【技术实现步骤摘要】
本申请涉及放射性测量，尤其涉及一种气体电离室。
技术介绍
1、一般白光中子源能量范围较宽，比如csns/back-n能量范围为0.2ev～200mev，因此，用一种探测器无法完成全能区的准确测量，需通过多种中子探测系统测量分能区测量。相关技术中，广泛用于1mev以下能区中子能谱测量的探测器主要有基于10b(n,α)和6li(n,t)两种反应的闪烁探测器，半导体探测器和电离室型探测器。6li玻璃闪烁探测器配快光电倍增管的时间特性适用于中子飞行时间法，但锂玻璃对γ射线探测效率很高，而对于高通量的白光中子源设置，比如csns-back n，质子打靶瞬间有很强的瞬间伴随gamma-flash，会引起光输出瞬间饱和。相关技术中，对于高通量白光中子源辐射场，如何实现对伴随gamma-flash影响的抑制，防止在高通量白光中子源辐射场下，由于质子打靶瞬间产生的很强的伴随gamma-flash在测量装置内引起饱和信号，即产生的强干扰信号，使得不能有效收集中子信号，出现能量测量范围截断的结果是一个难题。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例期望提供一种气体电离室，能够降低干扰信号的产生，从而提高气体电离室的能量分辨率。
2、为达到上述目的，本申请的实施例提供了一种气体电离室，包括：
3、壳体，所述壳体呈圆柱状，且内部设置有容纳腔，所述壳体沿轴向的两端分别设置有入射口和出射口，所述入射口至所述出射口的方向为中子束入射方向；
4、阳极板，设置于所述容纳腔，且与粒子
5、阴极板，设置于所述容纳腔，且与粒子束入射方向垂直；
6、窗组件，所述入射口和所述出射口的至少其中之一密封设置有所述窗组件，所述窗组件包括窗迈拉膜，所述窗迈拉膜与所述壳体密封配合，粒子束经所述窗迈拉膜进出所述容纳腔。
7、一些实施例中，所述窗迈拉膜的厚度为10μm-80μm。
8、一些实施例中，所述窗迈拉膜的厚度为20μm-60μm。
9、一些实施例中，所述窗组件还包括安装环，所述安装环与所述壳体连接，并将所述窗迈拉膜夹持在二者之间。
10、一些实施例中，所述窗迈拉膜的两侧设置有光滑的窗铝镀层，所述窗铝镀层的厚度为35nm-45nm。
11、一些实施例中，所述阳极板包括阳极迈拉膜，所述阳极迈拉膜的两侧设置有光滑的阳极铝镀层。
12、一些实施例中，所述阳极迈拉膜的厚度为6μm-23μm。
13、一些实施例中，所述阳极板包括两个阳极连接环，两个所述阳极连接环将所述阳极迈拉膜夹持在二者之间，且所述阳极连接环为pcb环。
14、一些实施例中，所述阴极板包括阴极迈拉膜，所述阴极迈拉膜的两侧设置有光滑的阴极铝镀层，且所述阴极铝镀层的外侧设置有靶。
15、一些实施例中，所述阴极迈拉膜的厚度为6μm-23μm。
16、一些实施例中，所述阴极板还包括两个阴极连接环，两个所述阴极连接环将所述阴极迈拉膜夹持在二者之间，且所述阴极连接环为pcb环。
17、一些实施例中，所述气体电离室还包括两个栅极板，所述阳极板的数量为两个，且分别设置于所述阴极板沿所述壳体的轴向的两端，两个所述栅极板分别设置于两个所述阳极板与所述阴极板之间。
18、一些实施例中，所述阳极板、所述阴极板、所述栅极板和所述窗迈拉膜均呈圆形。
19、一些实施例中，所述栅极板包括pcb板固定环以及与所述pcb板固定环连接的栅丝。
20、一些实施例中，所述气体电离室还包括连接件和多个套设于所述连接件的间隔件，所述阳极板、所述阴极板以及所述栅极板套设于所述连接件，所述阳极板、所述阴极板以及所述栅极板之间通过多个所述间隔件间隔设置。
21、本申请实施例提供的气体电离室，包括壳体、阳极板、阴极板和窗组件。壳体呈圆柱状，且内部设置有容纳腔，壳体沿轴向的两端分别设置有入射口和出射口，入射口至出射口的方向为中子束入射方向，也就是说，粒子束经入射口进入容纳腔，并从出射口流出容纳腔，粒子束入射方向与阳极板和阴极板均垂直。通过将窗组件设置为包括窗迈拉膜，窗迈拉膜与壳体密封配合，粒子束经窗迈拉膜进出容纳腔，如此，有效减少了粒子束进出容纳腔需要透过的结构材料，在粒子束线上进行测量时，减少了粒子束上物质的量，可有效降低中子及γ与束上物质作用产生的强干扰信号，从而提高气体电离室的能量分辨率。此外，窗迈拉膜具有比常用金属(比如铝、不锈钢等)更好的延展性，有利于实现光滑平整的镜面效果，能够进一步地降低干扰信号的产生。
