一种全光控制光开关制造技术

本发明专利技术涉及光电子器件的一种全光控制光开关，用于解决现有光无源器件在全光高速网络光分叉复用系统和光交叉互连系统响应速度不够，或室温下不能正常工作的问题。本发明专利技术包括位于底座平台上的多量子点层布拉格结构半导体光学元件、控制光光纤准直器、起偏器、信号光光纤准直器和检偏器，多量子点层光学元件由衬底上外延生长的Ｎ个布拉格结构复合层构成，每个复合层均由量子点层和垒层组成。本发明专利技术可实现超快开关动作，开关对比度较大，插入损耗较小，饱和泵浦功率低，开关响应波长在光通讯波段，具有室温响应特性，性能可靠，工作寿命长，可应用于光分叉复用系统和光交叉互连系统，直接在光层实现巨大流量信号的传输与路由。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光电子器件，具体涉及一种全光控制光开关，应用于光分叉复用 (0ADM)系统和光交叉互连(OXC)系统，解决超高速全光网络的全光开关控制以及光开关切 换等问题。
技术介绍
目前，按照不同开关原理，光开关可以分为机械光开关、微机电系统(MEMS)光开 关、热光开关、液晶光开关等。这些光开关的开关速率最高处于ms量级。其中，微机电系统 (MEMS)光开关由于集成度高，损耗小，串扰低及高消光比等优点，被广泛的应用于各种骨干 网与大型交换网的解决方案中。但是按照下一代网络光分组交换的标准，这种开关无法实 现其开关时间达到ns量级的要求，而通信网络的全光处理进程势在必行，这是通信承载业 务的多样性与数据量的海量性决定的。网络的IP化与光分组交换就对传统的光网络节点 处的交换单元提出了挑战。同时，光波分复用、时分复用技术的引入，Tbit/s量级的通信容 量都对交换时间在ms量级的传统光开关有了新的要求。研究新的工作机理以提高交换速 率的全光开关成为相关领域研究的热点问题。 近年来，一维光子晶体(1DPC)结构下的全光开关得到了广泛的研究，尤其集中 在以量子阱为有源区的一维光子晶体。如2002年美国Iowa大学的John P. Prineas教 授，在论文《Ultrafast ac stark effect switching of the active photonic band gap fromBragg-periodic semiconductor quantum wells》(Applied Physics Letters, 81 (23) :4332 4334)中，根据布拉格间隔的量子阱与光耦合的超辐射理论，利用泵浦_探 测技术，研究了铟镓砷(InGaAs)/砷化镓(GaAs)多量子阱形成的有源光子带隙的动态变 化，提出了基于光学斯塔克效应的快速光开关，这种光开关具有ps量级的开关时间。2005 年，Iowa大学的W. J. Johnston等人在文献《All-optical spin-dependent polarization switchingin Bragg-spaced quantum well structures》(Applied Physics Letters, 87(10) :101113-l 101113-3)中，提到利用In。.。4Ga。.9AS/GaAS生长出了多量子阱布拉格结 构，在80K温度下，得到光学带宽0. 6THz，对比度30dB，开关泵浦功率密度8 y J/cm1， lps响 应时间。极大的降低了泵浦功率，提高了对比度。但室温下该光开关工作所依赖的阱内激 子较大概率地被电离且激子辐射效应大幅减弱，使得室温下无法实现开关工作。 在共振光子晶体中，砷化镓(GaAs)材料为衬底生长的砷化铟(InAs)量子点材料 是现在普遍研究并具有一定技术成熟性。利用高温退火、改变浸润层组分等方法，产生限制 层与量子点间的不匹配，可以实现砷化铟(InAs)量子点的1.3iim、1.4iim禾P 1.5iim的激 子发光。而以磷化铟(InP)材料为衬底的砷化铟(InAs)量子点层材料，在1.55ym通信波 段具有宽带放大、高饱和输出功率和超快的响应，也引起了研究者极大的兴趣。 量子点材料用作光开关，由于对载流子的限制作用较量子阱更加明显，具有较低 的饱和能量密度，非线性光学特性显著增强；同时，光子晶体对其中传输光具有特殊限制 作用，并且其材料、结构、体积等方面具有优越性；2004年由日本学者H. Nakamura等人在3文献《Ultra-fast photonic crystal/quantum dot all-optical switch for future photonicnetworks》(Optical Express, 12 (26) :6606 6614)中，将现有的光子晶体与量子 点材料在马赫泽德结构中相结合，利用光控光技术，实现了基于光子晶体的马赫泽德结构 全光开关。这种光开关利用载流子浓度的变化引起马赫泽德两臂上折射率的改变以及两臂 光场相位改变从而实现开关功能。这种开关的速率可以达到40Gbit/s，但是这种开关两臂 上的载流子恢复时间无法再次縮短，并且在二维光子晶体中，工艺等问题仍然无法达到完 全可靠的程度，与光纤的耦合存在较大损耗，因此，这种全光开关使用到光通信上，仍具有 一定的局限性。
