一种流延斗装置及流延设备制造方法及图纸

技术编号:41274524 阅读:3 留言:0更新日期:2024-05-11 09:27
本申请公开了一种流延斗装置及流延设备,涉及流延设备技术领域,其中,流延斗装置包括:壳体包括第一侧板、第二侧板及底板,第一侧板设置于底板上,第一侧板的两端均设置有第二侧板,第一侧板设置有浆料入口;阻流组件,包括第一阻流部件和第二阻流部件,第一阻流部件设置于浆料入口的对侧,第二阻流部件设置于第一阻流部件远离浆料入口的一侧。本申请中,浆料从浆料入口进入到第一腔室后,会先在第一腔室内停留,使得浆料有更多的时间朝向浆料入口的两侧流动,有助于使第一腔室内的浆料能够同时翻过第一阻流部件,有效避免回流线交汇处液位低点产生,从而改善厚度集中性差的问题。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及流延设备,特别涉及一种流延装置及流延设备。


技术介绍

1、流延成型工艺所需设备简单,且生产效率高,能够连续操作,具有高度的自动化程度,被广泛应用于陶瓷、塑料、涂料、造纸等领域,尤其适用于制备陶瓷薄膜或厚膜产品如氧化铝陶瓷基板、氧化锆复合氧化铝陶瓷基板等。

2、流延成型的基本原理是:将具有一定粘度的陶瓷浆料倒入流延斗,在膜带的牵引下,浆料经过刮刀平铺成一层薄的流延生坯,在加热环境中去除生坯中的溶剂,干燥后得到陶瓷薄片。

3、在流延生产过程中,单口浆料供给方式会导致流延斗内中间浆料流速高于两侧浆料流速,流延斗内浆料与刮刀碰撞后的回流线使斗内液位不均,造成流延膜带存在厚度集中性较差的问题。因此研究一种使膜带厚度均匀的装斗方式十分必要。


技术实现思路

1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本申请提出一种流延斗装置及流延设备,以改善流延膜带厚度集中性较差的问题。

2、根据本申请一方面实施例的流延斗装置,包括:

3、壳体,包括第一侧板、第二侧板及底板,所述第一侧板设置于所述底板上,所述第一侧板的两端均设置有所述第二侧板,所述第一侧板设置有浆料入口;

4、阻流组件,包括第一阻流部件和第二阻流部件,所述第一阻流部件设置于所述浆料入口的对侧,所述第二阻流部件设置于所述第一阻流部件远离所述浆料入口的一侧;

5、其中,所述第一阻流部件、所述第一侧板、所述第二侧板及所述底板围合出第一腔室;所述第一阻流部件、所述第二阻流部件及位于所述第一阻流部件和所述第二阻流部件两端的所述第二侧板围合出第二腔室,所述浆料入口与所述第一腔室连通。

6、根据本申请实施例的流延斗装置,所述第二阻流部件包括在垂直于所述底板方向间隔设置的第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和所述第二挡板之间的间隙限定出横向延伸的流延槽,所述流延槽与所述第二腔室连通。

