【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开大体上涉及缺陷检验，且更特定来说，涉及使用多种光学模式的缺陷检验。
技术介绍
1、通常在半导体制造工艺中使用检验系统来识别可导致经制造装置的性能降级或失效的制造工艺的缺陷。随着经制造特征大小继续缩小，制造缺陷的大小也缩小。这导致与此类缺陷相关联的更弱可测量信号及缺陷检验期间的更低信噪比(snr)。因此，需要开发用于解决上述缺陷的系统及方法。
技术实现思路
1、根据一或多个说明性实施例，公开一种检验系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含控制器。在另一说明性实施例中，所述控制器通过以下者开发检验配方：使用与n种不同光学检验模式相关联的一或多个光学检验子系统的初步样本的n个检验图像；使用分类器运用来自数目m种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率，其中m大于一且小于n并对应于待包含在所述检验配方中的所述光学检验模式的数目；及基于描述所述背景与缺陷类别之间的区别的度量来选择m种所述光学检验模式的所述组合中的一者。在另一说明性实施例中，所述控制器可使用基于具有m种所述光学检验模式的所述选定组合的所述检验配方产生的测试样本的m个检验图像来识别所述测试样本上的缺陷。
2、根据一或多个说明性实施例，公开一种检验系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含一或多个光学检验子系统及控制器。在另一说明性实施例中，所述控制器通过以下者开发检验配方：从与n种不同光学检验模式相关联的一或多个光学检验子系统接收初步样本的n个检验图像
3、根据一或多个说明性实施例，公开一种检验方法。在一个说明性实施例中，所述方法包含通过以下者开发检验配方：从与n种不同光学检验模式相关联的一或多个光学检验子系统接收初步样本的n个检验图像；使用分类器运用来自数目m种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率，其中m大于一且小于n并对应于待包含在所述检验配方中的所述光学检验模式的数目；及基于描述所述背景与缺陷类别之间的区别的度量来选择m种所述光学检验模式的所述组合中的一者。在另一说明性实施例中，所述方法包含使用基于具有m种所述光学检验模式的所述选定组合的所述检验配方产生的测试样本的m个检验图像来识别所述测试样本上的缺陷。
4、应理解，前文概述及下文详细描述两者仅是示范性及解释性的且不一定限制如所要求的本专利技术。并入说明书中且构成说明书的一部分的附图说明本专利技术的实施例且与所述概述一起用于解释本专利技术的原理。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的检验系统，其中使用基于具有M种所述光学检验模式的所述选定组合的所述检验配方产生的所述测试样本的M个检验图像来识别所述测试样本上的缺陷包括：
3.根据权利要求1所述的检验系统，其中开发所述检验配方进一步包含配准所述初步样本的所述N个检验图像。
4.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述初步样本的所述N个检验图像具有共同数目个像素。
5.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述初步样本的所述N个检验图像及所述测试样本的所述M个检验图像对应于来自所述一或多个光学检验子系统的原始图像。
6.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述初步样本的所述N个检验图像及所述测试样本的所述M个检验图像对应于基于来自所述一或多个光学检验子系统的原始图像与参考图像之间的差异的差异图像。
7.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述缺陷类别包含单个缺陷类别。
8.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述缺陷类别包含两种或更多种缺陷类别。
9.根据权利要求1所述的检验系统
10.根据权利要求9所述的检验系统，其中所述非监督式分类器实施软性聚类技术。
11.根据权利要求10所述的检验系统，其中所述软性聚类技术包括：
12.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述分类器包括：
13.根据权利要求12所述的检验系统，其中所述监督式分类器实施线性鉴别分析(LDA)技术。
14.根据权利要求12所述的检验系统，其中所述监督式分类器根据包含经标记背景或缺陷类别中的至少一者的训练数据进行训练。
15.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述分类器包括：
16.根据权利要求1所述的检验系统，其中使用所述分类器运用来自所述数目M种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的所述位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率包括：
17.根据权利要求1所述的检验系统，其中使用所述分类器运用来自所述数目M种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的所述位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率包括：
18.根据权利要求1所述的检验系统，其中开发所述检验配方进一步包括：
19.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述N种不同光学检验模式与照明波长、照明偏光或照明角中的至少一者的差异相关联。
20.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述N种不同光学检验模式与由所述一或多个光学检验子系统收集且引导到检测器的光的波长、偏光或角度中的至少一者的差异相关联。
21.根据权利要求1所述的检验系统，其中M等于二。
22.根据权利要求1所述的检验系统，其中N大于或等于三。
23.一种检验系统，其包括：
24.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述一或多个光学检验子系统包括：
