基板处理装置和其使用的支承架制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置和其使用的支承架。提供能够有效利用基板处理装置的维护操作等中使用的脚手架的下方空间的支承架。在为了支承具备多个处理室（１１０）的基板处理装置（１００）而设置在地面上的支承架（１４０）上，在距地面规定高度的部位以从处理室的周围向外侧伸出的方式直接设置有脚手架（１６０）。该脚手架具备安装在支承架的外侧的多个支承托架（１６２）、和被上述支承托架水平支承的脚手架板（１６４）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具备对被处理基板实施规定处理的处理室的基板处理 装置和用于支承该基板处理装置的支承架。
技术介绍
在半导体制造工序中，使用用于对玻璃基板(例如液晶显示器等 的平板显示基板)或半导体晶片(以下，也简称为"晶片")等被处理 基板实施蚀刻处理、成膜处理等规定的工艺处理的基板处理装置。近 年来，以高集成化和高处理量化为目的，广泛使用具备多个处理室(腔 室)的多腔室型基板处理装置。在这种基板处理装置中，多个处理室 和搬送室通过闸阀连接，利用搬送室内所具备的搬送机构，将被处理 基板连续地依次搬入各处理室，在各处理室内，对被处理基板实施各 自的工艺处理。在将上述那样的基板处理装置设置在清洁室内时，在清洁室的地 面上配置能够载置处理室的大小的支承架，将处理室载置在该支承架 上，并且在支承架的内部空间配置控制设备、匹配器、真空泵、各种电缆、气体管等。例如，在下述专利文献l、 2中记载了支承处理室的 支承架。但是，如果如上述那样将处理室载置在支承架上，则处理室就会 位于清洁室的地面上方。并且，最近，处理室的大型化日益进展，处 理室的顶部进一步增高，操作者难以在直接站立在地面上的状态下进 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种支承架，其用于支承具备对被处理基板实施规定处理的处理室的基板处理装置，该支承架配置在地面上，其特征在于：　在距所述地面规定高度的部位，以从所述处理室的周围向外侧伸出的方式直接设置有脚手架。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山田俊一，下健一，中込阳一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]