的任意一种砂粒对c/c复合材料表面进行喷砂处理;然后选取造粒尺寸为400目~600目的硅酸锆为造粒团聚体,在c/c复合材料的表面采用大气等离子喷涂,以在c/c复合材料的表面形成耐硅元素腐蚀涂层。

4、作为本专利技术的进一步优选技术方案,所述耐硅元素腐蚀涂层的厚度为10-100um。

5、作为本专利技术的进一步优选技术方案,所述c/c复合材料的密度为1.4g/cm3~1.6g/cm3。

6、作为本专利技术的进一步优选技术方案,将c/c复合材料放入喷砂机之前还包括:

7、将切割好的c/c复合材料放入超声波清洗机中进行超声清洗,然后放入烘箱中烘干。

8、作为本专利技术的进一步优选技术方案,所述超声清洗的试剂为酒精、丙酮、水的任意一种;所述超声清洗的时间为5~20min;所述烘箱中的烘干时间为6h~18h。

9、作为本专利技术的进一步优选技术方案,喷砂处理所用砂粒的粒径为50目~80目;喷砂时间为3s~8s。

10、作为本专利技术的进一步优选技术方案,在大气等离子喷涂过程,所用电流为300a~450a,所用电压为75v~90v,所用氩气流量为30l/min~45l/min,所用氢气流量为5l/min~8l/min,所用喷枪与c/c复合材料的距离为10cm~15cm。

11、作为本专利技术的进一步优选技术方案,采用大气等离子喷涂的次数为1次,喷涂时间2s。

12、本专利技术的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,通过采用上述技术方案,可以达到如下有益效果:

13、1)本专利技术的硅晶炉,其中作为热结构材料的c/c复合材料的表面设有材质为硅酸锆的耐硅元素腐蚀涂层,使得其具有良好的防硅腐蚀、防二氧化硅腐蚀和防一氧化硅腐蚀的效果,避免了热结构材料在高温条件下发生硅化反应而影响热场的稳定性,从而提高了硅晶炉的使用寿命;

14、2)本专利技术采用大气等离子喷涂法制备c/c表面的耐硅元素腐蚀涂层,工艺流程高效快捷、工艺可行性高,喷涂工艺参数可定量控制,工艺稳定,涂层重现性好,涂层质量高;

15、3)本专利技术的耐硅元素腐蚀涂层均匀、致密、连续,且防硅元素腐蚀性能优异,可显著提高c/c复合材料抗硅元素腐蚀性能;

16、4)本专利技术的耐硅元素腐蚀涂层所采用的硅酸锆为常见的化工原料,原材料廉价易得,成本低。

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【技术保护点】

1.一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉,包括硅晶炉本体,所述硅晶炉本体的热结构材料为C/C复合材料,其特征在于,所述C/C复合材料的表面设有材质为硅酸锆的耐硅元素腐蚀涂层,该耐硅元素腐蚀涂层在C/C复合材料的表面通过以下方式制备:

2.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,所述耐硅元素腐蚀涂层的厚度为10-100um。

3.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,所述C/C复合材料的密度为1.4g/cm3~1.6g/cm3。

4.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,将C/C复合材料放入喷砂机之前还包括:

5.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,所述超声清洗的试剂为酒精、丙酮、水的任意一种;所述超声清洗的时间为5~20min;所述烘箱中的烘干时间为6h~18h。

6.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,喷砂处理所用砂粒的粒径为50目~80目;喷砂时间为3s~8s。

7.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,在大气等离子喷涂过程,所用电流为300A~450A,所用电压为75V~90V,所用氩气流量为30L/min~45L/min,所用氢气流量为5L/min~8L/min,所用喷枪与C/C复合材料的距离为10cm~15cm。

8.根据权利要求1至7任一项所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,采用大气等离子喷涂的次数为1次,喷涂时间2s。

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【技术特征摘要】

1.一种耐硅元素腐蚀的硅晶炉,包括硅晶炉本体,所述硅晶炉本体的热结构材料为c/c复合材料,其特征在于,所述c/c复合材料的表面设有材质为硅酸锆的耐硅元素腐蚀涂层,该耐硅元素腐蚀涂层在c/c复合材料的表面通过以下方式制备:

2.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,所述耐硅元素腐蚀涂层的厚度为10-100um。

3.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,所述c/c复合材料的密度为1.4g/cm3~1.6g/cm3。

4.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,将c/c复合材料放入喷砂机之前还包括:

5.根据权利要求1所述的耐硅元素腐蚀的硅晶炉,其特征在于,所述超声...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨会永于海江黄军同王连毅罗瑞盈陈智李伟王麓焱王德腾
申请(专利权)人:南昌航空大学
类型:发明
国别省市:

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