【技术实现步骤摘要】
本技术涉及纳米晶生产除尘，具体为一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置。
技术介绍
1、纳米晶是指利用高能聚合球体，把水中钙、镁离子、碳酸氢根等打包产生不溶于水的纳米级晶体，从而使水不生垢达到软化的目的。
2、现有技术中，纳米晶在生产后会利用打磨装置对纳米晶表面进行打磨使其去掉表面毛刺，提高产品的整体质量。
3、但是，传统的打磨装置表面缺少除尘设备，当长时间对纳米晶进行打磨后，加工台表面会不断的堆积打磨的废屑，这样长时间不仅会造成打磨台表面废屑堆积较多还会使纳米晶摆放不方便，而且废屑也会影响加工设备的环境较为不方便，为此，本技术提出一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置来解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置，包括加工台，所述加工台表面开设有通孔，加工台底部设置有定位板，定位板表面开设有滑槽，滑槽内设置有移动...
【技术保护点】
1.一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置，包括加工台（1），其特征在于：所述加工台（1）表面开设有通孔（2），加工台（1）底部设置有定位板（3），定位板（3）表面开设有滑槽（4），滑槽（4）内设置有移动板（5），移动板（5）侧面设置有收纳盒（6）；
2.根据权利要求1所述的一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置，其特征在于：所述定位板（3）固定连接在加工台（1）的底部，定位板（3）设置有两组，两组定位板（3）关于通孔（2）对称分布，定位板（3）表面开设的滑槽（4）呈“T”型板状结构，滑槽（4）表面长边长度小于定位板（3）表面的长边长度。
3.根据权利要求...
【技术特征摘要】
1.一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置，包括加工台（1），其特征在于：所述加工台（1）表面开设有通孔（2），加工台（1）底部设置有定位板（3），定位板（3）表面开设有滑槽（4），滑槽（4）内设置有移动板（5），移动板（5）侧面设置有收纳盒（6）；
2.根据权利要求1所述的一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置，其特征在于：所述定位板（3）固定连接在加工台（1）的底部，定位板（3）设置有两组，两组定位板（3）关于通孔（2）对称分布，定位板（3）表面开设的滑槽（4）呈“t”型板状结构，滑槽（4）表面长边长度小于定位板（3）表面的长边长度。
3.根据权利要求2所述的一种用于纳米晶生产的除尘打磨装置，其特征在于：所述移动板（5）可在滑槽（4）内进行位移，收纳盒（6）对准通孔（2）的正下方。
【专利技术属性】
技术研发人员：王宜亮，
申请(专利权)人：山东电航电力设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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