本发明专利技术提供一种具有更高的折射率并且成型性更优良的光学玻璃。本发明专利技术的光学玻璃包含Ｂｉ↓［２］Ｏ↓［３］、Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］、ＳｉＯ↓［２］、Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、ＺｎＯ，并满足以下条件式（１）及条件式（２）。其中，在条件式（１）、（２）中，Ｘ是整体中的Ｂｉ↓［２］Ｏ↓［３］的含量（重量％），Ｙ是整体中的Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］的含量（重量％）。通过满足条件式（１），可以避免结晶化，确保高的透明性。而且，通过超过条件式（２）的下限而对ｄ线的折射率ｎｄ成为１．９以上，通过低于条件式（２）的上限而容易进行玻璃化。Ｘ＋Ｙ≥７５……（１），２．５＜Ｘ／Ｙ＜１３……（２）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及适于比较低的温度下的高精度的挤压成型的光学玻璃。
技术介绍
近几年，由CCD (Charge Coupled Device:电荷耦合器件)或 CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor)等摄像元件取入图像 信息的数码摄像机或带摄像机的手机正在快速地普及。尤其在最近，为 了实现高图像质量开发了像素数高的摄像元件，随此对摄像透镜也要求 高的光学性能。在另一方面，小型化的要求也加强。为了对应这种要求，作为上述摄像透镜大多采用由具有高精度的尺 寸的模具进行挤压成型的玻璃模压透镜。根据这种挤压成型，与通过研 磨的成型相比，可容易且有效地制作具有非球面的光学透镜或微小尺寸 的光学透镜。然而，这种挤压成型在作为原料的光学玻璃的屈服温度 (deformation temperature)以上的高温中进行，所以受很大的热或应 力等物理负荷的模具就需要高的耐久性。当然，光学玻璃的屈服温度变 得越高对模具的物理负荷也越增大，所以为了模具的长寿命化需要尽量 将光学玻璃的屈服温度抑制得低。在另一方面，发展摄像透镜的小型化或广角化时，也强烈要求光学 玻璃的高折射率化。从这种背景开发了几种具有高折射率且具有比较低的屈服温度(及 玻璃化转变温度)的光学玻璃(例如，参照专利文献K 2)。专利文献l:日本专利公开2006-151758号公报专利文献2:日本专利公开2007-70156号公报专利文献3:日本专利公开2006-327926号公报专利文献4:日本专利公开2007-99610号公报 专利文献5:日本专利公开2007-106625号公报 专利文献6:日本专利公开2007-106627号公报 然而，在最近，摄像透镜的小型化及高性能化显著，要求光学玻璃 的更进一步的高折射率化及易加工性。
技术实现思路
本专利技术是借鉴于这种问题点而提出的，其目的在于，提供一种具有 更高折射率并且成型性更优良的光学玻璃。本专利技术的光学玻璃包含Bi203、 B203、 Si02、 A1203、 ZnO,并满足以下 条件式(1)及条件式(2)。其中，在条件式(1) 、 (2)中，X是整体 中的Bi203的含量(重量％) ， Y是整体中的B203的含量(重量％)。X+Y》75 ...... (1)2.5〈X/Y〈13 ...... (2)在本专利技术的光学玻璃中包含上述各种材料，并且满足条件式(1)及 条件式(2)，所以能够确保高的折射率，并且发挥适于挤压成型的性能 (例如，在挤压成型时，难以发生模糊等不良状况等的特性)。具体 地，可得到对于d线超过1.9的折射率和低于45(TC的低玻璃化转变温 度。由于包含Si02及A1203，从而在从玻璃屈服温度At至超过其5CTC左 右的温度的成型温度区域中的耐失透性得以提高。在本专利技术的光学玻璃中，803的含量为60重量％以上90重量％以下， 8203的含量为5重量％以上30重量％以下，SiO2的含量为大于0且5重量呢以 下，AU)3含量为0. 5重量％以上5重量％以下，ZnO的含量为大于0且5重量呢 以下即可。而且，在本专利技术的光学玻璃中，还包含BaO、 LaA、 Ti02、恥203及 Sb203中的至少l种即可。此时，BaO的含量为0重量9&以上15重量9()以下， 1^203的含量为0重量％以上7重量％以下，1102的含量为0重量％以上5重量％ 以下，胁203的含量为0重量％以上5重量％以下，SbA的含量为0.03重量9&以 上2重量％以下即可。根据本专利技术的光学玻璃，不包含高价氧化锗(Ge02)，而Bi203及B203 作为主成分以满足条件式(1)及条件式(2)的方式均衡地包含，并 且，作为副成分包含Si02、 A:U03及Zri0，所以除了可以提高折射率的同时 使屈服温度(及玻璃化转变温度)抑制得低以外，也可以防止挤压成型 时的失透。