一种用于Z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置及其应用制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于Z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置及其应用，包括：机械碰撞部，所述机械碰撞部通过碰撞阻扰高、低能量碎屑以及电荷中性碎屑的运动，降低碎屑的射程；气体吹扫部，所述气体吹扫部利用气体分子撞击碎屑并改变其运动轨迹，进行碎屑清除；箔片过滤部，箔片过滤部，所述箔片过滤部进行带外滤光，兼具碎屑过滤作用。本发明专利技术采用多种清除机制，在保证极紫外光带内通量的前提下具有良好的碎屑清除与带外滤光性能，保护Mo/Si多涂层收集镜，以满足Z箍缩放电等离子体源功率与转化效率不断提高、曝光时间不断减少的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体光刻，具体地，涉及一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置及其应用。

技术介绍

1、在半导体光刻
，极紫外光刻技术近年来已取得显著进展，芯片特征尺寸不断减小，但仍面临一些关键挑战，特别是在满足大批量制造的高吞吐量需求方面。其中，极紫外光收集镜的污染问题尤为突出。收集镜负责收集来自光源的极紫外光，并将其反射至后续光学传输链。由于暴露于光源等离子体相，收集镜会受到离子和中性碎屑的影响，这些碎屑由等离子体膨胀产生，并以溅射、植入和沉积的形式降低收集镜的反射率。

2、此外，光源功率的持续增加也是一大挑战。虽然增加源功率利于减少曝光时间，但这一过程不可避免地会产生更多的碎屑。传统商用极紫外光刻系统的碎屑清除方案已无法满足当前需求。因此，亟待开发行之有效的替代方案来解决这一问题。

技术实现思路

1、针对现有技术中的缺陷，本专利技术的目的是提供一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置及其应用。

2、根据本专利技术的一个方面，提供一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于Z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种用于Z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，所述机械碰撞部、气体吹扫部、箔片过滤部按照以下位置设置：

3.根据权利要求1所述的一种用于Z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，所述机械碰撞部为叶片陷，所述叶片陷包括呈环形阵列的多个薄六面体。

4.根据权利要求1所述的一种用于Z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，所述气体吹扫部为高压气泵提供的缓冲气幕。

5.根据权利要求4所述的一种用于Z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特...

【技术特征摘要】

1.一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，所述机械碰撞部、气体吹扫部、箔片过滤部按照以下位置设置：

3.根据权利要求1所述的一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，所述机械碰撞部为叶片陷，所述叶片陷包括呈环形阵列的多个薄六面体。

4.根据权利要求1所述的一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，所述气体吹扫部为高压气泵提供的缓冲气幕。

5.根据权利要求4所述的一种用于z箍缩放电等离子体源的碎屑清除装置，其特征在于，所述缓冲气幕包括氢气、氖气、氦气、氩气的一种或者多种。

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【专利技术属性】
技术研发人员：张建华，郑佳乐，凌晓，辛涵申，李浩源，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：