【技术实现步骤摘要】
本专利技术关于聚合物，更特别关于此聚合物于感光组成物的应用。
技术介绍
1、微影工艺所用的光阻可分为正型光阻与负型光阻。常见的正型光阻多以湿式工艺涂布且以氢氧化四甲基铵(tmah)溶液显影，无法用于印刷电路板的工艺。负型光阻可制作为干膜光阻且可由碳酸钠溶液显影，因此可用于印刷电路板的工艺，但其分辨率不足。
2、综上所述，目前亟需新的正型光阻组成用于形成正型干膜光阻，并可由碳酸钠溶液显影以应用于印刷电路板的工艺。
技术实现思路
1、本专利技术一实施例提供的聚合物，是由酚醛环氧树脂或双酚环氧树脂与羧酸反应而成，其中酚醛环氧树脂的结构为其中w为h、烷基、或卤素；r1为亚甲基、二亚甲基二苯、二甲亚基苯、四氢二环戊二烯基、或以及n＝1至8；其中双酚环氧树脂的结构为其中z为h或烷基；r4为亚甲基、甲基亚甲基、二甲基亚甲基、甲基乙基亚甲基、二(三氟甲基)亚甲基、亚芴基、或磺酰基；以及p＝1至10；其中羧酸的结构为hooc-r2、或上述组合，其中ar为苯或萘；x为羟基、烷氧基、或烷基，且至少一x为羟基；m＝1至3；其中r2为c3-7的烷基。
2、本专利技术一实施例提供的感光组成物，包括：100重量份的上述聚合物；以及15至90重量份的感光化合物。
3、本专利技术一实施例提供的干膜光阻，包括：感光膜，夹设于承载膜与保护膜间；其中感光膜包括上述感光组成物。
4、本专利技术一实施例提供的微影方法，包括：提供材料层；形成光阻层于材料层上，且光阻层包括上述感光
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1.一种聚合物，是由酚醛环氧树脂或双酚环氧树脂与羧酸反应而成；
2.根据权利要求1所述的聚合物，其结构为
3.根据权利要求1所述的聚合物，进一步与酸酐反应以形成改质聚合物，其中酸酐的化学结构为其中Y为或上述组合，且改质聚合物的酸价为0至100mg KOH/g。
4.根据权利要求3所述的聚合物，其中改质聚合物的结构为
5.一种感光组成物，包括：
6.根据权利要求5所述的感光组成物，其中感光化合物包括重氮萘醌类化合物。
7.根据权利要求5所述的感光组成物，还包括200至1000重量份的溶剂。
8.根据权利要求7所述的感光组成物，其中溶剂包括丙二醇单甲醚醋酸酯、乙酸正丁酯、乙酸乙酯、γ-丁内酯、环己酮、或上述组合。
9.根据权利要求5所述的感光组成物，还包括40至200重量份的酚醛树脂。
10.一种干膜光阻，包括：
11.根据权利要求10所述的干膜光阻，其中该保护膜的离型力为1g至100g，而该承载膜的离型力为150g至500g。
12.一种微影方法，包括
13.根据权利要求12所述的微影方法，其中该碱液为碳酸钠溶液、氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、或上述组合。
14.根据权利要求12所述的微影方法，还包括蚀刻露出的该材料层的部分、布植露出的该材料层的部分、或沉积另一材料于露出的该材料层的部分上。
...【技术特征摘要】
1.一种聚合物，是由酚醛环氧树脂或双酚环氧树脂与羧酸反应而成；
2.根据权利要求1所述的聚合物，其结构为
3.根据权利要求1所述的聚合物，进一步与酸酐反应以形成改质聚合物，其中酸酐的化学结构为其中y为或上述组合，且改质聚合物的酸价为0至100mg koh/g。
4.根据权利要求3所述的聚合物，其中改质聚合物的结构为
5.一种感光组成物，包括：
6.根据权利要求5所述的感光组成物，其中感光化合物包括重氮萘醌类化合物。
7.根据权利要求5所述的感光组成物，还包括200至1000重量份的溶剂。
8.根据权利要求7所述的感光组成物，其中溶剂包括丙二醇...
【专利技术属性】
技术研发人员：许玉瑩，黄耀正，吴明宗，张金华，张德宜，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：
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