一种偏光片用粘结剂、制备方法及应用其的偏光片技术

技术编号:41369968 阅读:31 留言:0更新日期:2024-05-20 10:16
本发明专利技术涉及一种偏光片用粘结剂、制备方法及应用其的偏光片,该粘结剂中含有可增加粘结力的纳米二氧化硅以及良好消泡作用的有机硅类化合物,应用于偏光片时,不仅可以增加各膜层之间的粘结力,还可以消除贴合过程中产生的气泡,提升偏光片的偏光性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于偏光片,尤其涉及一种偏光片用粘结剂、制备方法及应用其的偏光片


技术介绍

1、偏光片是lcd中关键的原材料之一,可以通过控制特定光束的偏振方向,用于对液晶光学的补偿。偏光片的主要结构由上保护薄膜、pva膜、下保护薄膜组成,各组成薄膜之间由粘结剂进行粘结。现有技术中的粘结剂在配制或涂布过程中受到震荡易出现气泡,这种粘结剂在贴合过程中会因为气泡难以消除,而在偏光片中形成固定的聚集泡,不仅影响偏光片的外观,还影响偏光片的粘结性、偏光性等性能。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于解决偏光片制备过程中容易出现气泡的技术问题,提高偏光片各膜层之间的粘结性及偏光性能。

2、为实现上述目的,本申请提供了一种偏光片用粘结剂,包含如下重量份的组分:聚乙烯醇3份~8份,纳米二氧化硅2份~4份,有机硅类化合物1份~2份,纯水85份~95份。

3、作为本申请进一步的改进,所述纳米二氧化硅的粒径尺寸范围为5nm~100nm,优选为5nm~50nm。

4、作为本申请进一步的改进,所述有本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种偏光片用粘结剂,其特征在于,包含如下重量份的组分:

2.根据权利要求1所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,所述纳米二氧化硅的粒径尺寸范围为5nm~100nm,优选为5~50nm。

3.根据权利要求1所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,所述有机硅类化合物为无改性有机硅类化合物、聚醚改性有机硅类化合物以及环氧改性有机硅类化合物的一种或多种。

4.根据权利要求1或2所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,所述纳米二氧化硅是通过如下步骤制备而成的:

5.根据权利要求4所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,以质量百分比计,所述氯化钠溶液的浓度为1%~10%...

【技术特征摘要】

1.一种偏光片用粘结剂,其特征在于,包含如下重量份的组分:

2.根据权利要求1所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,所述纳米二氧化硅的粒径尺寸范围为5nm~100nm,优选为5~50nm。

3.根据权利要求1所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,所述有机硅类化合物为无改性有机硅类化合物、聚醚改性有机硅类化合物以及环氧改性有机硅类化合物的一种或多种。

4.根据权利要求1或2所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,所述纳米二氧化硅是通过如下步骤制备而成的:

5.根据权利要求4所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,以质量百分比计,所述氯化钠溶液的浓度为1%~10%,所述硅酸溶液的浓度为5%~15%。

6.根据权利要求5所述的偏光片用粘结剂,其特征在于,所述氯化钠溶液与硅酸钠溶液的体积混合比例为0.1~2,优选为0.1~1。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:涂福艳王梦杰张良宝严兵华黄源
申请(专利权)人:福州恒美光电材料有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1