技术实现思路
本专利技术提供一种全光控制光开关，解决现有光无源器件响应速度不够和工作温度 受限的问题，以直接在光层实现巨大流量信号的传输与路由，并且能在室温下实现高速开 关工作。 本专利技术的一种全光控制光开关，包括位于底座平台上的多量子点层光学元件、控 制光光纤准直器、起偏器、信号光光纤准直器和检偏器，其特征在于 所述的核心半导体光学元件为多量子点层光学元件，所述多量子点层光学元件包括衬底、衬底上外延生长的量子点层和垒层，所述量子点层和垒层相互连续排列，相邻的单个量子点层和垒层的厚度之和为一个布拉格周期厚度；所述量子点层和垒层的总厚度满足使得入射信号光经过所述多量子点层光学元件在通讯波段形成高反射率光谱带。 所述起偏器和所述控制光光纤准直器依次位于控制光路上，控制光路与多量子点层光学元件输入面垂直；入射的信号光以一定夹角入射至核心半导体光学元件表面，并且信号光路与控制光路相交，所述检偏器位于信号光关于多量子点层光学元件的反射光路上，且检偏器偏振方向与起偏器偏振方向平行。 所述多量子点层光学元件的量子点层为在磷化铟(InP)材料上生长砷化铟 (InAs)量子点，或者在砷化镓(GaAs)材料上生长砷化铟(InAs)量子点，量子点层厚度和垒 层厚度之和为一个布拉格周期厚度，一个布拉格周期厚度等于量子点层内量子点重空穴激 子共振波长的一半。 本专利技术的核心光学元件为多量子点层光学元件，是一维光子晶体结构，通过超辐 射模的快速辐射衰减及非共振泵浦激发下光学斯塔克效应对有源光子能带结构的作用，产 生量子点内激子的虚激发，能级跃迁由泵浦光脉冲时间决定，因此可以实现超快的开关 动作。同时具有室温下的响应特性，性能可靠，工作寿命长，可应用于光分叉复用(0ADM)系 统和光交叉互连(0XC)系统，直接在光层实现巨大流量信号的传输与路由，满足交换节点 对网间光信号的上载与下载。附图说明 图1为本专利技术结构示意图。 图2为本专利技术中多量子点层光学元件结构示意图。 图3为多量子点层光学元件中单个周期的砷化铟(InAs)/磷化铟(InP)量子点层 侧面示意图。具体实施例方式以下结合附图对本专利技术进一步说明。 如图1所示，本专利技术包括位于底座平台上的多量子点层光学元件、控制光光纤准 直器、起偏器、信号光光纤准直器和检偏器。 图1中，1为多量子点层光学元件，2为信号光光纤准直器，3为控制光光纤准直器， 4为起偏器，5为检偏器，6为信号光路，7为控制光路，8为输出光路。 多量子点层光学元件自身对入射信号光的两个圆偏振分量具有相同的吸收系数，因此两束圆偏振光通过多量子点层光学元件后具有相同的光程以及相同的光场振幅，反射出多量子点层光学元件时，合并后的偏振光仍为线偏振，且与入射时的偏振方向保持一致。由于检偏器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全光控制光开关，包括位于底座平台上的核心半导体光学元件、控制光光纤准直器、起偏器、信号光光纤准直器和检偏器；其特征在于，所述的核心半导体光学元件为多量子点层光学元件，所述多量子点层光学元件包括衬底、衬底上外延生长的量子点层和垒层，所述量子点层和垒层相互连续排列，相邻的单个量子点层和垒层的厚度之和为一个布拉格周期厚度；所述量子点层和垒层的总厚度满足使得入射信号光经过所述多量子点层光学元件在通讯波段形成高反射率光谱带。

【技术特征摘要】
一种全光控制光开关，包括位于底座平台上的核心半导体光学元件、控制光光纤准直器、起偏器、信号光光纤准直器和检偏器；其特征在于，所述的核心半导体光学元件为多量子点层光学元件，所述多量子点层光学元件包括衬底、衬底上外延生长的量子点层和垒层，所述量子点层和垒层相互连续排列，相邻的单个量子点层和垒层的厚度之和为一个布拉格周期厚度；所述量子点层和垒层的总厚度满足使得入射信号光经过所述多量子点层光学元件在通讯波段形成高反射率光谱带。2. 如权利要求l的一种全光控制光开关，其特征在于，所述起偏器和所述控制...

【专利技术属性】
技术研发人员：王涛，肖昆辉，胡志强，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：83[中国|武汉]