若是这种光学玻璃，可以进行比较低的温度下的成型，所以 适合于小型且具有高光学性能的模压透镜的批量生产。另外，本专利技术的 光学玻璃不包含过去使用的砷(As)或铅(Pb)或者碲(Te)等的环境 有害物质，所以从环保的观点方面也优选。附图说明图1是表示本专利技术的光学玻璃的实施例中的各成分及其含量、以及 各种特性值的说明图(实施例1 11)。图2是表示作为比较例的光学玻璃中的各成分及其含量、以及各种 特性值的说明图(比较例1 5)。具体实施例方式以下，对本专利技术的实施方式详细地进行说明。本专利技术的光学玻璃例如适合于在数码静止摄像机或银盐摄像机、或 者手机用模块摄像机等中所搭载的摄像透镜。.该光学玻璃作为构成成分包含氧化铋(Bi203)、氧化硼(B203)、氧 化硅(Si02)、氧化铝(A1203)、氧化锌(ZnO),并且满足以下条件式 (1)及条件式(2)。其中，X是Bi203的含量(％) ， Y是B203的含量 (%)。另外，在本专利技术中对于各成分的含量(％)全部意味着[重量%]。X+Y》75 ...... (1)2. 5<X/Y〈13 ...... (2)BiA及B203是构成该光学玻璃的主成分。通过满足条件式(1)可避 免结晶化，确保高的透明性。而且，通过超过条件式(2)的下限而对d 线的折射率nd成为1.9以上，通过低于条件式(2)的上限而容易进行玻 璃化。5Bi203是对提高该光学玻璃的折射率、并降低屈服温度Ts (及玻璃化 转变温度Tg)有效的成分。通过将81203的含量设为整体的60%以上90%以 下，不仅使高折射率和低屈服温度(以及玻璃化转变温度)得以兼顾， 并且能够得到耐失透性。B203是该光学玻璃的骨架物质。通过将8203的含量设为整体的5%以 上，从而使作为光学玻璃的结构稳定化，通过设为30%以下，容易实现高 折射率。Si02具有防止成型温度区域(从玻璃屈服温度At至超过其5(TC左右 的温度的温度区域)中的结晶化的作用。Si02的含量中的优选范围为大 于0且5%以下。g卩，若在该光学玻璃含有Si02仅少量，也可发挥防止上述 结晶化的功能。而且，通过设为5%以下的含量，可以良好地确保作为光 学玻璃的溶解性。Al203通过增大该光学玻璃的粘性并且推迟结晶的成长，从而起改善 耐失透性的功能。通过将八1203的含量设为整体的0.5%以上5%以下，从而 可有效地发挥上述功能。ZnO是发挥使该光学玻璃的溶解性提高的功能的物质。ZnO的含量为 整体的O. 5%以上3%以下即可。该光学玻璃也可以作为任意成分进一步包含氧化钡(BaO)、氧化镧 (LaA)、氧化钛(Ti02)、氧化铌(歸3)及氧化锑(Sb203)中的至 少1种。BaO是为了得到溶解性或结构上的稳定性而被适当添加的。该BaO是 在制造阶段中作为原料添加的碳酸钡(BaC03)或硝酸钡(Ba (N03) 2)在溶解时分解而放出离解气体后残留的物质。离解气体具有脱泡剂的功 能。BaO的含量为整体的15y。以下即可。La203带来减小该光学玻璃的色散的效果(即，增大阿贝数)。若过 量添加，则存在加工时发生失透的倾向，所以优选将其含量设为整体的 7%以下。Ti02是用于确保该光学玻璃中的高折射率的有效的成分，也是通过 与Bi203的共存提高加工时的耐失透性的物本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学玻璃，其特征在于，包含： 氧化铋（Ｂｉ↓［２］Ｏ↓［３］）； 氧化硼（Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］）； 氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）； 氧化铝（Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］）； 氧化锌（ＺｎＯ）， 并且满足以下条件式（１）及条件式（２）： Ｘ＋Ｙ≥７ ５……（１） ２．５＜Ｘ／Ｙ＜１３ ……（２） 此处，Ｘ是氧化铋的含量（重量％），Ｙ是氧化硼的含量（重量％）。
【技术特征摘要】
JP 2008-9-3 2008-2259291.一种光学玻璃，其特征在于，包含氧化铋(Bi2O3)；氧化硼(B2O3)；氧化硅(SiO2)；氧化铝(Al2O3)；氧化锌(ZnO)，并且满足以下条件式(1)及条件式(2)X+Y≥75……(1)2.5＜X/Y＜13……(2)此处，X是氧化铋的含量(重量％)，Y是氧化硼的含量(重量％)。2. 如权利要求l所述的光学玻璃，其特征在于， 上述氧化铋的含量为60重量％以上90重量％以下， 上述氧化硼的含量为5重量％以上30重量％以下， 上述氧化硅的含量为大于0且5重量％以...
【专利技术属性】
技术研发人员：齐藤元昭，
申请(专利权)人：富士能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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