【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及感光性组合物、固化物、显示装置、电子部件及固化物的制造方法。
技术介绍
1、近年来，在智能手机、平板pc及电视机等具有薄型显示器的显示装置中使用了有机电致发光(以下，“el”)显示器的制品正被大量开发。
2、为了提高有机el显示器的发光特性以及提高可靠性，在有机el显示器的像素分割层、薄膜晶体管(以下，“tft”)平坦化层、或者tft保护层、或tft阵列形成时的层间绝缘层或栅极绝缘层中使用高耐热性的感光性组合物。例如，对于形成像素分割层(其形成于第1电极上)的感光性组合物而言，需要通过光刻使成为阳极(anode)的第1电极露出。因此，为了削减有机el显示器的制造的工艺时间·提高生产率，对于感光性组合物要求提高曝光时的敏感度。另一方面，作为提高有机el显示器的发光特性，也要求提高发光元件的可靠性。通过提高发光元件的可靠性，能够实现有机el显示器的耐久性提高。
3、此外，通常在形成像素分割层后，隔着蒸镀掩模通过蒸镀将发光材料成膜，然后，通过蒸镀将第2电极成膜。需要说明的是，作为通过蒸镀将发光材料成膜时的蒸镀掩模的支承台，在像素分割层的一部分形成膜厚较厚的区域(以下，“厚膜部”)也是常见的。这样的像素分割层的一部分中的膜厚较厚的区域可以通过在形成像素分割层后，在其上层使感光性组合物再次成膜并进行图案加工的双层成膜工艺来形成。另一方面，在这样的双层成膜工艺中，有因工序数增加引起的生产率降低·成品率降低的风险。因此，在通过光刻形成像素分割层时，应用了通过使用半色调光掩模来以像素分割层中的阶差形状的形态
4、另一方面，由于有机el显示器具有自发光元件，因此若户外的太阳光等外部光入射，则因会外部光反射而使视觉辨认性及对比度降低。因此，作为阻断外部光来降低外部光反射的技术，通过在形成像素分割层的感光性组合物中含有着色剂来提高遮光性。
5、另外，近年来，电子终端设备的高功能化、小型化、薄型化及轻质化不断进展。这些电子终端设备具备半导体装置，例如，可举出处理器、存储器等。伴随半导体的用途扩大、性能提高，正在进行基于制造工序的高效化的成本削减及高集成化的努力，形成多层的金属再布线的半导体装置受到关注。由于半导体装置的高集成化所伴随的布线微细化，对于这样的多层的金属再布线中的层间绝缘层所使用的材料，也要求与电绝缘性有关的可靠性，因此也要求高的耐迁移性。
6、作为感光性组合物，可举出含有聚酰亚胺等第1树脂和cardo系树脂等第2树脂的负型感光性组合物(参见专利文献1)、以及含有环氧丙烯酸酯树脂和novolac树脂的负型感光性组合物(参见专利文献2)等。
7、现有技术文献
8、专利文献
9、专利文献1：国际公开第2017/159876号
10、专利文献2：日本特开2009-003442号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、就上述的感光性组合物的曝光时的敏感度提高而言，若为了提高感光性组合物的遮光性而增加着色剂的含量，则有时成为问题。特别是含有遮光性高的黑色颜料等的情况下，图案曝光时的紫外线等也被阻断，因此成为曝光时的敏感度降低的主要原因。
3、此外，在上述像素分割层的一部分形成厚膜部的工艺中，根据感光性组合物的特性，有时通过隔着半色调光掩模的图案曝光而将像素分割层和厚膜部一并形成的特性(以下，“半色调特性”)不充分。具体而言，即使使用半色调光掩模，有时也无法形成像素分割层与厚膜部的膜厚差、有时像素分割层的区域在显影时消失。认为这是因为相对通过了半色调光掩模的半色调部的曝光量较小的光而言的、感光性组合物的敏感度为主导性的原因。即，在正型感光性组合物的情况下，若对通过了半色调部的光的敏感度过度，则像素分割层的区域在显影时容易消失。另一方面，在负型感光性组合物的情况下，若对通过了半色调部的光的敏感度过度，则像素分割层与厚膜部的膜厚差容易变得难以形成。特别是在负型感光性组合物的情况下，在曝光量较小的区域容易发生不充分的光固化，像素分割层的区域在显影时消失的情况也多，因此难以进行稳定的图案加工。
4、另一方面，在使用了感光性组合物的利用光刻进行的开口部的形成中，当以光掩模的图案尺寸为基准的开口尺寸误差(以下，“掩模偏置性”)大时，会导致阳极上的发光像素区域的设计误差，因此会对有机el显示器的发光特性造成不良影响。为了抑制掩模偏置性，可举出根据感光性组合物的特性调整光掩模的图案尺寸的方法，但也产生光掩模的图案排列·分辨率等的设计受限制这样的其他课题。此外，在掩模偏置性过大的情况下，光掩模的图案尺寸调整方面的改善会变得困难。在掩模偏置性方面，有与光掩模的图案尺寸相比开口尺寸变窄的特性(以下，“窄掩模偏置”)，以及与光掩模的图案尺寸相比开口尺寸变宽的特性(以下，“宽掩模偏置”)。这样的掩模偏置性被认为是由图案曝光时的衍射光的影响引起的，但也受材料特性影响。在正型感光性组合物的情况下，根据曝光部的碱溶性提高受到衍射光影响的何种程度而使得掩模偏置性不同。一般而言，在曝光部的碱溶性提高不充分的情况下，容易形成窄掩模偏置，在曝光部的碱溶性过度的情况下，容易形成宽掩模偏置。另一方面，在负型感光性组合物的情况下，根据由曝光部的光固化引起的碱溶性降低受到衍射光影响的何种程度而使得掩模偏置性不同。特别是在负型感光性组合物的情况下，由衍射光产生的自由基所引起的光固化的影响容易处于主导地位，发生窄掩模偏置的情况多。此外，在曝光部的光固化不充分的情况下，容易成为宽掩模偏置。
5、若为了抑制这样的掩模偏置性而实施像素分割层形成的工艺变更、或感光性组合物的组成变更，则有时对感光性组合物的图案加工性带来不良影响。因此，难以同时实现从削减工艺时间·提高生产率的观点考虑所要求的曝光时的敏感度提高、以及从生产率提高·成品率提高的观点考虑所要求的优异的半色调特性等各种特性。因此，作为感光性组合物，要求兼具曝光时的敏感度提高、显影后的开口图案尺寸的窄掩模偏置抑制及优异的半色调特性的材料。此外，还要求能够提供可提高显示装置中的发光元件的可靠性的固化膜的材料。另外，以往的组合物在提供具有耐迁移性的固化物方面存在课题。然而，上述的专利文献1、2记载的感光性组合物均在上述任一特性方面不充分。
