System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种529nm和533nm双波长连续激光器及方法技术_技高网

一种529nm和533nm双波长连续激光器及方法技术

技术编号:41208428 阅读:5 留言:0更新日期:2024-05-09 23:30
本发明专利技术公开了一种529nm和533nm双波长连续激光器及方法,其属于半导体泵浦全固态激光器领域,其技术要点在于:包括:半导体泵浦激光器、光学聚焦系统、谐振腔、双波长激光增益介质、倍频器件;其中,双波长激光增益介质设置在所述谐振腔内;其中,所述双波长激光增益介质为沿z轴光学主轴方向切割的掺钕硅酸钙铊镓晶体。通过调控基频双波长的发射截面竞争,产生同步振荡的基频双波长相干光输出,并通过倍频晶体产生二次谐波,获得可见光波段的529nm和533nm双波长连续激光输出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体泵浦全固态激光器领域,更具体地说,尤其涉及一种529nm和533nm双波长连续激光器及方法


技术介绍

1、在大气遥感探测领域,差分吸收激光雷达技术(dial)是检测二氧化氮气体浓度和时空分布的重要手段。其原理是向大气中发射不波长不同的两束激光,利用二氧化氮气体成分对不同波长激光的吸收差值,推算气体的浓度和时空分布,具有空间分辨率高、探测灵敏度高、测量范围大的优点。

2、在250-600nm的可见光波段内,二氧化氮气体对光的吸收截面较大,且具有多峰值吸收的特点,易形成双波长吸收差,且在这个范围内,其他气体,如臭氧,二氧化硫等,对光的吸收作用非常微弱,对二氧化氮气体浓度测量影响较小。

3、因此,在250-600nm内建立双波长激光发射,寻找双波长同步振荡激光器,是利用差分吸收激光雷达检测二氧化氮浓度的关键任务。

4、对于此问题,有以下两种解决方案。

5、一类方案是可见光双波长直接激发,利用nd:yag激光器泵浦染料激光器或两台光参量放大器,生成双广场激光激发,或者生成770nm和774nm双波长激光,再与nd:yag激光器基频光进行和频,获得448nm和446nm双波长激光输出。但是这类方法需要的染料激光器转换效率低、需要频繁更换燃料,且系统复杂。

6、另一类方法是用ld端面泵浦的固体激光器,在近红外波段生成双波长激光发射,再通过简单的倍频方式将频率转换到可见光波段,这类方法结构简单,不需要复杂的谐振腔,但是需要找到合适的增益介质,需要在近红外波段具有相近的双受激辐射峰,且可以通过控制晶体切向和泵浦功率控制双波长组分的强度比。

7、综上所述,250-600nm内建立双波长激光发射的研究仍然不充分,有待改进。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于针对上述现有技术的不足,提供一种529nm和533nm双波长连续激光器。

2、本专利技术的另一目的在于提供一种获得529nm和533nm双波长连续激光输出的方法。

3、本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:

4、一种529nm和533nm双波长连续激光器,包括:半导体泵浦激光器(1)、光学聚焦系统(3)、谐振腔、双波长激光增益介质(5)、倍频器件(6);

5、其中,双波长激光增益介质(5)设置在所述谐振腔内;

6、其中,按照光路的前进方向:半导体泵浦激光器(1)、光学聚焦系统(3)、谐振腔以及双波长激光增益介质(5)构成的整体结构、倍频器件(6)依次设置;

7、其中,所述双波长激光增益介质为沿z轴光学主轴方向切割的掺钕硅酸钙铊镓晶体。

8、进一步,所述硅酸钙铊镓晶体属于三方晶系、32点群、各向异性晶体,钕离子掺杂浓度为0.5at.%。

9、进一步,所述谐振腔包括:谐振腔输入端面镀膜镜片(4)、谐振腔输出端面镀膜镜片(6);双波长激光增益介质(5)设置在所述谐振腔输入端面镀膜镜片(4)与所述谐振腔输出端面镀膜镜片(6)之间。

10、进一步,双波长激光增益介质(5)的两个通光端面表面镀膜形成谐振腔。

11、进一步,谐振腔输入端面镀膜镜片(4)为镀介质膜的平面镜,镀膜情况为:对抽运光波长808nm具有高透过率,透过率大于99%,对基频波长1058nm和1066nm具有高反射率,反射率大于99%,对倍频光波长529nm和533nm具有高反射率,反射率大于99%;

12、谐振腔输出端面镀膜镜片(6)为镀介质膜的平面镜,镀膜情况为:对抽运光波长808nm具有高透过率,透过率大于99%,对基频波长1058nm和1066nm具有高反射率,反射率大于99%,对倍频光波长529nm和533nm高透过,透过率大于99%。

13、进一步,倍频器件(7)为具有一类相位匹配的非线性光学晶体。

14、进一步,所述非线性晶体是本征晶体,其为磷酸钛氧钾(ktp)或磷酸二氢钾(kdp)或偏硼酸钡(bbo)或三硼酸锂(lbo)中的任意一种,能够同时实现对1058nm和1066nm的一类相位匹配。

15、本专利技术的有益效果是:

