【技术实现步骤摘要】
本技术属于锗单晶生产,特别是涉及一种专用的区熔锗锭清洗装置。
技术介绍
1、区熔锗锭是指用区熔方法提纯得到的锗锭,区熔锗锭是纯度很高的多晶,主要用于锗单晶生产的原料,区熔锗锭在生产过程中,表面常常附着有污垢和氧化物,这些污垢会对锗锭的质量和性能产生负面影响。
2、现有的区熔锗锭清洗方法存在以下技术问题:
3、1.低效性:传统的清洗方法使用手工或半自动的方式进行清洗,耗时且效率低下,无法满足生产需求;
4、2.清洗不均匀:由于清洗过程中喷洒或清洗剂的分布不均匀,导致锭表面的清洗不均匀,可能留下污垢或残留物;
5、3.人为操作依赖性:传统清洗方法需要人工操作,存在人为误差和操作依赖性,难以保证清洗过程的一致性和可重复性。
6、现有的清洗方法存在效率低、清洗不均匀等问题,因此需要一种更高效、自动化的清洗装置。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种专用的区熔锗锭清洗装置,通过设置上清洗组件和侧清洗组件,使得该装置能实现更高效、自动化
...【技术保护点】
1.一种专用的区熔锗锭清洗装置,包括输送机架(1)、传送带(2)、上清洗组件(4)和侧清洗组件(5),其特征在于:
2.根据权利要求1所述的一种专用的区熔锗锭清洗装置,其特征在于,所述清洗单元(43)包括第一支座(431)、第二支座(432)、第一安装板(433)和第一喷头(434);
3.根据权利要求1所述的一种专用的区熔锗锭清洗装置,其特征在于,所述侧清洗组件(5)包括第三支座(52)、第四支座(53)、第二安装板(54)和第二喷头(55);
4.根据权利要求3所述的一种专用的区熔锗锭清洗装置,其特征在于,所述侧清洗组件(5)还
...【技术特征摘要】
1.一种专用的区熔锗锭清洗装置,包括输送机架(1)、传送带(2)、上清洗组件(4)和侧清洗组件(5),其特征在于:
2.根据权利要求1所述的一种专用的区熔锗锭清洗装置,其特征在于,所述清洗单元(43)包括第一支座(431)、第二支座(432)、第一安装板(433)和第一喷头(434);
3.根据权利要求1所述的一种专用的区熔锗锭清洗装置,其特征在于,所述侧清洗组件(5)包括第三支座(52)、第四支座(53)、第二安装板(54)和第二喷...
【专利技术属性】
技术研发人员:姬红佳,李思,马正方,漆美,
申请(专利权)人:云南驰宏国际锗业有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。