感光性组合物和基板的加工基板的制造方法技术

本发明专利技术提供模具的凹凸随动性良好，且热处理时的膜厚减少小，可以得到良好形状的抗蚀图案的感光性组合物。在１分子中至少含有０．０１～９９．９９质量％的以下的聚合性单体（Ａ）、０～９８质量％的１官能以上的聚合性单体（Ｂ）（除相当于聚合性单体（Ａ）以外的单体）、０．１～１５质量％的光聚合引发剂的感光性组合物，上述聚合性单体（Ａ）在１分子中具有１种以上的含乙烯性不饱和双键的官能团Ｘ和１种以上的官能团Ｙ，以下述曝光条件进行曝光时，官能团Ｘ的反应率为５０％以上，官能团Ｙ的反应率不足５０％，并且以下述曝光条件进行曝光后，再在２００℃进行３０分钟热处理后，官能团Ｘ和官能团Ｙ的反应率均为８０％以上。曝光条件：将组合物以使干燥膜厚为６μｍ的方式涂覆在基板上，使用高压水银灯对所得涂膜在１００ｍＪ／ｃｍ↑［２］的条件下进行曝光，该组合物中，相对于仅含有１种官能团作为聚合性官能团的聚合性单体１００质量份，添加有５质量份的２，２－二甲氧基－１，２二苯基乙烷－１－酮作为光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于制造形成有抗蚀图案的加工基板的感光性组合 物。进而本专利技术涉及为了制造该基板的制造方法。特别是涉及用于以 光纳米压印法制造形成有抗蚀图案的加工基板的感光性组合物。
技术介绍
纳米压印法是使用形成有凹凸图案的模具原器(一般称为模具(mold)、压模(stamper)、模板(template))对抗蚀剂进行按压， 力学性地使其变形，从而将细微图案精密地转印的技术。由于只要制 作一次模具，就可以简单地重复进行纳米结构的成型，是既经济、有 害的废弃/排出物又少的加工技术，因此近年来期待在各种领域的应 用。对于纳米压印法，提出了使用热塑性树脂作为被加工材料的热纳 米压印(参照S. Chou等.Appl.Phys丄ett.VoI. 67， 114， 3314 (1995)) 和使用光固化型组合物的光纳米压印(M.Colbun等，Proc.SPIE， Vo1.676， 78 (1999))这2种方法。热纳米压印时，通过在加热至玻璃化转变温度以上的高分子树脂 上按压模具，冷却后将模具脱模，从而将细微结构转印于基板上的树 脂。例如，在美国专利第5772905号和美国专利第5956本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性组合物，其是在１分子中至少含有０．０１～９９．９９质量％的以下的聚合性单体（Ａ）、０～９８质量％的１官能以上的聚合性单体（Ｂ）、０．１～１５质量％的光聚合引发剂的感光性组合物，所述聚合性单体（Ｂ）为除相当于聚合性单体（Ａ）以外的单体，　所述聚合性单体（Ａ）在１分子中具有１种以上的含乙烯性不饱和双键的官能团Ｘ和１种以上的官能团Ｙ，以下述曝光条件进行曝光时，官能团Ｘ的反应率为５０％以上，官能团Ｙ的反应率不足５０％，并且以下述曝光条件进行曝光后，再在２００℃进行３０分钟 热处理后，官能团Ｘ和官能团Ｙ的反应率均为８０％以上，　曝光条件：将组合物以使干燥膜厚为６μｍ的方式涂覆在基板上，使用高...

【技术特征摘要】
JP 2008-9-11 2008-233545;JP 2009-2-12 2009-0303331.一种感光性组合物，其是在1分子中至少含有0.01～99.99质量％的以下的聚合性单体(A)、0～98质量％的1官能以上的聚合性单体(B)、0.1～15质量％的光聚合引发剂的感光性组合物，所述聚合性单体(B)为除相当于聚合性单体(A)以外的单体，所述聚合性单体(A)在1分子中具有1种以上的含乙烯性不饱和双键的官能团X和1种以上的官能团Y，以下述曝光条件进行曝光时，官能团X的反应率为50％以上，官能团Y的反应率不足50％，并且以下述曝光条件进行曝光后，再在200℃进行30分钟热处理后，官能团X和官能团Y的反应率均为80％以上，曝光条件将组合物以使干燥膜厚为6μm的方式涂覆在基板上，使用高压水银灯对所得涂膜在100mJ/cm2的条件下进行曝光，所述组合物中，相对于仅含有1种官能团作为聚合性官能团的聚合性单体100质量份，添加有5质量份的2，2-二甲氧基-1，2二苯基乙烷-1-酮作为光聚合引发剂。2. 根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，所述官能团Y具 有乙烯性不饱和双键。3. 根据权利要求l所述的感光性组合物，其特征在于，聚合性单体(A) 的含量为10 99质量。Z。4. 根据权利要求l所述的感光性组合物，其特征在于，聚合性单体(B) 的含量为70质量％以下。5. 根据权利要求l所述的感光性组合物，其特征在于，所述官能团Y 的个数为1...

【专利技术属性】
技术研发人员：畠山晶，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]