25.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述一或多个光学检验子系统包括：
26.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述初步样本的所述N个检验图像及所述测试样本的所述M个检验图像对应于来自所述一或多个光学检验子系统的原始图像或基于来自所述一或多个光学检验子系统的所述原始图像与参考图像之间的差异的差异图像中的至少一者。
27.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述分类器包括：
28.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述分类器包括：
29.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述分类器包括：
30.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述N种不同光学检验模式与照明波长、照明偏光或照明角中的至少一者的差异相关联。
31.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述N种不同光学检验模式与由所述一或多个光学检验子系统收集且引导到检测器的光的波长、偏光或角度中的至少一者的差异相关联。
32.一种检验方法，其包括：
33.根据权利要求32所述的检验方法，其中使用基于具有M种所述光学检验模式的所述选定组合的所述检验配方产生的所述测试样本的M个检验图像来识别所述测试样本上的缺陷包括：
34.根据权利要求32所述的检验方法，其中开发所述检验配方进一步包含配准所述初步样本的所述N个检验图像。
35.根据权利要求32所述的检验方法，其中所述初步样本的所述N个检验图像具有共同数目个像素。
36.根据权利要求32所述的检验方法，其中所述初步...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的检验系统，其中使用基于具有m种所述光学检验模式的所述选定组合的所述检验配方产生的所述测试样本的m个检验图像来识别所述测试样本上的缺陷包括：
3.根据权利要求1所述的检验系统，其中开发所述检验配方进一步包含配准所述初步样本的所述n个检验图像。
4.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述初步样本的所述n个检验图像具有共同数目个像素。
5.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述初步样本的所述n个检验图像及所述测试样本的所述m个检验图像对应于来自所述一或多个光学检验子系统的原始图像。
6.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述初步样本的所述n个检验图像及所述测试样本的所述m个检验图像对应于基于来自所述一或多个光学检验子系统的原始图像与参考图像之间的差异的差异图像。
7.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述缺陷类别包含单个缺陷类别。
8.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述缺陷类别包含两种或更多种缺陷类别。
9.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述分类器包括：
10.根据权利要求9所述的检验系统，其中所述非监督式分类器实施软性聚类技术。
11.根据权利要求10所述的检验系统，其中所述软性聚类技术包括：
12.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述分类器包括：
13.根据权利要求12所述的检验系统，其中所述监督式分类器实施线性鉴别分析(lda)技术。
14.根据权利要求12所述的检验系统，其中所述监督式分类器根据包含经标记背景或缺陷类别中的至少一者的训练数据进行训练。
15.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述分类器包括：
16.根据权利要求1所述的检验系统，其中使用所述分类器运用来自所述数目m种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的所述位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率包括：
17.根据权利要求1所述的检验系统，其中使用所述分类器运用来自所述数目m种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的所述位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率包括：
18.根据权利要求1所述的检验系统，其中开发所述检验配方进一步包括：
19.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述n种不同光学检验模式与照明波长、照明偏光或照明角中的至少一者的差异相关联。
20.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述n种不同光学检验模式与由所述一或多个光学检验子系统收集且引导到检测器的光的波长、偏光或角度中的至少一者的差异相关联。
21.根据权利要求1所述的检验系统，其中m等于二。
22.根据权利要求1所述的检验系统，其中n大于或等于三。
23.一种检验系统，其包括：
24.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述一或多个光学检验子系统包括：
25.根据权利要求23所述的检验系统，其中所述一或多个光学检验子系统包括：
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【专利技术属性】
技术研发人员：K·S·维尔克，周珉川，I·巴塔查里亚，A·塞兹希内尔，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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