【技术实现步骤摘要】
本申请涉及电池制造，具体涉及一种涂布错位纠偏设备、涂布系统以及纠偏控制方法。
技术介绍
1、本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。
2、阳极极片的生产过程中，需要利用涂布模头将以碳粉（石墨粉末）等材料制成的浆料均匀地涂覆在极片上，但是，在涂布过程中，当极片出现横向偏移时，极片横向上与模头的相对位置发生改变，进而使涂布区域偏离于预定涂布区域，导致极片涂布的活性物质层左右边缘错位。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种涂布错位纠偏设备、涂布系统、以及纠偏控制方法，用以对涂布错位进行纠偏，减小涂布偏移量。该目的是通过以下技术方案实现的：
2、第一方面，本申请实施例提供了一种涂布错位纠偏设备，其包括：涂布辊，所述涂布辊用于张紧并传输基材；第一偏移识别装置，用于检测所述基材在涂布前沿第一方向的来料偏移量，所述第一方向与所基材的输送方向相垂直；涂布模头，与所述涂布辊相对且间隔设置，以在所述涂布辊传输的基材上涂布活性物质；驱动机构，所述驱动机构与所述涂布模头相连，并能够根据所述来料偏移量驱动所述涂布模头沿所述第一方向移动。
3、上述方案中，当基材在涂布过程中，沿第一方向出现偏移时，通过第一偏移识别装置检测基材在涂布前的来料偏移量，并根据来料偏移量使驱动机构中驱动涂布模头沿第一方向移动，从而使基材与涂布模头始终保持对准，降低涂布后基材上的活性物质层相对于预设涂布区域的偏移量，提高涂布的纠偏效果，提升产品的优率。
4、在
5、上述方案中，底座和移动件以滑动配合的方式相配合，使移动件能够沿第一方向移动，并且，利用第一滑动结构和第二滑动结构的限位配合，使移动件的移动过程更加平稳且精确，减小涂布模头相对于基材的晃动，使涂布模头在纠偏过程中仍能保证较高的涂布质量。
6、在一些实施例中，所述底座承载所述移动件并具有与所述移动件滑动配合的滑动配合面，所述驱动机构还包括密封件，所述密封件环设于所述滑动配合面外。
7、上述方案中，通过在滑动配合面为环设密封件，利用密封件阻挡外部异物（如尘土颗粒等），降低外部异物进入至滑动配合面的概率并介入移动件与底座之间，使滑动配合面保持平滑，因此，移动件与底座之间相对滑动的过程更加平顺，降低出现卡滞的概率，并且，还可降低移动件与底座之间的磨损，提高驱动机构的使用寿命。
8、在一些实施例中，所述密封件配置为环状的柔性件，沿垂直于所述滑动配合面的方向，所述密封件的两端分别与所述移动件和所述底座相连，以密封所述移动件与所述底座之间的滑动配合缝隙。
9、上述方案中，移动件相对于底座滑动的过程中，密封件可顺应移动件的移动沿密封件的环向方向，密封件能够始终紧密地贴合在移动件和底座上，保持良好的密封效果。
10、在一些实施例中，所述驱动机构还包括伺服电机和传动组件，所述伺服电机通过所述传动组件与所述移动件传动连接。
11、上述方案中，利用伺服电机可根据来料偏移量精确地控制移动件的移动距离，提高涂布模头的纠偏精准度以及涂布的纠偏效果，进而提升产品的优率。
12、在一些实施例中，所述涂布错位纠偏设备还包括与所述驱动机构电连接的第二偏移识别装置，所述第二偏移识别装置用于检测所述基材上的活性物质层沿所述第一方向的涂布偏移量，所述驱动机构根据所述来料偏移量和所述涂布偏移量驱动所述涂布模头移动。
13、上述方案中，第二偏移识别装置用于检测涂布模头在涂布后，基材上的活性物质层的涂布偏移量，其中，涂布偏移量即活性物质层相对于预定涂布区域的实际偏移量，根据来料偏移量和涂布偏移量可计算出涂布模头的纠偏偏差数据，因此，可根据来料偏移量和涂布偏移量对下一次涂布模头的纠偏过程进行补偿纠正，提高下一次纠偏过程中涂布模头的纠偏精准度。
14、第二方面，本申请提供了一种涂布系统，包括：第一方面技术方案中的涂布错位纠偏设备和控制装置，所述控制装置与所述涂布错位纠偏设备中的第一偏移识别装置和驱动机构电连接。上述方案中，利用控制装置实现对涂布错位纠偏设备的自动控制，实现纠偏控制的自动化，提高纠偏效率。
15、第三方面，本申请提供了一种涂布系统的纠偏控制方法，所述纠偏控制方法包括：获取基材在涂布前沿第一方向的来料偏移量；根据所述来料偏移量大于第一偏移阈值计算纠偏量；根据所述纠偏量控制所述涂布错位纠偏设备中的涂布模头移动。
16、上述方案中，当基材在涂布过程中，沿第一方向出现偏移时，通过第一偏移识别装置检测基材在涂布前的来料偏移量，控制装置根据来料偏移量控制驱动机构中的移动件带动涂布模头沿第一方向移动，从而使基材与涂布模头始终保持对准，降低涂布后，基材上的活性物质层相对于预设涂布区域的偏移量，提高涂布的纠偏效果，提升产品的优率。
