一种基于聚醋酸乙烯酯的光致聚合物复合材料制造技术

一种基于聚醋酸乙烯酯的光致聚合物复合材料，属于薄膜技术领域。按照质量比将丙烯酸酯类单体、基质、光引发剂、光敏剂混合搅拌至均匀状态；涂膜，在532nm的相干光催化下发生光化学反应生成聚合物光栅薄膜，可以作为全息记录材料。材料具有较高的光敏度，制备简单且成本低廉。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基于聚醋酸乙烯酯的新型光致聚合物薄膜材料制备方法，属于薄膜。

技术介绍

1、随着信息人们对存储速度和容量的要求不断提高，因此迫切需要开发大容量、长寿命、低能耗的数据存储技术。与传统的电或磁存储相比，光存储(如全息存储)可以利用偏振、波长、角度、相位复用等开拓多维存储技术。全息记录材料通常需要高感光灵敏度(>0.5cm/mj)、较高的折射率调制度、较大的动态范围等。传统的全息记录材料主要有重铬酸钾、卤化银、光折变材料、光致聚合物等，其中，光致聚合物由于具有制备工艺简单、成本低廉、光敏度高、折射率调制度较高等优点，被认为是理想的全息记录材料，因而被广泛研究。

2、光致聚合物通常由单体、光引发剂、基质等成分组成。目前研究的光致聚合物材料通常分为三种，以聚乙烯醇(pva)/丙烯酰胺(aa)为代表的丙烯酰胺类光致聚合物，以菲醌(pq)/聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)为代表的聚丙烯酸酯类光致聚合物以及硫醇烯烃类光致聚合物。基于pva/aa的光致聚合物起步较早，其制备简单，折射率调制度较高，但是由于aa的亲水性较强且具有毒性，因此在潮湿本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于聚醋酸乙烯酯的光致聚合物复合材料，其特征在于：该材料原料包括丙烯酸酯单体，光敏剂、光引发剂、基质；

2.权利要求1所述的一种基于聚醋酸乙烯酯的光致聚合物复合材料进行全息光栅光致聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先，按照质量比将丙烯酸酯类单体、基质、光引发剂、光敏剂以及N,N-二甲基甲酰胺作为溶剂混合搅拌至均匀状态，之后涂膜并于干燥黑暗的环境中静置直至溶剂挥发形成均匀薄膜；最后在波长为532nm，曝光强度在0.5mW/cm2～50mW/cm2的相干光曝光下发生光化学反应生成周期为700nm的聚合物光栅薄膜，折射率调制度高达0.0034，同时，光敏度最大可...

【技术特征摘要】

1.一种基于聚醋酸乙烯酯的光致聚合物复合材料，其特征在于：该材料原料包括丙烯酸酯单体，光敏剂、光引发剂、基质；

2.权利要求1所述的一种基于聚醋酸乙烯酯的光致聚合物复合材料进行全息光栅光致聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先，按照质量比将丙烯酸酯类单体、基质、光引发剂、光敏剂以及n,n-二甲基甲酰胺作为溶剂混合搅拌至均匀状态，之后涂...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭金鑫，武亦文，张新平，
申请(专利权)人：北京工业大学，
类型：发明
国别省市：