【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容的实施方式总体涉及用于涂覆部件的设备及技术。
技术介绍
1、许多微电子装置制造工艺在具有被涂覆的零件或部件的反应器中执行。这样的被涂覆的部件可提供一或更多种益处，例如，处理期间减少设置在反应器中的基板的污染物、改善工艺结果、在需要维护之前改善腔室的正常运行时间或类似益处。专利技术人已经观察到，涂覆反应器零件(诸如气体分配面板、喷头或类似物)的成本可能非常高。例如，传统地，这样的零件在批式反应器中涂覆，所述反应器每批例如可保持约2至8个面板。然而，取决于特定的零件配置及要施加的期望涂层，涂覆工艺每批可花费约3至8天。因此，即使有一次涂覆多个零件的益处，但这样的被涂覆零件的每单位成本仍然是高的。
2、因此，专利技术人提供了用于涂覆处理反应器部件零件的改进设备及技术。
技术实现思路
1、本文提供了用于涂覆处理反应器部件零件的方法及设备。在一些实施方式中，零件涂覆反应器包括：下主体及盖组件，下主体及盖组件共同限定及包围内部容积；设置在盖组件中的一或更多个加热器；一或更多个冷却剂通道，设置在盖组件中，以使传热介质通过所述冷却剂通道流动；穿过盖组件设置的多个气体通路，以促进向内部容积提供一或更多种气体，其中多个气体通路包括设置在盖组件中的多个流体独立的气室；及一或更多个安装支架，以促进将工件耦接到盖组件。
2、在一些实施方式中，零件涂覆反应器包括：下主体及盖组件，下主体及盖组件共同限定并且包围内部容积；设置在盖组件中的一或更多个加热器；一或更多个冷却剂通道，设
3、在一些实施方式中，用于经由原子层沉积涂覆零件的方法包括：将待涂覆的工件紧固至零件涂覆反应器的面对内部容积的部分；及在零件涂覆反应器内对所紧固的工件执行ald工艺。在一些实施方式中，工件是喷头。在一些实施方式中，工件是配置成支撑平面基板的基板支撑基座，诸如基座加热器。
4、下文描述本公开内容的其他及另外的实施方式。
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1.一种零件涂覆反应器，包括：
2.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
3.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中存在以下中的至少一者：
4.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述下主体及所述盖组件中的每一者包括形成在对向表面中的空腔，当所述下主体及所述盖组件组装在一起时，所述对向表面共同限定所述内部容积。
5.如权利要求4所述的零件涂覆反应器，其中所述下主体包括底板及从所述底板向上延伸并且部分地包围所述内部容积的侧壁，且其中所述盖组件包括顶板及从所述顶板向下延伸并且部分地包围所述内部容积的侧壁。
6.如权利要求5所述的零件涂覆反应器，进一步包括一或更多个对准特征以促进所述盖组件与所述下主体的对准及互连，其中所述一或更多个对准特征包括突起物或唇部及配合凹部，所述突起物或唇部围绕所述盖组件或所述下主体中的一者的周边边缘设置，所述配合凹槽被提供在所述盖组件或所述下主体中的另一者中以接收所述唇部并且与所述唇部对接。
7.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
8.如权利要求7所述
9.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中：
10.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中存在以下至少一者：
11.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述多个流体独立的气室被配置为向所述内部容积的多个区中的特定区提供所述一或更多种气体。
12.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述多个流体独立的气室中的每一者包括：
13.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中从气体源到所述多个流体独立气室的相应气室的长度、驻留时间或传导率中的至少一者大体上相等。
14.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述一或更多个安装支架包括多个支柱，所述多个支柱被配置为耦接到所述盖组件。
15.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括以下各者中的至少一者：
16.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
17.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
18.如权利要求17所述的零件涂覆反应器，其中所述恒温器耦接到控制器，所述控制器经配置以用于在使用期间所述盖组件的所述温度的反馈控制。
19.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
20.如权利要求19所述的零件涂覆反应器，其中所述多个导管包括第一导管、第二导管及第三导管，以向所述内部容积供应三种不同的气体。
21.如权利要求20所述的零件涂覆反应器，其中存在以下中的至少一者：
22.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，其中所述多个流体独立的气室包括外部环形气室及一或更多个内部环形气室。
23.如权利要求22所述的零件涂覆反应器，其中所述一或更多个内部环形气室是两个内部环形气室。
24.如权利要求23所述的零件涂覆反应器，其中：
