【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于连接器领域，具体涉及一种自平衡静密封结构及水下连接器。
技术介绍
1、连接器在水下作业领域有着广泛的应用。对于应用在深水环境下的连接器，目前技术人员通常会在连接器内部填充液体以平衡旋转连接器内外的压力。但是对于光电旋转连接器而言，在连接器内部填充液体会影响其内部光通路的传导性能。对于像这样不能在内部填充液体的连接器，一般通过密封件来实现其上各处所需的静密封连接。但是如图1所示，现有的静密封结构2通常是由一个或多个并列布置的普通密封圈3构成的。在水下连接器1内外两侧具有较大压差时，外界水在压差作用下容易挤开普通密封件3进入到水下连接器1中，因而密封可靠性不佳。除此之外，由于普通密封圈3普遍采用橡胶材质制成，在水下环境使用时，普通密封圈3容易受环境影响发生老化，进而诱使水下连接器1上发生泄露。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种自平衡静密封结构，以解决现有静密封结构在两侧存在较大压差时存在泄露风险的技术问题。本专利技术的目的还在于提供一种水下连接器，以解决水下连接器应用在深水环境时其上静密封结构密封可靠性不佳的技术问题。
2、本专利技术采用如下技术方案：
3、一种自平衡静密封结构，包括外壳体与内壳体，外壳体与内壳体之间设置有两个以上密封件；所述外壳体上于至少两个相邻的密封件之间设置有用于填充密封油的密封腔；所述密封腔内设置有活塞，所述活塞滑动密封安装在密封腔内且具有暴露在外界环境中的承压面，以使其可在外界环境的压力下滑动以平衡其旁侧密封
4、进一步地，所述密封腔朝向内壳体的一端设置有第一挡凸，以使活塞滑动至其与第一挡凸挡止的位置时密封腔内仍有部分空间可用于填充密封油。
5、进一步地，所述密封腔背向内壳体的一端设置有第二挡凸，所述活塞包括密封滑动配合在密封腔内的活塞头以及从第二挡凸中穿出的活塞杆。
6、进一步地，所述外壳体包括主壳体及固定装配在主壳体上的限位件；所述密封腔开设在主壳体上，所述限位件上对应密封腔的位置开设有孔径小于密封腔的腔口的限位孔或槽宽小于密封腔的腔口的限位槽，以便通过限位孔的孔沿或限位槽的槽沿构成所述的第二挡凸。
7、进一步地，位于密封腔向外的旁侧的密封件为格来圈；位于密封腔向内的旁侧的密封件为星形圈。
8、有益效果：本专利技术对现有的静密封结构进行了改进，具体提出一种自平衡静密封结构。本专利技术所述自平衡静密封结构包括外壳体与内壳体，外壳体与内壳体之间设置有两个以上密封件。本专利技术的关键之处在于，外壳体上于至少两个相邻的密封件之间设置有用于填充密封油的密封腔。这样的设置可使外壳体与内壳体的于至少两个相邻的密封件之间的配合间隙内填充有密封油，进一步加强了外壳体与内壳体之间的密封效果。在此基础上，可以在密封腔内设置活塞，并使活塞滑动密封安装在密封腔内且具有暴露在外界环境中的承压面。这样的设置可使活塞能够通过承压面受到外界环境的压力，并在该压力作用下受迫滑动以挤压其内部的密封油。这样可使与外界环境接触的密封件两侧的压力趋向于平衡，以防止该密封件在单侧承受过大压力时受迫发生泄露。因此在自平衡静密封结构两侧具有较大压差时，外界杂质也不容易在压差作用下挤开最外侧的密封件进入到密封腔中，进而使自平衡静密封结构应用在高压环境下时能够避免泄露的风险。