7、根据本申请实施例的流延斗装置,所述第一挡板和所述第二挡板之间的间隙宽度为5~10mm。

8、根据本申请实施例的流延斗装置,所述第一腔室的容积为4.5~10l。

9、根据本申请实施例的流延斗装置,所述底板具有向下凹陷的凹陷部,所述凹陷部的轮廓形状为棱锥、棱柱、椭球、棱台或半圆柱中的任意一种。

10、根据本申请实施例的流延斗装置,所述凹陷部与所述第一腔室连通,且所述凹陷部围出的腔室的容积为所述第一腔室容积的0.1~0.2。

11、根据本申请实施例的流延斗装置,所述第一侧板具有朝向远离所述第一阻流部件方向凸出的凸出部,所述浆料入口位于所述凸出部的顶点处。

12、根据本申请实施例的流延斗装置,所述凸出部围出的腔室的容积占所述第一腔室容积的0.1~0.2。

13、根据本申请实施例的流延斗装置,所述浆料入口位于所述第一侧板的中部。

14、根据本申请实施例的流延斗装置,所述第二侧板设置有至少两个插槽,所述第一阻流部件和所述第二阻流部件分别插设于不同的所述插槽内。

15、根据本申请实施例的流延斗装置,所述插槽包括第一插槽和第二插槽,所述第一阻流部件设置在所述第一插槽内,所述第二阻流部件设置在所述第二插槽内。

16、根据本申请实施例的流延斗装置,所述第一阻流部件的高度h的范围是30mm~100mm;进一步优选地,所述第一阻流部件的高度h的范围是60~80mm。

17、根据本申请实施例的流延斗装置,所述第一阻流部件与所述第一侧板之间的距离是30~100mm。

18、本申请另一方面实施例的流延设备,包括刮刀和如前所述的流延斗装置,所述刮刀设置于所述第二阻流部件远离所述第一阻流部件的一侧。

19、根据本申请实施例的流延斗装置及流延设备,至少具有如下有益效果:本申请实施例中,可以缩小浆料入口两侧的浆料与中间位置的浆料的流动差异性,使浆料在第一腔室内的流动速度均匀,有助于使第一腔室中间和第一腔室两侧的浆料能够同时翻过第一阻流部件,从而改善厚度集中性较差的问题;当浆料经过第一阻流部件顶部进入到第一阻流部件和第二阻流部件限定出的第二腔室时,第二阻流部件能够降低浆料的流速及流动波动,利于保证厚度均一性。

20、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种流延斗装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的流延斗装置,其特征在于,所述第二阻流部件包括在垂直于所述底板方向间隔设置的第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和所述第二挡板之间的间隙限定出横向延伸的流延槽。

3.根据权利要求2所述的流延斗装置,其特征在于,所述第一挡板和所述第二挡板之间的间隙宽度为5~10mm。

4.根据权利要求1所述的流延斗装置,其特征在于,所述第一腔室的容积为4.5~10L。

5.根据权利要求1至4任一项所述的流延斗装置,其特征在于,所述底板具有向下凹陷的凹陷部,所述凹陷部的轮廓形状为棱锥、棱柱、椭球、棱台或半圆柱的任意一种。

6.根据权利要求5所述的流延斗装置,其特征在于,所述凹陷部与所述第一腔室连通,且所述凹陷部围出的腔室的容积为所述第一腔室容积的0.1~0.2。

7.根据权利要求1所述的流延斗装置,其特征在于,所述第一侧板具有朝向远离所述第一阻流部件方向凸出的凸出部,所述浆料入口位于所述凸出部的顶点处。

8.根据权利要求7所述的流延斗装置,其特征在于,所述凸出部围出的腔室的容积占所述第一腔室容积的0.1~0.2。

9.根据权利要求1所述的流延斗装置,其特征在于,所述第一阻流部件的高度h的范围是30mm~100mm。

10.一种流延设备,其特征在于,包括刮刀以及如权利要求1至9任一项所述的流延斗装置,所述刮刀设置于所述第二阻流部件远离所述第一阻流部件的一侧。

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【技术特征摘要】

1.一种流延斗装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的流延斗装置,其特征在于,所述第二阻流部件包括在垂直于所述底板方向间隔设置的第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和所述第二挡板之间的间隙限定出横向延伸的流延槽。

3.根据权利要求2所述的流延斗装置,其特征在于,所述第一挡板和所述第二挡板之间的间隙宽度为5~10mm。

4.根据权利要求1所述的流延斗装置,其特征在于,所述第一腔室的容积为4.5~10l。

5.根据权利要求1至4任一项所述的流延斗装置,其特征在于,所述底板具有向下凹陷的凹陷部,所述凹陷部的轮廓形状为棱锥、棱柱、椭球、棱台或半圆柱的任意一种。

6.根据权利要求5所述的流延斗装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙健王高强张松
申请(专利权)人:德阳三环科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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