【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体来说涉及缺陷检测，且更特定来说涉及一种多元素超分辨率光学检验系统。
技术介绍
1、由于对具有越来越小的装置特征的集成电路的需求继续增加，对改进缺陷检测机构的需要继续增长。电子束检验系统产生高分辨率图像，然而，其不能够以可接受的吞吐量速率且以合理的时间扫描全样本。因此，当前检验系统通常依赖于进行光散射以产生缺陷信号的原理。然而，随着缺陷大小继续缩小，光学模式优化变得不充分。找出最优光学模式对使缺陷的独特散射特征最大化是重要的。
2、因此，提供补救上文所识别的方法的缺点的系统及方法将是有利的。
技术实现思路
1、根据本公开的一或多个实施例，公开一种多元素超分辨率检验。在实施例中，系统包含检验子系统阵列。在实施例中，每一检验子系统包含一或多个照明源，其经配置以利用一或多个照明束照明定位于载台上的样本，所述样本包含至少第一材料及至少第二材料，其中所述第一材料不同于所述第二材料，所述样本包含多个光致发光标记，所述多个光致发光标记经配置以选择性地结合到所述第一材料或所述第二材...
【技术保护点】
1.一种多元素超分辨率检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个处理器经配置以执行致使所述一或多个处理器进行以下操作的程序指令：
3.根据权利要求1所述的系统，其中所产生的所述多个光学图像包含所述多个光致发光标记中的一或多个作用中光致发光标记的点扩散函数，其中所述一或多个作用中多个光致发光标记包含发射光致发光的一或多个光致发光标记。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述一组光学元件包括至少一个衍射光学元件。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述一组光学元件包括至少一个透镜。
6.根...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种多元素超分辨率检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个处理器经配置以执行致使所述一或多个处理器进行以下操作的程序指令：
3.根据权利要求1所述的系统，其中所产生的所述多个光学图像包含所述多个光致发光标记中的一或多个作用中光致发光标记的点扩散函数，其中所述一或多个作用中多个光致发光标记包含发射光致发光的一或多个光致发光标记。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述一组光学元件包括至少一个衍射光学元件。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述一组光学元件包括至少一个透镜。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述一组光学元件包括至少一个镜面。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述光致发光标记优先附着到所述样本的所述第一材料或所述第二材料中的一者。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个照明源经配置以激励所述样本的所述第一材料或所述第二材料中的一者的所述多个光致发光标记。
9.根据权利要求1所述的系统，其中所述多个光致发光标记包含以下各项中的至少一者：
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一材料或所述第二材料中的一者包含以下各项中的至少一者：
11.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本包括衬底。
12.根据权利要求11所述的系统，其中所述衬底包括晶片。
13.一种用于超分辨率检验的方法，所述方法包括：
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