一种半导体洗净设备烘干装置制造方法及图纸

技术编号:41300426 阅读:4 留言:0更新日期:2024-05-13 14:47
本技术涉及半导体技术领域,公开了一种半导体洗净设备烘干装置,包括烘干箱和临时存储箱,所述烘干箱的底面活动铰接有密封门,烘干箱的左侧面固定连接有控制器,烘干箱的左侧面和临时存储箱的上表面共同固定连通有回流管,临时存储箱的右侧设置有氮气发生器;本技术通过设置有烘干箱、密封门、控制器、氮气发生器、第一电磁阀、临时存储箱、回流管、排气管、第二电磁阀、排气头、氧气传感器、排气扇、送气扇和电热丝的相互配合,烘干箱内能够放置清洗好的半导体,控制器能够控制氮气发生器利用空气制造氮气和第一电磁阀通电连通氮气发生器和临时存储箱,进而在送气扇的加速下氮气发生器能将氮气送入临时存储箱和烘干箱中。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体,具体为一种半导体洗净设备烘干装置


技术介绍

1、半导体,是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明和大功率电源转换等领域都有应用,常见的半导体材料有硅、锗和砷化镓等,在制备半导体元器件过程中,为了提升半导体的性能,常需要对半导体进行洗净并烘干,而有的半导体清洗设备会配备相应的烘干装置,烘干半导体时就会使用到与清洗设备相配置的烘干装置。

2、现有授权申请号cn202123140671.2的技术公开了一种半导体烘干装置,采用上述技术方案,虽然通过在烘干箱的侧壁内设置热气回流腔是为了提高烘干箱的保温性能,已达到节约能源的问题,在烘干过程中,通过进风过滤装置将进入烘干箱内的风进行过滤,避免带有粉尘对半导体造成污染,但是由于本装置使用的热气本身含氧量较高,而在温度较高时半导体容易与氧气发生氧化反应,缺少防止半导体发生氧化的防氧化结构,导致半导体容易在烘干时氧化而影响半导体性能,因此本领域技术人员提供了一种半导体洗净设备烘干装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。


技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术的不足,本技术提供了一种半导体洗净设备烘干装置,具备具备防止半导体在烘干时氧化,进而使半导体不会因氧化而影响半导体性能的优点。

3、(二)技术方案

4、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种半导体洗净设备烘干装置,包括烘干箱和临时存储箱,所述烘干箱的底面活动铰接有密封门,所述烘干箱的左侧面固定连接有控制器,所述烘干箱的左侧面和临时存储箱的上表面共同固定连通有回流管,所述临时存储箱的右侧设置有氮气发生器,所述氮气发生器的输出端与临时存储箱的右端共同固定连通有第一电磁阀,所述烘干箱的左侧面固定连通有排气管,所述排气管的左侧设置有排气头,所述排气头的右端与排气管的左端共同固定连通有第二电磁阀,所述烘干箱的内壁固定连接有氧气传感器,所述排气管的内壁固定连接有排气扇,所述临时存储箱的内壁分别固定连接有两个送气扇和两个电热丝,所述氮气发生器、第一电磁阀、第二电磁阀、氧气传感器、排气扇、两个送气扇和两个电热丝均通过导线与控制器电连接。

5、优选的,所述烘干箱的上表面固定连接有固定杆,所述密封门的上表面固定连接有限位杆。

6、优选的,所述烘干箱的上方设置有限位块,所述限位块的内壁与固定杆的外表面转动连接,所述限位块的内部与限位杆的外表面相卡接。

7、优选的,所述临时存储箱的内部卡接有卡壳,所述卡壳的内部卡接有吸潮块。

8、优选的,所述烘干箱的底面固定连接有两组垫块,每组所述垫块的底面均固定连接有两个防滑垫。

9、优选的,所述密封门的外表面固定连接有密封垫圈,所述密封垫圈的外表面与烘干箱的内壁相接触。

10、(三)有益效果

11、与现有技术相比,本技术提供了一种半导体洗净设备烘干装置,具备以下有益效果:

