【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶圆清洗领域，更具体涉及一种滚动式晶圆清洗设备。
技术介绍
1、晶圆在各个晶圆制程处理过程中，由于与各种有机物、粒子及金属杂质等污染物接触，导致污染物附着在晶圆上，因此需要对晶圆进行清洗。现有针对大批量晶圆的清洗通常采用槽式浸泡的方式，即在清洗槽内注入清洗药液，通过晶圆花篮将大批量的晶圆置入清洗槽内并使晶圆浸没于清洗药液内，经过一段时间的浸泡达到对晶圆进行清洗的效果并最终经经过清洗的晶圆由清洗药液中提出。
2、现有槽式浸泡法通常直接将若干晶圆静置于清洗槽内，由于晶圆处于静止状态，因此清洗液在无外力搅动的状态下同样处于接近静止的状态，而由于清洗液在清洗内不具有流动的条件，导致晶圆存在清洗不彻底的问题。为解决上述晶圆清洗不彻底的问题，现有槽式清洗设备中设计出通过链条传动晶圆旋转的技术方案以提高晶圆清洗效果，但是，上述方案存在晶圆与链条接触面积较大而导致晶圆和链条相互之间发生磨损而使得清洗槽内颗粒污染物增加而影响晶圆清洗效果的问题，甚至发生晶圆碎槽的情况。
3、有鉴于此，有必要对现有技术中的滚动式晶圆清洗设备予以改进，以解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于公开一种滚动式晶圆清洗设备，用以解决现有链条传动晶圆旋转存在的由于晶圆与链条接触面积较大而导致晶圆和链条相互之间发生磨损的而使得清洗槽内颗粒污染物增加而影响晶圆清洗效果的问题，进而有效避免晶圆碎槽的情况发生。
2、为实现上述目的，本技术提供了一种滚动式晶圆清洗设备，包括：清洗槽
3、作为本技术的进一步改进，所述驱动装置包括驱动齿轮和驱动电机，所述驱动电机设置于所述清洗槽本体外侧，所述驱动电机的驱动端穿过所述清洗槽本体的侧壁后与所述驱动齿轮同轴固定；
4、所述传动组件包括第一传动齿轮和第二传动齿轮，所述第一传动齿轮与驱动齿轮以及第二传动齿轮分别啮合，所述第一传动齿轮设于所述第二传动齿轮上方；
5、所述滚动装置包括从动齿轮组和两个转动筒，两个所述转动筒均与所述晶圆提篮内均匀排布的若干晶圆底部接触，两个所述转动筒的轴线均平行于所述清洗槽本体的长度方向设置，所述第二传动齿轮通过传动齿轮组带动两个所述转动筒同向转动。
6、作为本技术的进一步改进，所述清洗槽本体的底壁固接第一支架，所述从动齿轮组包括第一从动齿轮、第二从动齿轮、第三从动齿轮以及第四从动齿轮，所述第三从动齿轮和第四从动齿轮均与第一支架转动连接且分别与两个转动筒同轴固定；
7、所述第一从动齿轮与第二传动齿轮啮合，所述第一从动齿轮居中固定传动轴，所述传动轴穿过所述第一支架后与第二从动齿轮同轴固定，所述第二从动齿轮与第三从动齿轮和第四从动齿轮均啮合。
8、作为本技术的进一步改进，所述清洗槽本体的底壁平行于第一支架设置第二支架，两个所述转动筒远离第三从动齿轮和第四从动齿轮一端均与第二支架转动连接。
9、作为本技术的进一步改进，两个所述转动筒均包括第一筒体和第二筒体，两个所述第一筒体一端分别与第三从动齿轮和第四从动齿轮同轴固定，两个所述第一筒体远离第三从动齿轮和第四从动齿轮一端穿过第二支架后分别连接一第二筒体，所述清洗槽本体的底壁平行于第二支架设置第三支架，两个所述第二筒体远离第二支架一端均与第三支架转动配合；
10、所述清洗槽本体内设置两个晶圆提篮，两个所述第一筒体同时与同一所述晶圆提篮内并列设置的多个晶圆的底部接触，两个所述第二筒体同时于另一所述晶圆提篮内并列设置的多个晶圆的底部接触。
11、作为本技术的进一步改进，所述清洗槽本体包括主槽体以及保护槽，所述主槽体设置于保护槽内部，所述主槽体的底壁向上延伸三个溢流板与所述主槽体的一个槽壁围成溢流腔，三个所述溢流板的顶面均布多个溢流槽，所述晶圆提篮和驱动机构均设置于溢流腔内；
12、所述主槽体的底壁连通进水管和出水管，所述进水管和出水管由所述保护槽的底壁穿出。
13、作为本技术的进一步改进，所述溢流腔内可拆卸连接过滤板，所述过滤板均布若干过滤孔。
14、作为本技术的进一步改进，所述过滤板的顶面垂直固定四个安装架，四个所述安装架分别设置于过滤板靠近四角处，四个所述安装架的顶面分别通过一安装块与保护槽的顶面可拆卸连接，所述第一支架、第二支架以及第三支架均连接于所述过滤板的上表面。
15、作为本技术的进一步改进，所述保护槽上方设置盖体，所述盖体朝向主槽体一侧设置冷凝装置，所述冷凝装置一端穿出盖体并连接进水口。
16、作为本技术的进一步改进，所述冷凝装置由多个平行排布的冷凝管和连通相邻两个第一冷凝管的弧形管构成。
17、与现有技术相比，本技术的有益效果是：首先，通过由驱动装置、传动组件以及滚动装置构成的驱动机构，滚动装置设置于晶圆提篮下方，晶圆提篮置于清洗槽本体内进行浸泡清洗的过程中启动驱动装置后滚动装置随即在传动组件的带动下开始转动，此时晶圆提篮内排布的若干晶圆在滚动组件的带动下随之一同转动，相较于现有技术中通过链条驱使晶圆转动的技术方案，滚动组件具有与晶圆之间具有较小的接触面积的同时带动晶圆转动的效果，使得清洗槽本体内的清洗液具备流动的条件，从而有效提高晶圆清洗效果同时有效避免清洗槽本体内颗粒污染物增加的问题。
18、其次，通过连接于盖体的冷凝装置，且冷凝装置由平行排布的多个冷凝管以及连通两个相邻冷凝管的弧形管构成，在晶圆清洗的过程中通过进水口向冷凝组件中通入降温水，降温水沿蜿蜒形成的多个冷凝管和弧形管流动以对清洗液蒸汽进行降温冷凝，冷凝形成的清洗液滴附着于盖体以及冷凝装置上并最终滴落至主槽体内，从而有效避免清洗液的蒸发损失。
