【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体芯片晶圆清洗，具体涉及一种带循环回收功能的臭氧水输送系统。
技术介绍
1、臭氧水，又称为臭氧化去离子水，或者简称dio3，是一种用于晶圆清洗工艺中使用到的液体。dio3主要是将臭氧溶于去离子水中，形成臭氧浓度为10～100ppm的溶液。但由于上述浓度的dio3并不稳定，浓度半衰期较短(10～20分钟)，浓度调整有较长的响应延时(10分钟左右)。因此，为了保持浓度相对稳定，以符合晶圆清洗工艺的要求，现有技术采用恒定流量的dio3输送工艺。然而，在单片式晶圆清洗设备中需要使用到dio3的流量变化比较大，因此dio3一般按照清洗设备要求的最大流量来供应(常用流量10～100lpm)，超过90％未被使用到的dio3(这些未被使用到的dio3在本专利中被定义为臭氧水回液)都直接排放，形成了大量的浪费。
2、现有技术中也存在相关技术的改进，如中国专利cn 104903245 a，针对此问题开发了无压力的臭氧化去离子水(dio3)的再循环回收系统和方法。在该专利中，专利技术人通过使用接触器将从晶圆清洗设备回收回来的dio3作脱气处理和补充超纯水后，作为流体(dio3)输送设备的进水，持续供应出符合晶圆清洗设备浓度和恒定流量要求的dio3。但是，该方案的不足之处：1.从晶圆清洗设备回收来的dio3浓度和流量波动比较大。即使使用了接触器做脱气处理，供应给输送设备的进水浓度仍然有比较大的波动，从而造成供应给晶圆清洗设备的dio3浓度波动，影响工艺稳定性。2.因为进水浓度不稳定，过于频繁地调整输送设备的相关部件(包括但不限
3、因此，本领域急需一种回水浓度稳定且能节约用水的臭氧水输送系统。
技术实现思路
1、本技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种带循环回收功能的臭氧水输送系统。
2、为了实现本技术之目的，本申请提供以下技术方案。
3、在第一方面中，本申请提供一种带循环回收功能的臭氧水输送系统，所述系统包括臭氧发生器、臭氧溶解单元，且所述臭氧溶解单元的出液口连接单片式晶圆清洗设备，所述系统包括臭氧水回收处理模块，所述臭氧水回收处理模块用于将来自于单片式晶圆清洗设备的臭氧水回液进行脱除臭氧，并将去离子水循环回流至臭氧溶解单元内。其中，本文所述的臭氧水回液是指没有用于清洗晶圆的臭氧水，之所以会有臭氧水回液，是由以下两个原因共同造成的：一方面，臭氧溶于水中形成的臭氧水并不稳定，里面的臭氧容易挥发而导致浓度波动，因此，要保证良好的清洗效果，必须使用较为新鲜的臭氧水，即不能将臭氧水放于储罐，臭氧水必须新鲜配置并源源不断地提供；另一方面，单片式晶圆清洗设备中有多个清洗点，每个清洗点单独控制臭氧水的通断，当某个清洗点无需清洗晶圆时，该清洗点就会关闭臭氧水的输出，这就导致会存在部分臭氧水是没有被使用过而直接被排出单片式晶圆清洗设备的，这就形成了臭氧水回液。
4、在第一方面的一种实施方式中，所述臭氧水回收处理模块包括紫外处理单元、尾气处理单元以及回流储水槽，其中，所述紫外处理单元进液口与单片式晶圆清洗设备的臭氧水回液出口连接，所述紫外处理单元的出液口与回流储水槽的第一进液口连接，所述紫外处理单元设有第一出气口并与尾气处理单元连接，所述回流储水槽的出液口与臭氧溶解单元的进液口连接，并在两者的连接管路上设置液压泵。
5、在第一方面的一种实施方式中，所述回流储水槽的出液口设有自循环支路，所述自循环支路的另一端连接回流储水槽的第二进液口。
6、在第一方面的一种实施方式中，所述自循环支路上设有过滤器。当然，过滤器也可被省略，因为自循环之路中的去离子水，即使存在少量的固体杂质，也不会聚结起来，并不会对后续使用产生很大影响。
7、在第一方面的一种实施方式中，所述回流储水槽顶端设有第二出气口，并与尾气处理单元连接。