9、一种水下连接器，包括自平衡静密封结构，自平衡静密封结构包括外壳体与内壳体，外壳体与内壳体之间设置有两个以上密封件；所述外壳体上于至少两个相邻的密封件之间设置有用于填充密封油的密封腔；所述密封腔内设置有活塞，所述活塞滑动密封安装在密封腔内且具有暴露在外界水环境中的承压面，以使其可在外界水环境的压力下滑动以平衡其旁侧密封件的两侧压力。
10、进一步地，所述密封腔朝向内壳体的一端设置有第一挡凸，以使活塞滑动至其与第一挡凸挡止的位置时密封腔内仍有部分空间可用于填充密封油。
11、进一步地，所述密封腔背向内壳体的一端设置有第二挡凸，所述活塞包括密封滑动配合在密封腔内的活塞头以及从第二挡凸中穿出的活塞杆。
12、进一步地，所述外壳体包括主壳体及固定装配在主壳体上的限位件；所述密封腔开设在主壳体上，所述限位件上对应密封腔的位置开设有孔径小于密封腔的腔口的限位孔或槽宽小于密封腔的腔口的限位槽，以便通过限位孔的孔沿或限位槽的槽沿构成所述的第二挡凸。
13、进一步地，位于密封腔向外的旁侧的密封件为格来圈；位于密封腔向内的旁侧的密封件为星形圈。
14、有益效果：本专利技术对现有的旋转连接器进行了改进，具体提出一种水下连接器。本专利技术所述水下连接器包括自平衡静密封结构。自平衡静密封结构包括外壳体与内壳体，外壳体与内壳体之间设置有两个以上密封件。本专利技术的关键之处在于，外壳体上于至少两个相邻的密封件之间设置有用于填充密封油的密封腔。这样的设置可使外壳体与内壳体的于至少两个相邻的密封件之间的配合间隙内填充有密封油，进一步加强了外壳体与内壳体之间的密封效果。在此基础上，可以在密封腔内设置活塞，并使活塞滑动密封安装在密封腔内且具有暴露在外界环境中的承压面。这样的设置可使活塞能够通过承压面受到外界环境的压力，并在该压力作用下受迫滑动以挤压其内部的密封油。这样可使与外界环境接触的密封件两侧的压力趋向于平衡，以防止该密封件在单侧承受过大压力时受迫发生泄露。因此在自平衡静密封结构两侧具有较大压差时，外界杂物也不容易在压差作用下挤开最外侧的密封件进入到密封腔中，进而使自平衡静密封结构应用在高压环境下时能够避免泄露的风险。因此采用上述自平衡静密封结构的水下连接器能够在深水环境下保证其上具有良好的密封可靠性，不容易因为泄露而发生失效。
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1.一种自平衡静密封结构，包括外壳体（4）与内壳体（5），外壳体（4）与内壳体（5）之间设置有两个以上密封件；其特征在于，所述外壳体（4）上于至少两个相邻的密封件之间设置有用于填充密封油（7）的密封腔（6）；所述密封腔（6）内设置有活塞，所述活塞滑动密封安装在密封腔（6）内且具有暴露在外界环境中的承压面（13），以使其可在外界环境的压力下滑动以平衡其旁侧密封件的两侧压力。
2.根据权利要求1所述的自平衡静密封结构，其特征在于，所述密封腔（6）朝向内壳体（5）的一端设置有第一挡凸（8），以使活塞滑动至其与第一挡凸（8）挡止的位置时密封腔（6）内仍有部分空间可用于填充密封油（7）。
3.根据权利要求2所述的自平衡静密封结构，其特征在于，所述密封腔（6）背向内壳体（5）的一端设置有第二挡凸（9），所述活塞包括密封滑动配合在密封腔（6）内的活塞头（10）以及从第二挡凸（9）中穿出的活塞杆（11）。
4.根据权利要求3所述的自平衡静密封结构，其特征在于，所述外壳体（4）包括主壳体及固定装配在主壳体上的限位件（14）；所述密封腔（6）开设在主壳体上，所述限
5.根据权利要求1-4任一项所述的自平衡静密封结构，其特征在于，位于密封腔（6）向外的旁侧的密封件为格来圈（16）；位于密封腔（6）向内的旁侧的密封件为星形圈（17）。
