处理液的检定方法及处理液的制造方法技术

本发明专利技术的课题在于提供一种处理液的检定方法，其判定在用作显影液或冲洗液时，是否为能够形成抑制了线宽的不均的抗蚀剂图案的处理液。本发明专利技术的课题还在于提供一种处理液的制造方法。本发明专利技术的处理液的检定方法是一种含脂肪族烃系溶剂的处理液的检定方法，其具有：工序A1：获取处理液中的选自由具有碳数为1～3的烃基的羧酸及甲酸所组成的组中的至少一种酸成分的含量的测量数据；以及工序A2：判定工序A1中得到的测量数据是否包含于预先设定的许可范围。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种处理液的检定方法及处理液的制造方法。

技术介绍

1、以往，在ic(integrated circuit，集成电路)或lsi(large scale integratedcircuit，大规模集成电路)等半导体器件的制造工艺中，通过使用光致抗蚀剂组合物的光刻工艺进行微细加工。

2、在这样的光刻工艺中，由光致抗蚀剂组合物(也被称为感光化射线性或感放射线性树脂组合物，或化学增幅型抗蚀剂组合物)形成涂膜后，曝光所获得的涂膜，然后，用显影液进行显影而得到图案状固化膜，并用冲洗液对显影后的固化膜进行清洗。

3、例如，专利文献1中公开了将烃系溶剂用作显影液或冲洗液。

4、以往技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：国际公开第2016/208313号

技术实现思路

1、专利技术要解决的技术课题

2、如上所述，专利文献1公开了使用含有脂肪族烃系溶剂的显影液或冲洗液进行抗蚀剂膜处理，然而，本专利技术人等发现，处理后得到的抗蚀剂图案的线宽有时本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种处理液的检定方法，所述处理液含有脂肪族烃系溶剂，该方法具有：

2.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

3.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

4.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

5.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

6.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其具有：

7.根据权利要求6所述的处理液的检定方法，其中，

8.根据权利要求6所述的处理液的检定方法，其中，

9.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其具有：>

10.根据权...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种处理液的检定方法，所述处理液含有脂肪族烃系溶剂，该方法具有：

2.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

3.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

4.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

5.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其中，

6.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其具有：

7.根据权利要求6所述的处理液的检定方法，其中，

8.根据权利要求6所述的处理液的检定方法，其中，

9.根据权利要求1所述的处理液的检定方法，其具有：

10.根据权利要求9所述的处理液的检定方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水哲也，白川三千纮，高桥智美，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：