8、在第一方面的一种实施方式中，所述回流储水槽设有第三进液口，且所述第三进液口与去离子水水源连接。
9、在第一方面的一种实施方式中，所述回流储水槽内设有液位传感器，且所述系统设有控制器，所述控制器与液位传感器连接，并用于控制去离子水水源与第三进液口之间的管路的通断。
10、在第一方面的一种实施方式中，所述臭氧溶解单元设有第三出气口，并与尾气处理单元连接。
11、与现有技术相比，本技术的有益效果在于：
12、在本系统中增设紫外处理单元，可以将回流臭氧水中的臭氧迅速分解。经检测，处理后的去离子水中臭氧浓度接近0ppm，可以重复利用，节约水资源。且进入臭氧溶解单元中的进水浓度稳定，无需频繁调整输送设备的相关部件(包括但不限于臭氧发生器功率、气体流量、气体压力等)，可延长输送设备的可靠性和寿命。
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1.一种带循环回收功能的臭氧水输送系统，所述系统包括臭氧发生器、臭氧溶解单元，且所述臭氧溶解单元的出液口连接单片式晶圆清洗设备，其特征在于，所述系统包括臭氧水回收处理模块，所述臭氧水回收处理模块包括紫外处理单元、尾气处理单元以及回流储水槽，其中，所述紫外处理单元进液口与单片式晶圆清洗设备的DIO3回液出口连接，所述紫外处理单元的出液口与回流储水槽的第一进液口连接，所述紫外处理单元设有第一出气口并与尾气处理单元连接，所述回流储水槽的出液口与臭氧溶解单元的进液口连接，并在两者的连接管路上设置液压泵；所述臭氧水回收处理模块用于将来自于单片式晶圆清洗设备的清洗回液进行脱除臭氧得到去离子水，并将处理后的去离子水循环回流至臭氧溶解单元内。
2.如权利要求1所述的带循环回收功能的臭氧水输送系统，其特征在于，所述回流储水槽的出液口设有自循环支路，所述自循环支路的另一端连接回流储水槽的第二进液口。
3.如权利要求2所述的带循环回收功能的臭氧水输送系统，其特征在于，所述自循环支路上设有过滤器。
4.如权利要求1所述的带循环回收功能的臭氧水输送系统，其特征在于，所述
5.如权利要求1所述的带循环回收功能的臭氧水输送系统，其特征在于，所述回流储水槽设有第三进液口，且所述第三进液口与去离子水水源连接。
6.如权利要求5所述的带循环回收功能的臭氧水输送系统，其特征在于，所述回流储水槽内设有液位传感器，且所述系统设有控制器，所述控制器与液位传感器连接，并用于控制去离子水水源与第三进液口之间的管路的通断。
7.如权利要求1所述的带循环回收功能的臭氧水输送系统，其特征在于，所述臭氧溶解单元设有第三出气口，并与尾气处理单元连接。
...【技术特征摘要】
1.一种带循环回收功能的臭氧水输送系统，所述系统包括臭氧发生器、臭氧溶解单元，且所述臭氧溶解单元的出液口连接单片式晶圆清洗设备，其特征在于，所述系统包括臭氧水回收处理模块，所述臭氧水回收处理模块包括紫外处理单元、尾气处理单元以及回流储水槽，其中，所述紫外处理单元进液口与单片式晶圆清洗设备的dio3回液出口连接，所述紫外处理单元的出液口与回流储水槽的第一进液口连接，所述紫外处理单元设有第一出气口并与尾气处理单元连接，所述回流储水槽的出液口与臭氧溶解单元的进液口连接，并在两者的连接管路上设置液压泵；所述臭氧水回收处理模块用于将来自于单片式晶圆清洗设备的清洗回液进行脱除臭氧得到去离子水，并将处理后的去离子水循环回流至臭氧溶解单元内。
2.如权利要求1所述的带循环回收功能的臭氧水输送系统，其特征在于，所述回流储水槽的出液口设有自循环支路，所述自循环支路的另...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋子成，
申请(专利权)人：承铖科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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