System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 电子设备、壳体及其制备方法技术_技高网

电子设备、壳体及其制备方法技术

技术编号:41391090 阅读:5 留言:0更新日期:2024-05-20 19:13
本申请提供了一种电子设备、壳体及其制备方法;该壳体的制备方法包括:在基材表面形成第一底漆层;在所述第一底漆层上形成NCVM层;在所述NCVM层上形成面漆层;通过激光镭雕的方式在所述面漆层上形成镂空区,以露出底部的NCVM层。本申请实施例提供的壳体的制备方法,通过激光镭雕的方式在面漆层上形成镂空区,以露出底部的光学效果层,在不拆件的基础上可以在壳体的外观面做出装饰图案的外观效果,可以提升产品外观表现力和竞争力。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及电子设备外观件的,具体是涉及一种电子设备、壳体及其制备方法


技术介绍

1、在目前耳机、手机、平板电脑等电子产品行业中,为了提升产品的外观表现力,有些高端项目会外壳上加一些高亮装饰件结构,现有的方案一般以拆件的方式展开,譬如在壳体外周组装一个不锈钢+pvd的钢圈,以达到此外观效果。

2、上述方案主要存在以下问题:其一是增加结构设计难度:在电子设备有限的结构空间内如要再加上一个件,结构设计难度很大,且装配的方式需采用点胶工艺,操作起来难度很大;另外就是增加制造成本:增加一个结构件,结构件需要额外的物料成本以及点胶工艺成本,进而降低了产品的价格竞争力。


技术实现思路

1、本申请实施例第一方面提供了一种壳体的制备方法,所述制备方法包括:

2、在基材表面形成第一底漆层;

3、在所述第一底漆层上形成ncvm层;

4、在所述ncvm层上形成面漆层;

5、通过激光镭雕的方式在所述面漆层上形成镂空区,以露出底部的ncvm层。

6、第二方面,本申请实施例提供一种壳体,所述壳体包括基材、第一底漆层、ncvm层以及面漆层;所述第一底漆层形成于所述基材的表面,所述ncvm层形成于所述第一底漆层上,所述面漆层形成于所述ncvm层上;所述面漆层上设有镂空区,所述镂空区露出底部的ncvm层。

7、第三方面,本申请实施例提供一种壳体,所述壳体包括基材、第一底漆层、ncvm层、中漆层以及面漆层;所述第一底漆层形成于所述基材的表面,所述ncvm层形成于所述第一底漆层上,所述中漆层形成于所述ncvm层上,所述面漆层形成于所述中漆层上;所述面漆层上设有镂空区,所述镂空区露出底部的中漆层;所述中漆层呈渐变色。

8、另外,本申请实施例又提供一种电子设备,所述电子设备包括功能器件以及上述实施例中所述的壳体,所述功能器件设于所述壳体内。

9、本申请实施例提供的壳体的制备方法,通过激光镭雕的方式在面漆层上形成镂空区,以露出底部的光学效果层,在不拆件的基础上可以在壳体的外观面做出装饰图案的外观效果,可以提升产品外观表现力和竞争力。

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【技术保护点】

1.一种壳体的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法在形成面漆层的步骤之前还包括:在所述NCVM层上形成中漆层;其中,所述面漆层形成在所述中漆层上;所述激光镭雕的步骤中,去除所述面漆层的楼空区部分,以露出底部的中漆层。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述中漆层呈渐变色。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法在形成面漆层的步骤之前还包括:在所述NCVM层上形成保护漆层;所述面漆层形成在所述保护漆层上,所述镂空区贯穿所述面漆层以及所述保护漆层。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法在形成面漆层的步骤之前还包括:在所述保护漆层上形成第二底漆层;所述面漆层形成在所述第二底漆层上,所述镂空区贯穿所述面漆层、所述第二底漆层以及所述保护漆层。

6.一种壳体,其特征在于,所述壳体包括基材、第一底漆层、NCVM层以及面漆层;所述第一底漆层形成于所述基材的表面,所述NCVM层形成于所述第一底漆层上,所述面漆层形成于所述NCVM层上;所述面漆层上设有镂空区,所述镂空区露出底部的NCVM层。

7.根据权利要求6所述的壳体,其特征在于,所述壳体还包括设于所述NCVM层和所述面漆层之间的保护漆层,所述镂空区贯穿所述面漆层以及所述保护漆层。

8.根据权利要求7所述的壳体,其特征在于,所述壳体还包括设于所述保护漆层和所述面漆层之间的第二底漆层,所述镂空区贯穿所述面漆层、所述第二底漆层以及所述保护漆层。

9.一种壳体,其特征在于,所述壳体包括基材、第一底漆层、NCVM层、中漆层以及面漆层;所述第一底漆层形成于所述基材的表面,所述NCVM层形成于所述第一底漆层上,所述中漆层形成于所述NCVM层上,所述面漆层形成于所述中漆层上;所述面漆层上设有镂空区,所述镂空区露出底部的中漆层;所述中漆层呈渐变色。

10.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括功能器件以及权利要求6-9任一项所述的壳体,所述功能器件设于所述壳体内。

...

【技术特征摘要】

1.一种壳体的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法在形成面漆层的步骤之前还包括:在所述ncvm层上形成中漆层;其中,所述面漆层形成在所述中漆层上;所述激光镭雕的步骤中,去除所述面漆层的楼空区部分,以露出底部的中漆层。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述中漆层呈渐变色。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法在形成面漆层的步骤之前还包括:在所述ncvm层上形成保护漆层;所述面漆层形成在所述保护漆层上,所述镂空区贯穿所述面漆层以及所述保护漆层。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法在形成面漆层的步骤之前还包括:在所述保护漆层上形成第二底漆层;所述面漆层形成在所述第二底漆层上,所述镂空区贯穿所述面漆层、所述第二底漆层以及所述保护漆层。

6.一种壳体,其特征在于,所述壳体包括基材、第一底漆层、ncvm层以及面漆层;所述第一底漆层形成于所...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨正云
申请(专利权)人:深圳市万普拉斯科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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