一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法技术

本发明专利技术涉及超表面天线技术领域，具体涉及一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法。实现包括以下几个步骤：步骤1：利用电磁仿真软件设计具有极化选择性和可大角度入射特性的超表面单元和转极化反射单元。步骤2：确定阵列规模，并设置所需的焦点F和低剖面高度h。步骤3：根据单元的位置计算转极化单元的转极化反射相位、超表面单元的透射相位和超表面单元的反射相位。步骤4：根据单元的反射相位和透射相位曲线确定每个单元的物理参数。步骤5：通过电磁仿真软件对整体阵列进行仿真，并获得阵列的天线性能曲线。该设计方法可用于实现超低剖面折叠超表面阵列的高性能天线，可以灵活实现任意的剖面缩短效果，适用于不同的应用需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法，属于天线领域。

技术介绍

1、超表面天线是当前天线设计领域的研究热点之一。超表面天线具备相位调控功能，可实现多种功能丰富的应用。在某些场景中，需要天线具有较低的剖面。然而，根据超表面天线的设计步骤，为了获得高效率，超表面与馈源之间的间距通常难以减小。为了降低天线的剖面，已有的方法采用折叠方式，将天线剖面降低到原来的一半、三分之一或四分之一。为了进一步降低和灵活调整天线的剖面高度，本专利技术给出了实现超低剖面折叠超表面的设计方法，可以实现任意h/f小于1/3的效果。这些方案提供了灵活的设计选择，适用于不同的应用需求。

技术实现思路

1、技术问题：本专利技术的目的是为了进一步降低和灵活调整超表面阵列天线的剖面高度，并对传统方法进行改良。本方法通过使用一种转极化单元的反射相位和一种超表面单元的不同极化响应来调整反射和透射相位从而得到超低剖面的超表面阵列天线。这种方案可以进一步降低超表面阵列天线的剖面高度，并且提供了灵活的调整方式，使其适应不同的应用需求。通过本专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法，其特征在于，步骤1中，所述转极化单元包括上下双层金属，下层金属为地面，上层金属为第一贴片，通过调整第一贴片的尺寸D得到转极化反射相位曲线P1(D)；所述转极化单元对入射电磁波进行极化转换使其转化为与入射极化波正交的反射波；

3.如权利要求2所述的一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法，其特征在于，

4.如权利要求3所述的一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的一种超低剖面折叠超表面阵列设计方法，其特征在于，步骤1中，所述转极化单元包括上下双层金属，下层金属为地面，上层金属为第一贴片，通过调整第一贴片的尺寸d得到转极化反...

【专利技术属性】
技术研发人员：李腾，王忆凡，黄恒，何还还，
申请(专利权)人：东南大学，
类型：发明
国别省市：