【技术实现步骤摘要】
本技术涉及青铜器文物修复设备，具体涉及一种修复脆弱青铜器的电容等离子体装置。
技术介绍
1、青铜器经过千年的水土侵蚀，发生腐蚀和病变在所难免。研究表明，“氯化物”是青铜锈的主要病源。因此，如何高效、无损伤地修复被腐蚀的青铜器，去除青铜锈表面的氯离子成为一大研究重点和难题。
2、近年来，等离子体技术在修复青铜器方面得到发展，借助等离子体发生器产生的等离子体粒子撞击被锈蚀的青铜器表面，氧化或还原或刻蚀表面的氯化物，达到原位修复青铜器的目的。其中，射频等离子体技术可产生较高密度的活性等离子体粒子，并在短时间内去除青铜器腐蚀层表面的氯离子，实现对锈蚀青铜器文物的修复。
3、但上述技术产生的等离子体放电区域往往分布不均，使得在修复大体积青铜器的过程中难以把控对锈蚀表面氯离子的均匀去除和修复，特别是在对脆弱青铜器的修复过程中极易造成过度地反应和修复，影响青铜器的修复效果。
4、由此可见，如何实现对脆弱青铜器的锈蚀表面做到均匀修复是亟需解决的问题。
技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题是如何实现对脆弱青铜器的锈蚀表面做到均匀修复。
2、为了解决上述技术问题，本技术提供了一种修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，用于修复脆弱青铜器文物，包括装置本体，其中，所述装置本体内设置有：
3、真空泵；
4、电容等离子体反应器的反应腔室，所述反应腔室的壁表面形成封闭空间，所述反应腔室通过波纹管与所述真空泵连通，所述反应腔室内可容纳并固定待
5、与所述反应腔室连接的调控组件，所述调控组件调节所述反应腔室内等离子体均匀放电所需的功率。
6、进一步的，所述反应腔室与电源连接，通电后所述反应腔室通过电容放电产生高能量等离子体作用在待修复青铜器文物上。
7、进一步的，所述波纹管上设置有角阀。
8、优选的，所述反应腔室是圆柱体真空罐，所述真空罐可满足1–10pa的低气压，所述真空罐的内直径为20cm–40cm，所述真空罐的长度为20cm–40cm。
9、进一步的，所述装置本体为柜体结构，沿所述装置本体纵向从上至下依次设置有：
10、调控层，所述调控层设置有所述电源和所述调控组件；
11、反应层，所述反应层固定有所述真空罐；
12、真空泵层，所述真空泵层设置有所述真空泵。
13、进一步的，所述装置本体表面设置有封板，所述封板包括安装在所述反应层的真空罐封板，所述真空罐封板上开设有封闭的视窗。
14、优选的，所述装置本体底部安装有万向轮。
15、与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
16、本技术提供的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，通过电容放电产生的高能量等离子体，可以快速清除青铜器文物表面的污垢和腐蚀物且在文物表面形成一层保护膜，其中，调控组件可根据等离子体产生的效果进行适当调整，使得产生的等离子体可均匀作用于整个真空罐腔体内部，从而实现对脆弱青铜器的锈蚀表面做到均匀修复。
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1.一种修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，包括装置本体(00)，其中，所述装置本体(00)内设置有：
2.根据权利要求1所述的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，所述波纹管(32)上设置有角阀(321)。
3.根据权利要求1所述的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，所述反应腔室(21)是圆柱体真空罐，所述真空罐可满足1–10Pa的低气压。
4.根据权利要求3所述的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，所述装置本体(00)为柜体结构，沿所述装置本体(00)纵向从上至下依次设置有：
5.根据权利要求4所述的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，所述装置本体(00)表面设置有封板，所述封板包括安装在所述反应层的真空罐封板(01)，所述真空罐封板(01)上开设有封闭的视窗(011)。
6.根据权利要求1所述的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，所述装置本体(00)底部安装有万向轮(02)。
【技术特征摘要】
1.一种修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，包括装置本体(00)，其中，所述装置本体(00)内设置有：
2.根据权利要求1所述的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，所述波纹管(32)上设置有角阀(321)。
3.根据权利要求1所述的修复脆弱青铜器的电容等离子体装置，其特征在于，所述反应腔室(21)是圆柱体真空罐，所述真空罐可满足1–10pa的低气压。
4.根据权利要求3所述的修复脆弱青铜器的电容等...
【专利技术属性】
技术研发人员：李家星，孙福维，王德，
申请(专利权)人：中国科学院合肥物质科学研究院，
类型：新型
国别省市：
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