12、该半导体洗净设备烘干装置,通过设置有烘干箱、密封门、控制器、氮气发生器、第一电磁阀、临时存储箱、回流管、排气管、第二电磁阀、排气头、氧气传感器、排气扇、送气扇和电热丝的相互配合,烘干箱内能够放置清洗好的半导体,控制器能够控制氮气发生器利用空气制造氮气和第一电磁阀通电连通氮气发生器和临时存储箱,进而在送气扇的加速下氮气发生器能将氮气送入临时存储箱和烘干箱中,控制器能够控制第二电磁阀通电连通排气管和排气头以及控制排气扇排空烘干箱内的氧气,氧气传感器能够检测烘干箱内氧气含量,进而在烘干箱内氧气含量极小或者为零时,控制器会控制第二电磁阀断开排气管和排气头的连接,回流管连接烘干箱和临时存储箱能够使氮气在烘干箱和临时存储箱内循环,控制器控制电热丝通电发热能够加热循环的氮气,从而给烘干箱内放置的半导体进行无氧烘干,起到防止烘干箱内烘干半导体时导致半导体氧化的作用,避免因缺少防止半导体发生氧化的防氧化结构,导致半导体容易在烘干时氧化而影响半导体性能的问题。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体洗净设备烘干装置,包括烘干箱(1)和临时存储箱(6),其特征在于:所述烘干箱(1)的底面活动铰接有密封门(2),所述烘干箱(1)的左侧面固定连接有控制器(3),所述烘干箱(1)的左侧面和临时存储箱(6)的上表面共同固定连通有回流管(7),所述临时存储箱(6)的右侧设置有氮气发生器(4),所述氮气发生器(4)的输出端与临时存储箱(6)的右端共同固定连通有第一电磁阀(5),所述烘干箱(1)的左侧面固定连通有排气管(8),所述排气管(8)的左侧设置有排气头(10),所述排气头(10)的右端与排气管(8)的左端共同固定连通有第二电磁阀(9),所述烘干箱(1)的内壁固定连接有氧气传感器(11),所述排气管(8)的内壁固定连接有排气扇(12),所述临时存储箱(6)的内壁分别固定连接有两个送气扇(13)和两个电热丝(14),所述氮气发生器(4)、第一电磁阀(5)、第二电磁阀(9)、氧气传感器(11)、排气扇(12)、两个送气扇(13)和两个电热丝(14)均通过导线与控制器(3)电连接。

2.根据权利要求1所述的一种半导体洗净设备烘干装置,其特征在于:所述烘干箱(1)的上表面固定连接有固定杆(15),所述密封门(2)的上表面固定连接有限位杆(16)。

3.根据权利要求2所述的一种半导体洗净设备烘干装置,其特征在于:所述烘干箱(1)的上方设置有限位块(17),所述限位块(17)的内壁与固定杆(15)的外表面转动连接,所述限位块(17)的内部与限位杆(16)的外表面相卡接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体洗净设备烘干装置,其特征在于:所述临时存储箱(6)的内部卡接有卡壳(18),所述卡壳(18)的内部卡接有吸潮块(19)。

5.根据权利要求1所述的一种半导体洗净设备烘干装置,其特征在于:所述烘干箱(1)的底面固定连接有两组垫块(20),每组所述垫块(20)的底面均固定连接有两个防滑垫(21)。

6.根据权利要求1所述的一种半导体洗净设备烘干装置,其特征在于:所述密封门(2)的外表面固定连接有密封垫圈(22),所述密封垫圈(22)的外表面与烘干箱(1)的内壁相接触。

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【技术特征摘要】

1.一种半导体洗净设备烘干装置,包括烘干箱(1)和临时存储箱(6),其特征在于:所述烘干箱(1)的底面活动铰接有密封门(2),所述烘干箱(1)的左侧面固定连接有控制器(3),所述烘干箱(1)的左侧面和临时存储箱(6)的上表面共同固定连通有回流管(7),所述临时存储箱(6)的右侧设置有氮气发生器(4),所述氮气发生器(4)的输出端与临时存储箱(6)的右端共同固定连通有第一电磁阀(5),所述烘干箱(1)的左侧面固定连通有排气管(8),所述排气管(8)的左侧设置有排气头(10),所述排气头(10)的右端与排气管(8)的左端共同固定连通有第二电磁阀(9),所述烘干箱(1)的内壁固定连接有氧气传感器(11),所述排气管(8)的内壁固定连接有排气扇(12),所述临时存储箱(6)的内壁分别固定连接有两个送气扇(13)和两个电热丝(14),所述氮气发生器(4)、第一电磁阀(5)、第二电磁阀(9)、氧气传感器(11)、排气扇(12)、两个送气扇(13)和两个电热丝(14)均通过导线与控制器(3)电连接。

2.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:段国林胡晴南段国辉
申请(专利权)人:深圳市日欣工业设备有限公司
类型:新型
国别省市:

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