一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽制造技术

技术编号:41232227 阅读:15 留言:0更新日期:2024-05-09 23:47
本发明专利技术涉及一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,属于辐射监测和放射性样品分析技术领域,所述电沉积槽包括盖子、槽体、中间底座、导电底座、导电螺丝、镀片,其中,所述盖子放置在槽体上方;所述槽体与中间底座连接;所述中间底座内部放置镀片,与导电底座连接;所述导电底座设有一中心孔与导电螺丝连接。本发明专利技术所述的放射性核素电沉积的电沉积槽,保证了电沉积过程不漏液;镀片活性区直径最大化;安装方便,操作便捷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及辐射监测和放射性样品分析,具体涉及一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽


技术介绍

1、放射性核素如u、pu、am、cm、th、co、np等在进行分离纯化后,需要进行电沉积制源,才能够进行放射性测量。部分分析标准中给出了电沉积槽的示意图,用于厚0.5mm,直径16mm的镀片,未给出活性区有效直径大小。多数实验室根据示意图自行加工电沉积槽,为了保证电沉积槽的密封性,活性区有效直径大小可能只有5mm左右,这使放射性核素在电沉积时镀层厚度增加,对α放射性的测量严重干扰。

2、所以需要研究出一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,保证了电沉积过程不会出现漏液;可适配不同大小的镀片并最大化活性区有效直径;安装方便,操作便捷。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是为了建立一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,以解决现有技术中放射性核素电沉积过程使用的电沉积槽需繁琐安装,易出现漏液的问题,同时能够最大化活性区的有效直径,降低镀层厚度,提高分辨率。

2、为了实现上述目的,本专利技术采用的技术方案本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,包括盖子、槽体、中间底座、导电底座、导电螺丝、镀片,其特征在于:所述盖子放置在槽体上方;所述槽体与中间底座连接;所述中间底座内部放置镀片,与导电底座连接;所述导电底座设有一中心孔与导电螺丝连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,其特征在于,所述电沉积槽的盖子至少设有三个孔,一个孔用来固定阳极电极,一个孔用来透气,一个孔用来添加试剂。

3.根据权利要求2所述的一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,其特征在于,所述电沉积槽的盖子,与槽体连接的方式用螺纹,或是直接放置在在槽体上方。p>

4.根据权...

【技术特征摘要】

1.一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,包括盖子、槽体、中间底座、导电底座、导电螺丝、镀片,其特征在于:所述盖子放置在槽体上方;所述槽体与中间底座连接;所述中间底座内部放置镀片,与导电底座连接;所述导电底座设有一中心孔与导电螺丝连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,其特征在于,所述电沉积槽的盖子至少设有三个孔,一个孔用来固定阳极电极,一个孔用来透气,一个孔用来添加试剂。

3.根据权利要求2所述的一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,其特征在于,所述电沉积槽的盖子,与槽体连接的方式用螺纹,或是直接放置在在槽体上方。

4.根据权利要求1所述的一种用于放射性核素电沉积的电沉积槽,其特征在于,所述槽体为圆柱体,一端必须有螺纹,用于与中间底座连接,另一端与所述盖子连接。

5.根据权利要求1所述的一种用...

【专利技术属性】
技术研发人员:马旭媛李鹏翔韩玉虎王瑞俊廉冰李周李晋浩卢凯特张峰杜柯
申请(专利权)人:中国辐射防护研究院
类型:发明
国别省市:

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