6、用于解决课题的手段
7、为了解决上述的课题，本专利技术具有以下的构成。即，
8、[1]感光性组合物，其满足以下的条件(α)或条件(β)，
9、所述感光性组合物的全部固态成分中的双键当量为600～6,000g/mol。
10、条件(α)：含有下述(i)的化合物及/或下述(ii)的化合物
11、(i)具有以下的(wa)弱酸性基团及自由基聚合性基团的化合物
12、(ii)具有以下的(wa)弱酸性基团的化合物及具有自由基聚合性基团的化合物
13、条件(β)：含有(a)碱溶性树脂、(b)自由基聚合性化合物及(c)感光本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.感光性组合物，其满足以下的条件(α)或条件(β)，
2.如权利要求1所述的感光性组合物，其全部固态成分中的弱酸性基团当量为400～6,000g/mol。
3.如权利要求1所述的感光性组合物，其还含有选自由通式(20)表示的环状酰胺化合物、通式(21)表示的酰胺化合物、通式(22)表示的环状脲化合物、及通式(23)表示的脲化合物组成的组中的一种以上，并满足下述(4)的条件，
4.如权利要求3所述的感光性组合物，其还含有选自由包含钠元素的成分、包含钾元素的成分、包含镁元素的成分、包含钙元素的成分、包含铁元素的成分、包含铜元素的成分、及包含铬元素的成分组成的组中的一种以上，并满足下述(5)的条件，
5.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其包含(A)碱溶性树脂，
6.如权利要求5所述的感光性组合物，其中，所述(A)碱溶性树脂含有选自由以下的(A3-1)树脂、(A3-2)树脂、(A3-3)树脂及(A3-4)树脂组成的组中的一种以上，
7.如权利要求6所述的感光性组合物，其中，所述(A3-1)树脂、(A3-
8.如权利要求2～4中任一项所述的感光性组合物，其包含(A)碱溶性树脂、(B)自由基聚合性化合物及(C)感光剂，
9.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其全部固态成分中的弱酸性基团当量为400～1,500g/mol，
10.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其还含有(I)无机粒子，
11.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其还含有选自由包含卤元素的成分、包含硫元素的成分、及包含磷元素的成分组成的组中的一种以上，且满足下述(1)～(3)的条件中的1个以上，
12.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其包含(A)碱溶性树脂，
13.如权利要求12所述的感光性组合物，其中，所述(A)碱溶性树脂含有所述(A1)树脂及/或(A3)树脂，还含有所述(A2)树脂，
14.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其还含有(D1a-1)有机黑色颜料及/或(D1a-3)两种颜色以上的着色颜料混合物，
15.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其包含(B)自由基聚合性化合物，
16.固化物，其是将权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物固化而得的。
17.显示装置，其具备权利要求16所述的固化物。
18.电子部件，其具备权利要求16所述的固化物。
19.固化物的制造方法，其具有：
20.显示装置，其至少具有基板、第1电极、第2电极及像素分割层，
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.感光性组合物，其满足以下的条件(α)或条件(β)，
2.如权利要求1所述的感光性组合物，其全部固态成分中的弱酸性基团当量为400～6,000g/mol。
3.如权利要求1所述的感光性组合物，其还含有选自由通式(20)表示的环状酰胺化合物、通式(21)表示的酰胺化合物、通式(22)表示的环状脲化合物、及通式(23)表示的脲化合物组成的组中的一种以上，并满足下述(4)的条件，
4.如权利要求3所述的感光性组合物，其还含有选自由包含钠元素的成分、包含钾元素的成分、包含镁元素的成分、包含钙元素的成分、包含铁元素的成分、包含铜元素的成分、及包含铬元素的成分组成的组中的一种以上，并满足下述(5)的条件，
5.如权利要求1～4中任一项所述的感光性组合物，其包含(a)碱溶性树脂，
6.如权利要求5所述的感光性组合物，其中，所述(a)碱溶性树脂含有选自由以下的(a3-1)树脂、(a3-2)树脂、(a3-3)树脂及(a3-4)树脂组成的组中的一种以上，
7.如权利要求6所述的感光性组合物，其中，所述(a3-1)树脂、(a3-2)树脂、(a3-3)树脂及(a3-4)树脂具有选自由以下的(3x)结构单元、(3y)结构单元及(3z)结构单元组成的组中的一种以上，
8.如权利要求2～4中任一项所述的感光性组合物，其包含(a)碱溶性树脂、(b)自由基聚合性化合物...
【专利技术属性】
技术研发人员：谷垣勇刚，佐伯昭典，日比野千香，小山祐太朗，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：
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