17、在一些实施例中，所述纠偏设备中的驱动机构包括底座和移动件；在所述根据所述纠偏量控制所述涂布错位纠偏设备中的涂布模头移动的步骤之前还包括：确定基材自来料检测偏移位置到达涂布位置的时间点；所述根据所述纠偏量控制所述涂布错位纠偏设备中的涂布模头移动的步骤包括：根据所述时间点和所述纠偏量控制所述涂布错位纠偏设备中的所述移动件移动，所述移动件带动所述涂布模头移动。
18、上述方案中，通过计算基材自来检测料偏移位置到达涂布位置的时间点，并根据时间点控制移动件移动，以确保涂布模头移动量与来料偏移量相匹配，进而提高涂布模头纠偏的精准度。
19、在一些实施例中，所述纠偏控制方法还包括：获取基材在涂布后的涂料沿所述第一方向的涂布偏移量；根据所述涂布偏移量大于第二偏移阈值计算补偿量；根据所述纠偏量和所述补偿量控制所述涂布错位纠偏设备中的涂布模头移动。上述方案中，通过来料偏移量和涂布偏移量可计算出涂布模头的补偿量，并根据补偿量对下一次涂布模头的纠偏过程进行补偿纠正，从而提高下一次纠偏过程中涂布模头的纠偏精准度。
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1.一种涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述涂布错位纠偏设备包括：
2.根据权利要求1所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述驱动机构包括底座和移动件，所述底座和所述移动件两者中的一者设有沿所述第一方向延伸的第一滑动结构，两者中的另一者设有与所述第一滑动结构滑动连接的第二滑动结构。
3.根据权利要求2所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述底座承载所述移动件并具有与所述移动件滑动配合的滑动配合面，所述驱动机构还包括密封件，所述密封件环设于所述滑动配合面外。
4.根据权利要求3所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述密封件配置为环状的柔性件，沿垂直于所述滑动配合面的方向，所述密封件的两端分别与所述移动件和所述底座相连，以密封所述移动件与所述底座之间的滑动配合缝隙。
5.根据权利要求2所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述驱动机构还包括伺服电机和传动组件，所述伺服电机通过所述传动组件与所述移动件传动连接。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述涂布错位纠偏设备还包括与所述驱动机构电连接的第二偏
7.一种涂布系统，其特征在于，所述涂布系统包括如权利要求1至6中任一项所述的涂布错位纠偏设备，所述涂布系统还包括控制装置，所述控制装置与所述涂布错位纠偏设备中的第一偏移识别装置和驱动机构电连接。
8.一种涂布系统的纠偏控制方法，其特征在于，所述涂布系统包括控制装置和如权利要求1至6中任一项所述的涂布错位纠偏设备；
9.根据权利要求8所述的涂布系统的纠偏控制方法，其特征在于，所述纠偏设备中的驱动机构包括底座和移动件；
10.根据权利要求8所述的涂布系统的纠偏控制方法，其特征在于，所述纠偏控制方法还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述涂布错位纠偏设备包括：
2.根据权利要求1所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述驱动机构包括底座和移动件，所述底座和所述移动件两者中的一者设有沿所述第一方向延伸的第一滑动结构，两者中的另一者设有与所述第一滑动结构滑动连接的第二滑动结构。
3.根据权利要求2所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述底座承载所述移动件并具有与所述移动件滑动配合的滑动配合面，所述驱动机构还包括密封件，所述密封件环设于所述滑动配合面外。
4.根据权利要求3所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述密封件配置为环状的柔性件，沿垂直于所述滑动配合面的方向，所述密封件的两端分别与所述移动件和所述底座相连，以密封所述移动件与所述底座之间的滑动配合缝隙。
5.根据权利要求2所述的涂布错位纠偏设备，其特征在于，所述驱动机构还包括伺服电机和传动组件，所述伺服电机通过所述传动组件与所述移动件传动...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴在峰，吴树文，杨友结，吴凯，
申请(专利权)人：宁德时代新能源科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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