新的噻吩磺酰胺衍生物制造技术

技术编号:4126735 阅读:194 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
*** 本发明专利技术涉及通式(Ⅰ)表示的噻吩磺酰脲衍生物,其制备方法,以及使用它的除草剂;及其盐,其中T表示具有通式(a)的T1,T2,或T3其团,其中E表示直接的键;R表示氢或C↓[1-4]酰基;R↑[1]表示由1到3个卤原子取代的C↓[1-6]烷基;R↑[2]表示氢,C↓[1-3]烷基,C↓[1-3]卤代烷基,卤素,氰基,C↓[1-3]烷氧基,C↓[1-3]卤代烷氧基,氨基,甲氨基,二甲氨基,或由C↓[1-2]烷氧基,C↓[1-2]卤代烷氧基,硫羟基,甲硫基,氰基或羟基取代的C↓[1-2]烷基;A表示选自具有通式(b)的A1到A4基团,以及含有这些衍生物的除草组合物。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及由下列通式(1)表示的新的噻吩磺酰脲衍生物及其盐 其中T表示具有下列通式的T1,T2,成T3基团 其中E表示直键;R表示氢或C1-4酰基;R1表示用1到3个卤原子取代的C1-6烷基;R2表示氢,C1-3烷基,C1-3卤代烷基,卤素,氰基,C1-3烷氧基,C1-3卤代烷氧基,氨基,甲氨基,二甲氨基,或用C1-2烷氧基、C1-2卤代烷氧基、硫羟基、甲硫基、氰基或羟基取代的C1-2烷基;A表示选自具有下列通式的A1到A4基团 其中X表示氢,C1-4烷基,C1-4烷氧基,C1-4卤代烷基,C1-4卤代烷氧基,C1-4烷硫基,C1-4卤代烷硫基,卤素,C2-5烷氧烷基,C2-5烷氧烷氧基,亚氨基,C1-3烷氧基,双(C1-3烷基)氨基或C3-5环烷基;X1表示C1-2烷基,C1-2烷氧基或C1-2烷硫基;Y表示氢,C1-4烷基,C1-4烷氧基,C1-4卤代烷氧基,C1-4卤代烷硫基,C1-4烷硫基,C2-5烷氧烷基,C2-5烷氧烷氧基,氨基,C1-3烷氨基,双(C1-3烷基)氨基,C3-4链烯氧基,C3-4炔氧基,C2-5烷硫烷基,C1-本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种下列通式(Ⅱ)表示的中间体化合物:NH↓[2]SO↓[2]* (Ⅱ)其中R表示氢或C↓[1-4]酰基;R↑[1]表示由1到3个卤原子取代的C↓[1-6]烷基;R↑[2]表示氢,C↓[1-3]烷基,C↓[1-3]卤代烷 基、卤素氰基,C↓[1-3]烷氧基,C↓[1-3]卤代烷氧基,氨基,甲氨基,二甲氨基,或用C↓[1-2]烷氧基、C↓[1-2]卤代烷氧基、硫羟基、甲硫基、氰基或羟基取代的C↓[1-2]烷基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 1993-11-10 23830/931.一种下列通式(Ⅱ)表示的中间体化合物其中R表示氢或C1-4酰基;R1表示由1到3个卤原子取代的C1-6烷基;R2表示氢,C1-3烷基,C1-3卤代烷基、卤素氰基,C1-3烷氧基,C1-3卤代烷氧基,氨基,甲氨基,二甲氨基,或用C1-2烷氧基...

【专利技术属性】
技术研发人员:金大璜尹烈柳在旭李连洙姜升圭黄仁泽
申请(专利权)人:韩国化学研究所
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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