【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学机械抛光,尤其涉及一种具有实时测温系统和冷却系统的化学机械抛光装置。
技术介绍
1、化学机械抛光机作为半导体行业原材料生产中常用的工具,尤其在研磨晶圆的生产中应用十分广泛。在化学机械抛光的过程中,其中抛光温度对抛光效果以及材料去除率有着直接的影响,在化学作用和物理摩擦作用下抛光温度逐渐升高,镜片与磨料、抛光垫间的动态压力增大;同时流体液膜会变薄,材料去除率增大,晶圆表面极易产生缺陷、划伤、弹性变形和应力损伤等表面缺陷,影响产品质量和产品合格率。针对化学机械抛光的冷却多采用水路冷却,在抛光盘上安装冷却水路,利用热交换原理将摩擦和化学腐蚀产生的热量带走。
2、如专利号202321278954.x,名称为一种内置冷却盘管的抛光盘,在盘体预埋有用于盛装冷却介质的冷却盘管,冷却盘管呈盘旋状布置;盘体内的冷却盘管有两根,相交错的设置于盘体内,同时这两个冷却盘中的冷却介质流向相板。冷却盘管与盘体的一体化,如果冷却盘管破损或是发生问题,需要更换整个抛光盘。
技术实现思路
1、基于
...【技术保护点】
1.具有实时测温系统的化学机械抛光冷却装置,其特征在于:包括抛光盘、水冷盘、传动轴和传动齿轮;所述的抛光盘与水冷盘通过螺栓相固定;所述的传动轴的一端穿过水冷盘与抛光盘,且分别与两者相固定;传动轴的另一端安装有传动齿轮;传动齿轮上啮合有从动齿轮,从动齿轮通过减速器的各级齿轮将电机输入的电能转化为机械能;
2.根据权利要求1所述的具有实时测温系统的化学机械抛光冷却装置,其特征在于所述的同一圆心的凹槽的深度从水冷盘的中心起以2°的坡度向水路末端变深。
3.根据权利要求1所述的具有实时测温系统的化学机械抛光冷却装置,其特征在于所述的水冷盘和抛光盘上分别
...【技术特征摘要】
1.具有实时测温系统的化学机械抛光冷却装置,其特征在于:包括抛光盘、水冷盘、传动轴和传动齿轮;所述的抛光盘与水冷盘通过螺栓相固定;所述的传动轴的一端穿过水冷盘与抛光盘,且分别与两者相固定;传动轴的另一端安装有传动齿轮;传动齿轮上啮合有从动齿轮,从动齿轮通过减速器的各级齿轮将电机输入的电能转化为机械...
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