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1.一种气体电离室，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述窗迈拉膜的厚度为10μm-80μm。
3.根据权利要求2所述的气体电离室，其特征在于，所述窗迈拉膜的厚度为20μm-60μm。
4.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述窗组件还包括安装环，所述安装环与所述壳体连接，并将所述窗迈拉膜夹持在二者之间。
5.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述窗迈拉膜的两侧设置有光滑的窗铝镀层，所述窗铝镀层的厚度为35nm-45nm。
6.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述阳极板包括阳极迈拉膜，所述阳极迈拉膜的两侧设置有光滑的阳极铝镀层。
7.根据权利要求6所述的气体电离室，其特征在于，所述阳极迈拉膜的厚度为6μm-23μm。
8.根据权利要求6所述的气体电离室，其特征在于，所述阳极板包括两个阳极连接环，两个所述阳极连接环将所述阳极迈拉膜夹持在二者之间，且所述阳极连接环为PCB环。
9.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，
10.根据权利要求9所述的气体电离室，其特征在于，所述阴极迈拉膜的厚度为6μm-23μm；和/或，所述阴极板还包括两个阴极连接环，两个所述阴极连接环将所述阴极迈拉膜夹持在二者之间，且所述阴极连接环为PCB环。
11.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述气体电离室还包括两个栅极板，所述阳极板的数量为两个，且分别设置于所述阴极板沿所述壳体的轴向的两端，两个所述栅极板分别设置于两个所述阳极板与所述阴极板之间。
12.根据权利要求11所述的气体电离室，其特征在于，所述阳极板、所述阴极板、所述栅极板和所述窗迈拉膜均呈圆形。
13.根据权利要求11所述的气体电离室，其特征在于，所述栅极板包括PCB板固定环以及与所述PCB板固定环连接的栅丝。
14.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述气体电离室还包括连接件和多个套设于所述连接件的间隔件，所述阳极板、所述阴极板以及所述栅极板套设于所述连接件，所述阳极板、所述阴极板以及所述栅极板之间通过多个所述间隔件间隔设置。
...【技术特征摘要】
1.一种气体电离室，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述窗迈拉膜的厚度为10μm-80μm。
3.根据权利要求2所述的气体电离室，其特征在于，所述窗迈拉膜的厚度为20μm-60μm。
4.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述窗组件还包括安装环，所述安装环与所述壳体连接，并将所述窗迈拉膜夹持在二者之间。
5.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述窗迈拉膜的两侧设置有光滑的窗铝镀层，所述窗铝镀层的厚度为35nm-45nm。
6.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述阳极板包括阳极迈拉膜，所述阳极迈拉膜的两侧设置有光滑的阳极铝镀层。
7.根据权利要求6所述的气体电离室，其特征在于，所述阳极迈拉膜的厚度为6μm-23μm。
8.根据权利要求6所述的气体电离室，其特征在于，所述阳极板包括两个阳极连接环，两个所述阳极连接环将所述阳极迈拉膜夹持在二者之间，且所述阳极连接环为pcb环。
9.根据权利要求1所述的气体电离室，其特征在于，所述阴极板包括阴极迈拉膜，...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘毅娜，何逾洋，刘蕴韬，王志强，李春娟，徐新宇，王红玉，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：发明
国别省市：
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