16、(1)本专利技术的第一个专利技术点在于:提出了一种具有高相干性的用于太赫兹波产生源的半导体端面泵浦529nm和533nm双波长连续激光器。其工作为连续运转模式,其选取钕离子掺杂的硅酸钙铊镓晶体作为增益介质,通过选取z轴光学主轴作为切割轴,调控基频1058nm和1065nm波长光的受激发射截面,并控制其在谐振腔内的振荡竞争,形成两个不同波长的纵模在激光谐振腔内同时振荡并激射,产生基频双波长连续激光输出,再采用一个一类相位匹配的倍频器件(一般是具有非线性效应的光学晶体),在腔内或者腔外对基频双波长进行倍频,形成二次谐波振荡,最终获得529nm和533nm双波长连续激光输出。

17、(2)本专利技术的第二个专利技术点在于:采用半导体端面泵浦掺钕硅酸钙铊镓晶体,钕离子掺杂浓度为0.5at.%,硅酸钙铊镓晶体(ctgs)属于三方晶系,32点群,是各向异性晶体,1微米波段的受激辐射截面强度随切割方向变化,且1058nm和1065nm两个波长组分在不同方向上的强度分布是不同的。选取光学主轴z轴方向切割[001],z轴与晶体学主轴c轴重合,该方向同时满足两个条件:1微米波段的受激发射截面最大,1058nm和1065nm两个波长的受激发射截面同时存在且强度相当。通过调控基频双波长的发射截面竞争,产生同步振荡的基频双波长相干光输出。然后通过倍频晶体产生二次谐波,获得可见光波段的529nm和533nm双波长连续激光输出。输出的双波长功率比值取决于泵浦光的输入功率。同时有效的提高泵浦光能量的利用率,通过谐振腔的合理设计实现良好的腔模匹配,从而获得高光束质量的激光输出。

18、(3)本专利技术的第三个专利技术点在于:采用调控泵浦激光功率的方法,调控输出的基频光谱中1058nm和1065nm两个波长组分的强度占比,1065nm波长组分的泵浦功率阈值为0.5w,1058nm波长组分的泵浦功率阈值为4.2w(此处需要说明的是:半导体泵浦激光器的数量是1个,在高泵浦时,一束光内同时有两个波长成分),进而调控529nm和533nm双波长激光组分强度比。

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【技术保护点】

1.一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,包括:半导体泵浦激光器(1)、光学聚焦系统(3)、谐振腔、双波长激光增益介质(5)、倍频器件(6);

2.根据权利要求1所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,所述硅酸钙铊镓晶体属于三方晶系、32点群、各向异性晶体,钕离子掺杂浓度为0.5at.%。

3.根据权利要求1所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,所述谐振腔包括:谐振腔输入端面镀膜镜片(4)、谐振腔输出端面镀膜镜片(6);双波长激光增益介质(5)设置在所述谐振腔输入端面镀膜镜片(4)与所述谐振腔输出端面镀膜镜片(6)之间。

4.根据权利要求1所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,双波长激光增益介质(5)的两个通光端面表面镀膜形成谐振腔。

5.根据权利要求3所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,振腔输入端面镀膜镜片(4)为镀介质膜的平面镜,镀膜情况为:对抽运光波长808nm具有高透过率,透过率大于99%,对基频波长1058nm和1066nm具有高反射率,反射率大于99%,对倍频光波长529nm和533nm具有高反射率,反射率大于99%;

6.根据权利要求1至5任意所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,倍频器件(7)为具有一类相位匹配的非线性光学晶体。

7.根据权利要求6所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,所述非线性晶体是本征晶体,其为磷酸钛氧钾(KTP)或磷酸二氢钾(KDP)或偏硼酸钡(BBO)或三硼酸锂(LBO)中的任意一种,能够同时实现对1058nm和1066nm的一类相位匹配。

8.一种获得529nm和533nm双波长连续激光输出的方法,其特征在于,采用如权利要求1所述的529nm和533nm双波长连续激光器来输出529nm和533nm双波长连续激光;

9.一种获得529nm和533nm双波长连续激光输出的方法,其特征在于,采用如权利要求3所述的529nm和533nm双波长连续激光器来输出529nm和533nm双波长连续激光;

10.根据权利要求9所述的一种获得529nm和533nm双波长连续激光输出的方法,其特征在于:

...

【技术特征摘要】

1.一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,包括:半导体泵浦激光器(1)、光学聚焦系统(3)、谐振腔、双波长激光增益介质(5)、倍频器件(6);

2.根据权利要求1所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,所述硅酸钙铊镓晶体属于三方晶系、32点群、各向异性晶体,钕离子掺杂浓度为0.5at.%。

3.根据权利要求1所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,所述谐振腔包括:谐振腔输入端面镀膜镜片(4)、谐振腔输出端面镀膜镜片(6);双波长激光增益介质(5)设置在所述谐振腔输入端面镀膜镜片(4)与所述谐振腔输出端面镀膜镜片(6)之间。

4.根据权利要求1所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,双波长激光增益介质(5)的两个通光端面表面镀膜形成谐振腔。

5.根据权利要求3所述的一种529nm和533nm双波长连续激光器,其特征在于,振腔输入端面镀膜镜片(4)为镀介质膜的平面镜,镀膜情况为:对抽运光波长808nm具有高透过率,透过率大于99%,对基频波长1058nm和1066nm具有...

【专利技术属性】
技术研发人员:周莹
申请(专利权)人:北京航空航天大学杭州创新研究院
类型:发明
国别省市:

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