一种液晶面板用刻蚀液组合物及其制备方法与应用技术

本发明专利技术涉及蚀刻液技术领域，尤其涉及IPC C23F领域，更具体的，涉及一种液晶面板用刻蚀液组合物及其制备方法与应用。按重量百分比计，组分包括：双氧水5～25％，螯合剂1～4％，抑制剂0.01～1.5％，蚀刻剂0.1～4％，双氧水稳定剂0.2～4％，氟系化合物0.005～1％，去离子水补足余量。应用于Cu和MTD合金双层膜具有优异的蚀刻性能，并且可以确保长时间使用的稳定性，使蚀刻工艺中可能发生的不良和成分消耗最小化，从而确保稳定的TFT‑LCD特性和降低成本的技术。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及蚀刻液，尤其涉及ipc c23f领域，更具体的，涉及一种液晶面板用刻蚀液组合物及其制备方法与应用。

技术介绍

1、目前液晶面板生产工艺中，随着电视等液晶显示终端的大尺寸化、高分辨率及驱动频率的需求，急需解决tft阵列基板中电阻/电容时间延迟问题。针对铜导线相对于铝导线有较低的电阻率及良好的抗电迁移能力，tft阵列制程中的金属导线多数采用铜导线，目前行业内已经用于量产的有cu/mo、cu/ti、cu/mtd、cu/monb等两层金属结构的蚀刻液。

2、cn113106453a公开了一种蚀刻液组合物及其应用，应用于制备薄膜晶体管液晶显示面板，所述蚀刻液组合物包括如下组分：过氧化氢、氟化物、金属缓蚀剂、过氧化氢稳定剂、金属络合剂、无机盐和水。通过各组分之间的协同作用，能够提高蚀刻液组合物能够较好的兼容多种膜层结构和材料，蚀刻后无残留，保存条件温和，降低仓储，运输成本。

3、上述技术中使用双氧水，磷酸和螯合剂，抑制剂以及氟基化合物进行蚀刻。当使用常规技术的组合物应用于cu和mtd合金(钼、钛、镍金属组成的钼合金)双层膜蚀刻时，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种液晶面板用刻蚀液组合物，其特征在于，按重量百分比计，组分包括：双氧水5～25％，螯合剂1～4％，抑制剂0.01～1.5％，蚀刻剂0.1～4％，双氧水稳定剂0.2～4％，氟系化合物0.005～1％，去离子水补足余量。

2.根据权利要求1所述的一种液晶面板用刻蚀液组合物，其特征在于，按重量百分比计，组分包括：双氧水16～23％，螯合剂2.5～3.5％，抑制剂0.05～0.3％，蚀刻剂0.5～1％，双氧水稳定剂0.6～2％，氟系化合物0.01～0.1％，去离子水补足余量。

3.根据权利要求2所述的一种液晶面板用刻蚀液组合物，其特征在于，所述双氧水稳定剂包括第一双...

【技术特征摘要】

1.一种液晶面板用刻蚀液组合物，其特征在于，按重量百分比计，组分包括：双氧水5～25％，螯合剂1～4％，抑制剂0.01～1.5％，蚀刻剂0.1～4％，双氧水稳定剂0.2～4％，氟系化合物0.005～1％，去离子水补足余量。

2.根据权利要求1所述的一种液晶面板用刻蚀液组合物，其特征在于，按重量百分比计，组分包括：双氧水16～23％，螯合剂2.5～3.5％，抑制剂0.05～0.3％，蚀刻剂0.5～1％，双氧水稳定剂0.6～2％，氟系化合物0.01～0.1％，去离子水补足余量。

3.根据权利要求2所述的一种液晶面板用刻蚀液组合物，其特征在于，所述双氧水稳定剂包括第一双氧水稳定剂和第二双氧水稳定剂，所述第一双氧水稳定剂和第二双氧水稳定剂重量比为1：(0.8-1.2)。

4.根据权利要求3所述的一种液晶面板用刻蚀液组合物，其特征在于，所述第一双氧水稳定剂包括烷基胺化合物。

5.根据权利要求4所述的一种液晶面板用刻蚀液组...

【专利技术属性】
技术研发人员：李恩庆，谢一泽，赵东，李闯，张红伟，黄海东，胡天齐，
申请(专利权)人：四川和晟达电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：