【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及氯硅烷液的收纳容器及该收纳容器用封闭盖。本申请针对在2008年8月13日申请的日本国专利申请第 2008-208320号主张优先权,并在此引用其内容。
技术介绍
三氯硅烷、四氯硅烷等的氯硅烷类用于多晶硅和硅片的外延膜等 的半导体、光纤的原材料等。通常,在制造工场内将氯硅烷类填充在 容器或气瓶中,将其搬运至半导体和光纤等的制造工场来使用。这些 氯硅烷类如果与空气等中包含的水分反应,则产生腐蚀性气体和二氧 化硅。该腐蚀性气体和二氧化硅产生腐蚀设备且招致品质的恶化、配 管的堵塞等问题,因而要求容器内的氯硅烷类不与空气和水接触。作为使空气不与容器内的氯硅烷接触的提案, 一直以来,采用例 如日本特开平5-231598号公报和特开2008-116044号公报所记载的封 闭构造。在特开平5-231598号公报的气体填充容器中,为了防止松开阀时 漏出的硅烷气体在空气中自燃起火、污染金属口部、腐蚀金属口部和 气体供给系,设置将金属口部气密地封闭的帽,并且,在该帽内设有 吸附水分和氧的吸附剂和吸附硅烷气体的吸附剂。在特开平5-231598 号公报中记载了由该吸附剂将金 ...
【技术保护点】
一种氯硅烷液的收纳容器,其具有收纳所述氯硅烷液的箱、安装在所述箱上并且外部的配管可装卸地连接到其上的阀、以及在所述外部的配管从所述阀脱离时密封所述阀的封闭盖,其中, 所述阀具有壳以及设在所述壳中的阀体,所述壳具有连接法兰,所述连接法兰 具有用于连接所述外部的配管的连接面, 所述封闭盖具备:具有与所述连接法兰的所述连接面相接的封闭面的盖体、用于将惰性气体供给至所述封闭盖和所述阀体之间的所述壳内的空间中的供给管、开闭所述供给管的供给阀、从所述空间排出气体的排气管和开闭所 述排气管的排气阀。
【技术特征摘要】
JP 2008-8-13 2008-2083201.一种氯硅烷液的收纳容器,其具有收纳所述氯硅烷液的箱、安装在所述箱上并且外部的配管可装卸地连接到其上的阀、以及在所述外部的配管从所述阀脱离时密封所述阀的封闭盖,其中,所述阀具有壳以及设在所述壳中的阀体,所述壳具有连接法兰,所述连接法兰具有用于连接所述外部的配管的连接面,所述封闭盖具备具有与所述连接法兰的所述连接面相接的封闭面的盖体、用于将惰性气体供给至所述封闭盖和所述阀体之间的所述壳内的空间中的供给管、开闭所述供给管的供给阀、从所述空间排出气体的排气管和开闭所述排气管的排气阀。2. 权...
【专利技术属性】
技术研发人员:佐佐木刚,伊藤孝则,
申请(专利权)人:三菱麻铁里亚尔株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[]
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