一种引流式烤盘制造技术

本技术公开了一种引流式烤盘，所述烤盘上设有承托凹槽，所述承托凹槽的底壁设有至少两个承托区，至少两个承托区绕所述烤盘的中心轴线圆周分布；各个所述承托区上均设有多个凸出条，各个所述承托区上相邻两个凸出条之间间隔形成引流通道；各个所述凸出条倾斜设置于所述承托区，各个所述凸出条由所述烤盘的中部朝向所述烤盘的边沿延伸。本技术的引流式烤盘，其可以通过至少两个承托区上的倾斜的引流通道，将烘烤过程中的油液由中间朝向四周引导流动。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及烤盘，尤其涉及一种引流式烤盘。

技术介绍

1、目前，烤箱、炸锅等烹饪器具中，可以是以烤盘放置食材，然后放入烤箱或者炸锅内，以热空气来烘烤烹调食品，在烘烤食物时，一般是需要添加食用油，以防止食物烤焦。

2、但是，现有的烤盘一般都是采用平面底壁，食材放置在烤盘的底壁后，容易与烤盘的底壁产生粘黏，且在烘烤过程中，由于食材底部跟烤盘直接接触，因而底部会过热，需要定期进行翻面，不然容易出现底部烤焦的情况。

3、此外，也有在烤盘的底壁设置凹凸不平的结构，用于使烤盘内的油分散接触，但是不便于烘烤过程中油液的流动，且烤盘底壁上的凹位容易在长久使用后产生油垢，不易清洗。

技术实现思路

1、为了克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，本技术的目的在于提供一种引流式烤盘，其可以通过至少两个承托区上的倾斜的引流通道，将烘烤过程中的油液由中间朝向四周引导流动。

2、本技术为解决其问题所采用的技术方案是：

3、一种引流式烤盘，所述烤盘上设有承托凹槽，所述承托凹槽的底壁设有至少两个承托区，至少两个承托区绕所述烤盘的中心轴线圆周分布；各个所述承托区上均设有多个凸出条，各个所述承托区上相邻两个凸出条之间间隔形成引流通道；各个所述凸出条倾斜设置于所述承托区，各个所述凸出条由所述烤盘的中部朝向所述烤盘的边沿延伸。

4、进一步地，相邻两个所述承托区上的凸出条的倾斜方向相反。

5、进一步地，所述承托凹槽的底壁凸设有第一引流条，所述第一引流条沿所述烤盘的第一方向延伸以在所述承托凹槽的底壁分割形成为至少两个所述承托区。

6、进一步地，所述承托凹槽的底壁上还设有第二引流条，所述第二引流条沿所述烤盘的第二方向延伸，所述第二引流条与所述第一引流条交叉衔接，以使所述承托凹槽的底壁分隔形成为至少四个所述承托区。

7、进一步地，所述第一引流条以及所述第二引流条垂直交叉衔接。

8、进一步地，所述第一引流条以及所述第二引流条的外表面为圆弧面。

9、进一步地，烤盘的周沿设有集油凹槽，所述集油凹槽围设于至少两个所述承托区的外周，各个所述引流通道的端部均贯通至所述集油凹槽。

10、进一步地，所述凸出条由所述烤盘的底端面朝上冲压以凸出于所述承托凹槽的底壁形成。

11、进一步地，所述凸出条的外表面为圆弧面。

12、进一步地，所述烤盘的顶端外周沿设有朝外延伸的承托边。

13、综上所述，本技术具有如下技术效果：

14、由于凸出条是倾斜设置的，因而形成引流通道也是倾斜设置的，这样的话，引流通道的倾斜引流路径避让是分布烤盘的两个方向均有分布，而同一承托区的多个引流通道都是倾斜的，因而可以在相同的承托区内形成更大的引流面，在油液在引流通道流动时，倾斜的引流通道可以是在接收油液后流动，将油液由中间引导至四周，流动面更大，一方面可以更好的引导油液与食材分离，另一方面倾斜的引流通道不易形成倾斜死角。

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【技术保护点】

1.一种引流式烤盘，其特征在于，所述烤盘上设有承托凹槽，所述承托凹槽的底壁设有至少两个承托区，至少两个承托区绕所述烤盘的中心轴线圆周分布；各个所述承托区上均设有多个凸出条，各个所述承托区上相邻两个凸出条之间间隔形成引流通道；各个所述凸出条倾斜设置于所述承托区，各个所述凸出条由所述烤盘的中部朝向所述烤盘的边沿延伸。

2.根据权利要求1所述的引流式烤盘，其特征在于，相邻两个所述承托区上的凸出条的倾斜方向相反。

3.根据权利要求1所述的引流式烤盘，其特征在于，所述承托凹槽的底壁凸设有第一引流条，所述第一引流条沿所述烤盘的第一方向延伸以在所述承托凹槽的底壁分割形成为至少两个所述承托区。

4.根据权利要求3所述的引流式烤盘，其特征在于，所述承托凹槽的底壁上还设有第二引流条，所述第二引流条沿所述烤盘的第二方向延伸，所述第二引流条与所述第一引流条交叉衔接，以使所述承托凹槽的底壁分隔形成至少四个所述承托区。

5.根据权利要求4所述的引流式烤盘，其特征在于，所述第一引流条以及所述第二引流条垂直交叉衔接。

6.根据权利要求4所述的引流式烤盘，其特征在于，所述第一引流条以及所述第二引流条的外表面为圆弧面。

7.根据权利要求1-6任一项所述引流式烤盘，其特征在于，烤盘的周沿设有集油凹槽，所述集油凹槽围设于至少两个所述承托区的外周，各个所述引流通道的端部均贯通至所述集油凹槽。

8.根据权利要求1-6任一项所述的引流式烤盘，其特征在于，所述凸出条由所述烤盘的底端面朝上冲压以凸出于所述承托凹槽的底壁形成。

9.根据权利要求1-6任一项所述的引流式烤盘，其特征在于，所述凸出条的外表面为圆弧面。

10.根据权利要求1-5任一项所述的引流式烤盘，其特征在于，所述烤盘的顶端外周沿设有朝外延伸的承托边。

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【技术特征摘要】

1.一种引流式烤盘，其特征在于，所述烤盘上设有承托凹槽，所述承托凹槽的底壁设有至少两个承托区，至少两个承托区绕所述烤盘的中心轴线圆周分布；各个所述承托区上均设有多个凸出条，各个所述承托区上相邻两个凸出条之间间隔形成引流通道；各个所述凸出条倾斜设置于所述承托区，各个所述凸出条由所述烤盘的中部朝向所述烤盘的边沿延伸。

2.根据权利要求1所述的引流式烤盘，其特征在于，相邻两个所述承托区上的凸出条的倾斜方向相反。

3.根据权利要求1所述的引流式烤盘，其特征在于，所述承托凹槽的底壁凸设有第一引流条，所述第一引流条沿所述烤盘的第一方向延伸以在所述承托凹槽的底壁分割形成为至少两个所述承托区。

4.根据权利要求3所述的引流式烤盘，其特征在于，所述承托凹槽的底壁上还设有第二引流条，所述第二引流条沿所述烤盘的第二方向延伸，所述第二引流条与所述第一引流条交叉衔接，以使所述承...

【专利技术属性】
技术研发人员：闻继望，吴江水，胡代舜，
申请(专利权)人：浙江比依电器股份有限公司，
类型：新型
国别省市：