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用于脱氢和其他反应的多孔金属氧化物催化剂的预处理制造技术

技术编号:41356389 阅读:23 留言:0更新日期:2024-05-20 10:07
披露了活化和/或再活化包含多孔金属氧化物(MOx)催化剂的催化剂组合物的方法。还披露了使用通过此种方法活化和/或再活化的包含多孔金属氧化物催化剂的催化剂组合物催化反应的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种活化和/或再活化包含多孔金属氧化物(MOx)催化剂的催化剂组合物的方法,其中:

2.一种活化和/或再活化包含多孔金属氧化物(MOx)催化剂的催化剂组合物的方法,其中:

3.一种活化和/或再活化包含多孔金属氧化物(MOx)催化剂的催化剂组合物的方法,其中:

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂具有有M-O位点的表面,该位点是路易斯型并且具有平衡的酸碱强度。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂的表面稳定在形成和断裂C-H键的异裂过程的过渡态下形成的阴离子和/或阳离子部...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种活化和/或再活化包含多孔金属氧化物(mox)催化剂的催化剂组合物的方法,其中:

2.一种活化和/或再活化包含多孔金属氧化物(mox)催化剂的催化剂组合物的方法,其中:

3.一种活化和/或再活化包含多孔金属氧化物(mox)催化剂的催化剂组合物的方法,其中:

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂具有有m-o位点的表面,该位点是路易斯型并且具有平衡的酸碱强度。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂的表面稳定在形成和断裂c-h键的异裂过程的过渡态下形成的阴离子和/或阳离子部分。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂的金属(m)在典型的加氢-脱氢催化的还原性环境中不会被还原至较低的氧化态。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂包括zro2、y2o3、ceo2、和coo中的至少一种。

8.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂选自y、ce、和ti的氧化物、及其混合氧化物。

9.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂包括在zro2上的y、nb、b、ga、co、和mo中的一种或多种。

10.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中:

11.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中,该多孔金属氧化物催化剂包括zro2、y-稳定的zro2、或y2o3。

12.根据权利要求1-5或8-11中任一项所述的方法,其中,该表面清洁试剂选自二甲醚、丙烯、甲醇、叔丁醇、甲基叔丁基醚、二叔丁基醚、苯甲醚、碳酸二甲酯、及其组合。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,该表面清洁试剂是二甲醚。

14.根据权利要求12所述的方法,其中,该表面清洁试剂是丙烯。

15.根据权利要求12所述的方法,其中,该表面清洁试剂是甲醇。

16.根据权利要求1-15中任一项所述的方法,其中,预处理在最高达900k的温度下进行。

17.根据权利要求1-15中任一项所述的方法,其中,该预处理在最高达873k的温度下进行。

18.根据权利要求1-15中任一项所述的方法,其中,该预处理在最高达823k的温度下进行。

19.根据权利要求1-15中任一项所述的方法,其中,该预处理在最高达723k的温度下进行。

20.根据权利要求1-15中任一项所述的方法,其中,该预处理在323k与900k之间的温度下进行。

21.根据权利要求1-15中任一项所述的方法,其中,该预处理在323k与873k之间的温度下进行。

22.根据权利要求1-15中任一项所述的方法,其中,该预处理在323k与823k之间的温度下进行。

23.根据权利要求1-15中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:J·C·德拉莫特C·利赞达拉普约C·J·凯恩博格曼E·伊格莱西亚J·上官
申请(专利权)人:巴斯夫公司
类型:发明
国别省市:

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