【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体上涉及叠对度量且更特定来说，涉及一种用于使用光调制进行叠对度量的系统及方法。
技术介绍
1、叠对度量通常指的是样本(例如(但不限于)半导体装置)上的层的相对对准的测量。叠对测量或叠对误差的测量通常指的是两个或更多个样本层上的经制造特征的未对准的测量。在一般意义上，多个样本层上的经制造特征的适当对准对于装置的适当作用是必要的。
2、对于减小特征大小且增加特征密度的需求导致对于准确且有效的叠对度量的对应增加的需求。度量系统通常通过测量或以其它方式检验跨样本分布的专属度量目标(即，叠对目标)而产生与样本相关联的度量数据。因此，样本通常安装于平移载物台上且经平移使得度量目标被循序地移动到测量视场中。在采用移动及测量(mam)方法的典型度量系统中，样本在每一测量期间是静态的。然而，平移载物台在测量之前安定所需的时间可负面影响处理能力。因此，可期望提供用于解决上文的缺陷的系统及方法。
技术实现思路
1、根据本公开的一或多个说明性实施例，公开一种叠对度量系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含经配置以产生照明光束的照明源。在另一说明性实施例中，所述系统包含具有物镜的集光子系统，所述物镜经配置以根据度量配方收集响应于所述照明光束而从样本发出的测量光，其中所述样本包含根据所述度量配方包括至少两个层的叠对目标。在另一说明性实施例中，所述系统包含定位于第一瞳平面处的一或多个检测器。在另一说明性实施例中，所述系统包含定位于第二瞳平面处的光调制器，其中所述光调制器经配置以将所述第二
2、根据本公开的一或多个说明性实施例，公开一种具有场平面检测器的叠对度量系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含经配置以产生照明光束的照明源。在另一说明性实施例中，所述系统包含具有物镜的集光子系统，所述物镜经配置以根据度量配方收集响应于所述照明光束而从样本发出的测量光，其中所述样本包含根据所述度量配方包括至少两个层的叠对目标。在另一说明性实施例中，所述系统包含定位于集光场平面处的一或多个检测器。在另一说明性实施例中，所述系统包含定位于集光瞳平面处的光调制器，其中所述光调制器经配置以将所述集光瞳平面中的所述测量光的一或多个选定部分引导到所述一或多个检测器。在另一说明性实施例中，所述系统包含通信地耦合到所述集光子系统的控制器，所述控制器包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行程序指令，从而引起所述一或多个处理器通过以下执行所述度量配方：接收来自所述一或多个检测器的检测信号，其中所述检测信号与引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分相关联。在另一说明性实施例中，所述一或多个处理器进一步经配置以执行程序指令，从而引起所述一或多个处理器通过以下执行所述度量配方：根据度量配方，基于所述检测信号产生与所述样本的所述至少两个层相关联的叠对测量。
3、根据本专利技术的一或多个说明性实施例，公开一种用于叠对度量的方法。在一个说明性实施例中，所述方法包含使用定位于第二瞳平面中的光调制器将所述第二瞳平面中的测量光的一或多个选定部分引导到定位于第一瞳平面处的一或多个检测器，所述一或多个选定部分从样本发出。在另一说明性实施例中，所述方法包含接收来自所述一或多个检测器的检测信号，其中所述检测信号与所述测量光的所述一或多个选定部分相关联。在另一说明性实施例中，所述方法包含基于所述检测信号产生与所述样本的两个层相关联的叠对测量。
4、应理解，前文概述及下文详细描述两者仅是示范性及说明性的且未必限制如主张的本专利技术。并入本说明书中且构成本说明书的部分的附图说明本专利技术的实施例且与概述一起用于解释本专利技术的原理。
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1.一种叠对度量系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中根据所述度量配方，所述接收所述检测信号在所述样本相对于所述一或多个检测器处于运动中时发生，使得所述检测信号是时变干涉信号。
3.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述光调制器经配置以可动态地调整以提供经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分的动态选择。
4.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述光调制器包括：
5.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述一或多个检测器包括：
6.根据权利要求5所述的叠对度量系统，
7.根据权利要求6所述的叠对度量系统，其中所述两个或更多个检测器中的至少一者包括：
8.根据权利要求6所述的叠对度量系统，其中所述测量光的所述一或多个选定部分包含以下中的至少一者：
9.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分从所述光调制器反射。
10.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中经引导到所述一
11.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中在所述样本是静态时，所述一或多个检测器产生所述检测信号。
12.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述一或多个检测器包括：
13.根据权利要求12所述的叠对度量系统，其中所述多像素传感器包括：
14.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述一或多个检测器的传感器元件未填满所述第一瞳平面，其中所述光调制器将所述测量光的所述一或多个选定部分引导到所述传感器元件的位置。
15.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述叠对目标中的所述样本的所述至少两个层上的光栅结构具有共同节距。
16.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述叠对目标中的所述样本的所述至少两个层上的光栅结构具有不同节距，其中由所述光栅结构形成的光栅叠光栅结构是摩尔结构。
17.根据权利要求16所述的叠对度量系统，其中所述照明光束是环形的，其中引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分包含来自所述摩尔结构的环形衍射阶的重叠区。
18.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述照明光束是圆形的，其中经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分包含来自所述样本的所述至少两个层上的摩尔结构的圆形衍射阶的重叠区。
19.一种具有场平面检测器的叠对度量系统，其包括：
20.根据权利要求19所述的叠对度量系统，
21.一种用于叠对度量的方法，所述方法包括：
22.根据权利要求21所述的方法，其中所述接收所述检测信号在所述样本相对于所述一或多个检测器处于运动中时发生，使得所述检测信号是时变干涉信号。
23.根据权利要求21所述的方法，所述引导所述测量光的所述选定部分包括：
24.根据权利要求21所述的方法，其中所述光调制器包括：
25.根据权利要求21所述的方法，其中经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述选定部分从所述光调制器反射。
26.根据权利要求21所述的方法，其中经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述选定部分由所述光调制器透射。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种叠对度量系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中根据所述度量配方，所述接收所述检测信号在所述样本相对于所述一或多个检测器处于运动中时发生，使得所述检测信号是时变干涉信号。
3.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述光调制器经配置以可动态地调整以提供经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分的动态选择。
4.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述光调制器包括：
5.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述一或多个检测器包括：
6.根据权利要求5所述的叠对度量系统，
7.根据权利要求6所述的叠对度量系统，其中所述两个或更多个检测器中的至少一者包括：
8.根据权利要求6所述的叠对度量系统，其中所述测量光的所述一或多个选定部分包含以下中的至少一者：
9.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分从所述光调制器反射。
10.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分由所述光调制器透射。
11.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中在所述样本是静态时，所述一或多个检测器产生所述检测信号。
12.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述一或多个检测器包括：
13.根据权利要求12所述的叠对度量系统，其中所述多像素传感器包括：
14.根据权利要求1所述的叠对度量系统，其中所述一或多个检测器的传感器元件未填满所述第一瞳平面，其中所述光调制器将所述测量光的所...
【专利技术属性】
技术研发人员：Y·帕斯卡维尔，I·戈多尔，Y·卢巴舍夫斯基，V·莱温斯基，A·沃尔夫曼，Y·于齐耶尔，Y·梅恩，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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