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【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于功能型薄膜,涉及基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜,本专利技术还涉及该荧光防伪薄膜的制备方法。
技术介绍
1、假冒伪劣是一个全球性的问题,不仅造成巨大的经济损失,还给个人、企业甚至整个社会带来巨大危害。对此,大量的先进防伪技术被开发,如荧光、热致变色、等离子体光学、水印及激光全息图案等,其中,荧光防伪因其隐蔽性和多变性受到了广泛关注。
2、钙钛矿量子点是近年来新兴的一种新型光电纳米材料,具有光致发光特性,其中,铜基钙钛矿量子点具有毒性低、荧光效率高、发光可调谐以及色纯度较高等优点,成为了理想的荧光防伪材料。但铜基钙钛矿量子点表面钝化缺陷的配体易脱落,使得荧光稳定性不佳。因此,开发荧光强度高、稳定性好的钙钛矿防伪薄膜至关重要。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜,解决了现有技术铜基钙钛矿量子点表面钝化缺陷的配体易脱落,使得荧光稳定性不佳的问题。
2、本专利技术的另一目的在于提供上述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法。
3、本专利技术所采用的第一个技术方案是,基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜,以质量百分比计,包括94.8~95.1%的pmma,0.1%~0.13%的溴化铯,0.18%~0.22%的溴化铜,0.1~0.15%的辛胺,4.4~4.7%的蓖麻油,其余成分为甲苯。
4、本专利技术所采用的第二个技术方案是,基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,具体步骤如下:<
...【技术保护点】
1.基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜,其特征在于,以质量百分比计,包括94.8~95.1%的PMMA,0.1%~0.13%的溴化铯,0.18%~0.22%的溴化铜,0.1~0.15%的辛胺,4.4~4.7%的蓖麻油,其余成分为甲苯。
2.如权利要求1所述的基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:
3.根据权利要求2所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备Cs2CuBr4量子点溶液的具体步骤为:
4.根据权利要求3所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1.1中各组分质量比为,以质量份计,溴化铯为0.210-0.215份,溴化铜为0.440-0.445份,辛胺为0.259-0.271份,蓖麻油为58.239-58.639份。
5.根据权利要求3所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述前驱体溶液与甲苯溶液质量比为1:80.3~80.7。
6.根据权利要求2所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其
7.根据权利要求6所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述PMMA与甲苯质量比为0.0286-0.0289:1。
8.根据权利要求2所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤2中Cs2CuBr4量子点溶液与PMMA甲苯溶液质量比为1:1。
9.根据权利要求2所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤2中磁力搅拌反应时间为8~10min。
...【技术特征摘要】
1.基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜,其特征在于,以质量百分比计,包括94.8~95.1%的pmma,0.1%~0.13%的溴化铯,0.18%~0.22%的溴化铜,0.1~0.15%的辛胺,4.4~4.7%的蓖麻油,其余成分为甲苯。
2.如权利要求1所述的基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:
3.根据权利要求2所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备cs2cubr4量子点溶液的具体步骤为:
4.根据权利要求3所述基于铜基钙钛矿量子点的荧光防伪薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1.1中各组分质量比为,以质量份计,溴化铯为0.210-0.215份,溴化铜为0.440-0.445份,辛胺为0.259-0.271份,蓖麻油为58.239-58.639份。
5.根据权利要求3所述基于...
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