【技术实现步骤摘要】
本技术是有关于一种集成电路。
技术介绍
1、集成电路(integrated circuit,ic)微型化的近期趋势已使得出现消耗较少电力但以更高速度提供更多功能性的较小的装置。微型化过程亦已使得出现更严格的设计及制造规范以及可靠性挑战。各种电子设计自动化(electronic design automation,eda)工具在确保满足标准胞元布局设计及制造规范的同时产生、优化及验证集成电路的标准胞元布局设计。
技术实现思路
1、本技术实施例提供一种集成电路。所述集成电路包括:第一类型主动区结构及第二类型主动区结构,在第一方向上延伸;第一边界隔离区,位于第一类型主动区结构及第二类型主动区结构中的每一者中;以及第二边界隔离区,位于第一类型主动区结构及第二类型主动区结构中的每一者中。第一类型主动区结构中的第一边界隔离区及第二类型主动区结构中的第一边界隔离区标示第一垂直胞元边界,所述第一垂直胞元边界与第一类型主动区结构中的第一边界隔离区及第二类型主动区结构中的第一边界隔离区中的每一者相交且沿与第一方向垂直的第二方向延伸。第一类型主动区结构中的第二边界隔离区及第二类型主动区结构中的第二边界隔离区标示第二垂直胞元边界,所述第二垂直胞元边界与第一类型主动区结构中的第二边界隔离区及第二类型主动区结构中的第二边界隔离区中的每一者相交且沿第二方向延伸。所述集成电路更包括:第一电源轨条及第二电源轨条,在第一方向上延伸;第一电网短截线,通过由第一通孔连接件而连接至第一电源轨条;以及第一垂直导线,在电路胞元
2、本技术实施例提供一种集成电路。所述集成电路包括:第一类型主动区结构及第二类型主动区结构,在第一方向上延伸;第一边界隔离区,位于第一类型主动区结构及第二类型主动区结构中的每一者中;以及第二边界隔离区,位于第一类型主动区结构及第二类型主动区结构中的每一者中。第一类型主动区结构中的第一边界隔离区及第二类型主动区结构中的第一边界隔离区标示第一垂直胞元边界,所述第一垂直胞元边界与第一类型主动区结构中的第一边界隔离区及第二类型主动区结构中的第一边界隔离区中的每一者相交且沿与第一方向垂直的第二方向延伸。第一类型主动区结构中的第二边界隔离区及第二类型主动区结构中的第二边界隔离区标示第二垂直胞元边界,所述第二垂直胞元边界与第一类型主动区结构中的第二边界隔离区及第二类型主动区结构中的第二边界隔离区中的每一者相交且沿第二方向延伸。所述集成电路更包括:第一电源轨条及第二电源轨条,在第一方向上延伸;第一电网短截线,通过由第一通孔连接件而连接至第一电源轨条;以及第一垂直导线,在电路胞元中在第一垂直胞元边界与第二垂直胞元边界之间在第二方向上延伸。第一垂直导线与第一电网短截线位于同一金属层中且沿第二方向彼此对准。
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1.一种集成电路,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,还包括:
3.根据权利要求2所述的集成电路,其特征在于,还包括:
4.根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,还包括:
5.一种集成电路,其特征在于,包括:
6.根据权利要求5所述的集成电路,其特征在于,还包括:
7.根据权利要求5所述的集成电路,其特征在于,还包括:
8.根据权利要求5所述的集成电路,其特征在于,还包括:
9.根据权利要求8所述的集成电路,其特征在于,还包括:
10.根据权利要求5所述的集成电路,其特征在于,还包括:
【技术特征摘要】
1.一种集成电路,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,还包括:
3.根据权利要求2所述的集成电路,其特征在于,还包括:
4.根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,还包括:
5.一种集成电路,其特征在于,包括:
6.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:黎家豪,陈胜雄,庄惠中,高章瑞,陈向东,王中兴,
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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