一种高光谱纯度的台式化光源制造技术

技术编号:41349446 阅读:20 留言:0更新日期:2024-05-20 10:03
本发明专利技术公开了一种高光谱纯度的台式化光源,涉及特种光源技术领域,包括4μm波长纳秒固体激光、靶物质、真空室和用于对4μm波长纳秒固体激光加热靶物质产生的发光进行聚合的发光收集镜,靶物质和发光收集镜设置于真空室中,4μm波长纳秒固体激光发射的激光照射在靶物质上生成等离子而发光;该台式化光源使用储能密度高、电能至激光能量的电光转换效率高的4μm波长纳秒固体激光驱动靶物质产生高光谱纯度、高亮度的准单色热辐射光源,发光效率和光谱纯度比过去使用的小于或等于2μm波长的固体激光驱动时显著提高,电能消耗比过去使用二氧化碳气体激光时显著降低、设备体积也明显变小、热负荷也大大减小。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及特种光源,尤其涉及一种高光谱纯度的台式化光源


技术介绍

1、激光驱动的台式化热辐射光源相对于电激励的氙灯、汞灯、卤素灯以及电子束激发的x光管等具有更高的亮度、更长的寿命、更小的发光体积,并且可以覆盖远红外、红外、可见、紫外、极紫外直到软x光的很宽的电磁波段,在众多领域有广泛的应用前景。激光驱动的台式化热辐射光源利用激光加热靶材料生成高温等离子体,通过热电子对原子核外壳层电子的碰撞激发和退激发的热辐射过程来产生发光。得益于台式化激光极高的瞬时功率和很高的平均功率,激光激发等离子体的热辐射光源已在极紫外光刻机(13.5nm波段的极紫外光源)[v.bakshi,euv lithography(b),chap3a.29]和半导体量检测设备(170nm-2500nm白光光源)中得到了应用。

2、不同于半导体量检测设备需要的连续谱白光光源,很多应用需要准单色的光源,例如极紫外光刻使用13.5nm±1%的准单色光,在这些应用中,只有很窄的“带内(in-band)”光谱段才有用,其它“带外(out-band)”光谱除了不能提供有益效果外,还会产本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高光谱纯度的台式化光源,其特征在于,包括4μm波长纳秒固体激光(1)、靶物质(2)、真空室(5)和用于对4μm波长纳秒固体激光(1)加热靶物质产生的发光进行聚合的发光收集镜(3),靶物质(2)和发光收集镜(3)设置于真空室(5)中,4μm波长纳秒固体激光(1)发射的激光照射在靶物质(3)上生成等离子而发光。

2.根据权利要求1所述的高光谱纯度的台式化光源,其特征在于,所述台式化光源还包括预整形靶形态的能量束机构(11),将靶物质(3)预先蒸发为最终电子密度稍低于6个大气压的气态。

3.根据权利要求1所述的高光谱纯度的台式化光源,其特征在于,所述真空室(5)...

【技术特征摘要】

1.一种高光谱纯度的台式化光源,其特征在于,包括4μm波长纳秒固体激光(1)、靶物质(2)、真空室(5)和用于对4μm波长纳秒固体激光(1)加热靶物质产生的发光进行聚合的发光收集镜(3),靶物质(2)和发光收集镜(3)设置于真空室(5)中,4μm波长纳秒固体激光(1)发射的激光照射在靶物质(3)上生成等离子而发光。

2.根据权利要求1所述的高光谱纯度的台式化光源,其特征在于,所述台式化光源还包括预整形靶形态的能量束机构(11),将靶物质(3)预先蒸发为最终电子密度稍低于6个大气压的气态。

3.根据权利要求1所述的高光谱纯度的台式化光源,其特征在于,所述真空室(5)中还设置磁化气体(8),以长时间维持最终电子密度稍低于6个大气压的气态。

【专利技术属性】
技术研发人员:胡广月
申请(专利权)人:中国科学技术大学
类型:发明
国别省市:

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