6.一种水下连接器，包括自平衡静密封结构，其特征在于，所述自平衡静密封结构包括外壳体（4）与内壳体（5），外壳体（4）与内壳体（5）之间设置有两个以上密封件；所述外壳体（4）上于至少两个相邻的密封件之间设置有用于填充密封油（7）的密封腔（6）；所述密封腔（6）内设置有活塞，所述活塞滑动密封安装在密封腔（6）内且具有暴露在外界环境中的承压面（13），以使其可在外界环境的压力下滑动以平衡其旁侧密封件的两侧压力。
7.根据权利要求6所述的水下连接器，其特征在于，所述密封腔（6）朝向内壳体（5）的一端设置有第一挡凸（8），以使活塞滑动至其与第一挡凸（8）挡止的位置时密封腔（6）内仍有部分空间可用于填充密封油（7）。
8.根据权利要求7所述的水下连接器，其特征在于，所述密封腔（6）背向内壳体（5）的一端设置有第二挡凸（9），所述活塞包括密封滑动配合在密封腔（6）内的活塞头（10）以及从第二挡凸（9）中穿出的活塞杆（11）。
9.根据权利要求8所述的水下连接器，其特征在于，所述外壳体（4）包括主壳体及固定装配在主壳体上的限位件（14）；所述密封腔（6）开设在主壳体上，所述限位件（14）上对应密封腔（6）的位置开设有孔径小于密封腔（6）的腔口的限位孔或槽宽小于密封腔（6）的腔口的限位槽（15），以便通过限位孔的孔沿或限位槽（15）的槽沿构成所述的第二挡凸（9）。
10.根据权利要求6-9任一项所述的水下连接器，其特征在于，位于密封腔（6）向外的旁侧的密封件为格来圈（16）；位于密封腔（6）向内的旁侧的密封件为星形圈（17）。
...【技术特征摘要】
1.一种自平衡静密封结构，包括外壳体（4）与内壳体（5），外壳体（4）与内壳体（5）之间设置有两个以上密封件；其特征在于，所述外壳体（4）上于至少两个相邻的密封件之间设置有用于填充密封油（7）的密封腔（6）；所述密封腔（6）内设置有活塞，所述活塞滑动密封安装在密封腔（6）内且具有暴露在外界环境中的承压面（13），以使其可在外界环境的压力下滑动以平衡其旁侧密封件的两侧压力。
2.根据权利要求1所述的自平衡静密封结构，其特征在于，所述密封腔（6）朝向内壳体（5）的一端设置有第一挡凸（8），以使活塞滑动至其与第一挡凸（8）挡止的位置时密封腔（6）内仍有部分空间可用于填充密封油（7）。
3.根据权利要求2所述的自平衡静密封结构，其特征在于，所述密封腔（6）背向内壳体（5）的一端设置有第二挡凸（9），所述活塞包括密封滑动配合在密封腔（6）内的活塞头（10）以及从第二挡凸（9）中穿出的活塞杆（11）。
4.根据权利要求3所述的自平衡静密封结构，其特征在于，所述外壳体（4）包括主壳体及固定装配在主壳体上的限位件（14）；所述密封腔（6）开设在主壳体上，所述限位件（14）上对应密封腔（6）的位置开设有孔径小于密封腔（6）的腔口的限位孔或槽宽小于密封腔（6）的腔口的限位槽（15），以便通过限位孔的孔沿或限位槽（15）的槽沿构成所述的第二挡凸（9）。
5.根据权利要求1-4任一项所述的自平衡静密封结构，其特征在于，位于密封腔（6）向外的旁侧的密封件为格来圈（16）；位于密封腔（6）向内的旁侧的密封件为星形圈（17）。
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【专利技术属性】
技术研发人员：乔永红，杨尚矗，孙晓军，田凯文，
申请(专利权)人：中航光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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