【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及有机EL器件制造装置及其制造方法以及成膜装置及成膜方 法，尤其涉及适合于搬运大型衬底并用蒸镀法制造的有机EL器件制造装置及 其制造方法。
技术介绍
作为显示器件有机EL器件受到重视，作为其制造的有力的方法有真空蒸 镀法。为了制造有机EL器件，不仅是形成发光材料层(EL层)并用电极夹住 该层的结构，而且，为了在阳极上形成正孔穴注入层及输送层，在阴极上形成EL器件制造装置采用将具有多个处理室的设备组多个相连的结构。作为这样 的现有技术有专利文献l一日本特开2003-027213号公报记载的内容。然而，就现有的设备组结构而言，由于将各处理部配置成辐射状，并且为 了使设备组间的各处理部互不干涉而分离配置，需要加长各设备组间的距离， 存在作为整个生产线增长的问题。尤其是从过去到现在显示器件所使用的衬底 尺寸也达到1500mm x 1850mm,生产线的长度也越来越长。另外，辐射状的配 置在设备组及处理部之间形成无用空间而使空间效率恶化。另外，本专利技术所谓的设备组是指具有设置在搬运衬底的方向的至少一 侧的多个衬底处理部和衬底搬入4般出部。
技术实现思路
因此...
【技术保护点】
一种有机ＥＬ器件制造装置，其具有作为真空室的设备组，该设备组具备：具备将蒸镀材料蒸镀在衬底上的处理部的真空处理室，将上述衬底搬入或搬出的交接室，以及将上述衬底在上述交接室和上述多个处理室之间进行搬运的搬运机构；其特征在于： 在一个上述真空 处理室或多个上述真空处理室中设置多个上述处理部，将上述多个处理部中的至少两个以上的处理部邻接配置在上述搬运机构的一侧。
【技术特征摘要】
JP 2008-9-25 2008-2464991.一种有机EL器件制造装置，其具有作为真空室的设备组，该设备组具备具备将蒸镀材料蒸镀在衬底上的处理部的真空处理室，将上述衬底搬入或搬出的交接室，以及将上述衬底在上述交接室和上述多个处理室之间进行搬运的搬运机构；其特征在于在一个上述真空处理室或多个上述真空处理室中设置多个上述处理部，将上述多个处理部中的至少两个以上的处理部邻接配置在上述搬运机构的一侧。2. 如权利要求1所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，具有多个上 述设备组，将上述多个设备组串联连接。3. 如权利要求1或2所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，具有与 上述交接室不同的搬入衬底的搬入负载室和搬出衬底的搬出负载室中至少一 方。4. 如权利要求3所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，在构成将上 述衬底从上述搬入负载室向搬出负载室进行搬运的搬运系统的搬运部中，具有5. 如权利要求4所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，具有上述修 正机构的上述搬运部在上述交接室、上述搬入负载室和设置于上述处理部的衬 底的处理交接部中至少有一处。6. 如权利要求5所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，上述修正机 构是使设置于上述搬运部的放置上述衬底的放置台旋转的机构，或者是从上述 放置台离开并使上述衬底旋转的机构。7. 如权利要求4所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，上述搬运部 是设置于上述设备组、上述搬入负载室或搬出负载室的搬运用机械手。8. 如权利要求7所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，上述修正机 构是将上述搬运用机械手的搬运上述衬底的手部的角度改变的机构。9. 如权利要求4所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，上述搬运部 是上述搬入负载室，上述修正机构以预定的角度将上述衬底设置在上述搬入负 载室。10. 如权利要求1或2所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，将进行上述蒸镀的蒸发源沿着倾斜地搬入设置于上述处理部的衬底的处理交接部 中的上述衬底进行扫描。11. 如权利要求或2所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，上述 多个为四个以上，具有将上述多个处理部相对上述搬运的方向上下左右对称地 设置，在第一处理部处理了上述衬底之后，在与第一处理部点对称的位置的第 二处理部进行处理的处理机构。12. 如权利要求1或2所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，上述 设备组具有两个上述真空处理室，上述真空处理...
【专利技术属性】
技术研发人员：若林雅，韮泽信广，弓场贤治，落合行雄，浅田干夫，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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