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1.一种滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，包括：清洗槽本体以及驱动机构，所述清洗槽本体内设置不少于一组的晶圆提篮，所述驱动机构包括驱动装置、传动组件以及滚动装置，所述驱动装置连接于所述清洗槽本体一侧，所述滚动装置设置于晶圆提篮下方并与所述晶圆提篮内排布的晶圆底部接触，所述驱动装置通过所述传动组件驱使所述滚动装置以平行于清洗槽本体长度方向的轴线为轴转动从而带动晶圆同步转动。
2.根据权利要求1所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述驱动装置包括驱动齿轮和驱动电机，所述驱动电机设置于所述清洗槽本体外侧，所述驱动电机的驱动端穿过所述清洗槽本体的侧壁后与所述驱动齿轮同轴固定；
3.根据权利要求2所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述清洗槽本体的底壁固接第一支架，所述从动齿轮组包括第一从动齿轮、第二从动齿轮、第三从动齿轮以及第四从动齿轮，所述第三从动齿轮和第四从动齿轮均与第一支架转动连接且分别与两个转动筒同轴固定；
4.根据权利要求3所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述清洗槽本体的底壁平行于第一支架设置第二支架，两个所述转动筒远离第三从动齿轮和
5.根据权利要求4所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，两个所述转动筒均包括第一筒体和第二筒体，两个所述第一筒体一端分别与第三从动齿轮和第四从动齿轮同轴固定，两个所述第一筒体远离第三从动齿轮和第四从动齿轮一端穿过第二支架后分别连接一第二筒体，所述清洗槽本体的底壁平行于第二支架设置第三支架，两个所述第二筒体远离第二支架一端均与第三支架转动配合；
6.根据权利要求4所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述清洗槽本体包括主槽体以及保护槽，所述主槽体设置于保护槽内部，所述主槽体的底壁向上延伸三个溢流板与所述主槽体的一个槽壁围成溢流腔，三个所述溢流板的顶面均布多个溢流槽，所述晶圆提篮和驱动机构均设置于溢流腔内；
7.根据权利要求6所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述溢流腔内可拆卸连接过滤板，所述过滤板均布若干过滤孔。
8.根据权利要求7所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述过滤板的顶面垂直固定四个安装架，四个所述安装架分别设置于过滤板靠近四角处，四个所述安装架的顶面分别通过一安装块与保护槽的顶面可拆卸连接，所述第一支架、第二支架以及第三支架均连接于所述过滤板的上表面。
9.根据权利要求6所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述保护槽上方设置盖体，所述盖体朝向主槽体一侧设置冷凝装置，所述冷凝装置一端穿出盖体并连接进水口。
10.根据权利要求9所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述冷凝装置由多个平行排布的冷凝管和连通相邻两个第一冷凝管的弧形管构成。
...【技术特征摘要】
1.一种滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，包括：清洗槽本体以及驱动机构，所述清洗槽本体内设置不少于一组的晶圆提篮，所述驱动机构包括驱动装置、传动组件以及滚动装置，所述驱动装置连接于所述清洗槽本体一侧，所述滚动装置设置于晶圆提篮下方并与所述晶圆提篮内排布的晶圆底部接触，所述驱动装置通过所述传动组件驱使所述滚动装置以平行于清洗槽本体长度方向的轴线为轴转动从而带动晶圆同步转动。
2.根据权利要求1所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述驱动装置包括驱动齿轮和驱动电机，所述驱动电机设置于所述清洗槽本体外侧，所述驱动电机的驱动端穿过所述清洗槽本体的侧壁后与所述驱动齿轮同轴固定；
3.根据权利要求2所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述清洗槽本体的底壁固接第一支架，所述从动齿轮组包括第一从动齿轮、第二从动齿轮、第三从动齿轮以及第四从动齿轮，所述第三从动齿轮和第四从动齿轮均与第一支架转动连接且分别与两个转动筒同轴固定；
4.根据权利要求3所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，所述清洗槽本体的底壁平行于第一支架设置第二支架，两个所述转动筒远离第三从动齿轮和第四从动齿轮一端均与第二支架转动连接。
5.根据权利要求4所述的滚动式晶圆清洗设备，其特征在于，两个所述转动筒均包括第一筒体和第二筒体，两个所述第一筒体一端分别与第三从动齿轮和第四从动...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾雪平，陈焱，李嘉东，
申请(专利权)人：苏州智程半导体科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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