一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法技术

本发明专利技术公开了一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，在一次测量过程中，利用每组采集数据中的标准块数据段拟合出机床的倾斜角度，有效的消除了每组数据中机床旋转时产生的倾覆误差，以消除了倾覆误差的标准块数据段为参考，将每组面形高度数据进行平移，有效的消除了抛光盘跳动误差，相较于采用气浮转台、液体静压转台等高精度转台，该设计成本较低；本发明专利技术利用两组夹角不为45°倍数的抛光垫面形数据，有效地识别出抛光垫正交网格沟槽结构，测量分析耗时短、效率高，相较于用一条半径数据代替整盘面形的数据处理方法，本发明专利技术测量得到了抛光垫正交沟槽结构，在分析工件接触压力分布时拥有更精确的抛光垫面形。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及测量，特别是一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法。

技术介绍

1、随着现代科技的进步与发展，各种光学系统对光学元件的需求越来越大。化学机械抛光(chemical mechanical polishing，cmp)是获得高表面精度和表面质量光学元件的重要加工工艺。cmp过程去除率分析主要基于preston公式，即mmr＝kpv，其中k是preston系数，可以通过试验标定的方法获得；v是工件和工具的相对运动速度，可以根据工件和工具盘的相对位置和运动速度计算得到；p是工件上的接触压力，主要受抛光载荷、工件形状、抛光垫面形和抛光垫上沟槽网格的影响。因此，抛光垫面形数据和抛光沟槽网格的精确快速测量对抛光过程材料去除率分布以及工件和工具盘面形演化的实时分析至关重要。

2、目前抛光垫的沟槽形状可分为放射状、同心圆状、正交网格状和螺旋状(正对数螺旋状和负对数螺旋状)4种基本类型，从抛光液利用率上看，使用同心圆状沟槽时利用率最高，其次为正交网格状，再次为放射状。这是因为放射状沟槽为抛光液的外流提供了最短的路径，使其在抛光垫的旋转的离心力作用下本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，采用抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量装置进行测量，所述抛光垫(2)为具有正交网格沟槽的抛光垫(2)；

2.根据权利要求1所述一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，其特征在于：所述数据组数M满足2<＝M<9。

3.根据权利要求1所述一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，其特征在于：步骤B2中所述数据采集的数据量计算方法如下：

4.根据权利要求1所述一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，其特征在于：所述标准块(6)为圆形块，直径为100～200mm，平面度高于5μm。

【技术特征摘要】

1.一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，采用抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量装置进行测量，所述抛光垫(2)为具有正交网格沟槽的抛光垫(2)；

2.根据权利要求1所述一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，其特征在于：所述数据组数m满足2<＝m<9。

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【专利技术属性】
技术研发人员：周平，彭智颖，李凯强，侯长余，闫英，
申请(专利权)人：大连理工大学，
类型：发明
国别省市：