25.如权利要求24所述的零件涂覆反应器，其中所述外部环形气室在沿着所述外部环形气室的多个位置处耦接到第一导管，其中第一内部环形气室在沿着所述第一内部环形气室的多个位置处耦接到第二导管，且其中第二内部环形气室在沿着所述第二内部环形气室的多个位置处耦接到第三导管，且其中沿着所述外部环形气室及所述两个内部环形气室中的任何一个环形气室的所述多个位置中的每一个位置彼此等距地间隔开。
26.如权利要求25所述的零件涂覆反应器，其中存在以下至少一者：
27.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
28.如权利要求27所述的零件涂覆反应器，其中所述第一多个支管、所述第二多个支管或所述第三多个支管中的共用支管内的个别支管具有设置在共用平面中的水平部分、及从所述共用平面延伸至所述盖组件的竖直部分，而所述第一多个支管、所述第二多个支管或所述第三多个支管中的不同支管内的支管具有设置在不同平面中的相应水平部分。
29.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
30.如权利要求29所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
31.如权利要求30所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
32.如权利要求31所述的零件涂覆反应器：
33.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，进一步包括...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种零件涂覆反应器，包括：
2.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
3.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中存在以下中的至少一者：
4.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述下主体及所述盖组件中的每一者包括形成在对向表面中的空腔，当所述下主体及所述盖组件组装在一起时，所述对向表面共同限定所述内部容积。
5.如权利要求4所述的零件涂覆反应器，其中所述下主体包括底板及从所述底板向上延伸并且部分地包围所述内部容积的侧壁，且其中所述盖组件包括顶板及从所述顶板向下延伸并且部分地包围所述内部容积的侧壁。
6.如权利要求5所述的零件涂覆反应器，进一步包括一或更多个对准特征以促进所述盖组件与所述下主体的对准及互连，其中所述一或更多个对准特征包括突起物或唇部及配合凹部，所述突起物或唇部围绕所述盖组件或所述下主体中的一者的周边边缘设置，所述配合凹槽被提供在所述盖组件或所述下主体中的另一者中以接收所述唇部并且与所述唇部对接。
7.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
8.如权利要求7所述的零件涂覆反应器，其中所述密封件包括凹槽，所述凹槽设置在所述盖组件或所述下主体中的一者中以接收垫片，从而促进在组装时维持所述盖组件与所述下主体之间的密封。
9.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中：
10.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中存在以下至少一者：
11.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述多个流体独立的气室被配置为向所述内部容积的多个区中的特定区提供所述一或更多种气体。
12.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述多个流体独立的气室中的每一者包括：
13.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中从气体源到所述多个流体独立气室的相应气室的长度、驻留时间或传导率中的至少一者大体上相等。
14.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，其中所述一或更多个安装支架包括多个支柱，所述多个支柱被配置为耦接到所述盖组件。
15.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括以下各者中的至少一者：
16.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
17.如权利要求1所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
18.如权利要求17所述的零件涂覆反应器，其中所述恒温器耦接到控制器，所述控制器经配置以用于在使用期间所述盖组件的所述温度的反馈控制。
19.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
20.如权利要求19所述的零件涂覆反应器，其中所述多个导管包括第一导管、第二导管及第三导管，以向所述内部容积供应三种不同的气体。
21.如权利要求20所述的零件涂覆反应器，其中存在以下中的至少一者：
22.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，其中所述多个流体独立的气室包括外部环形气室及一或更多个内部环形气室。
23.如权利要求22所述的零件涂覆反应器，其中所述一或更多个内部环形气室是两个内部环形气室。
24.如权利要求23所述的零件涂覆反应器，其中：
25.如权利要求24所述的零件涂覆反应器，其中所述外部环形气室在沿着所述外部环形气室的多个位置处耦接到第一导管，其中第一内部环形气室在沿着所述第一内部环形气室的多个位置处耦接到第二导管，且其中第二内部环形气室在沿着所述第二内部环形气室的多个位置处耦接到第三导管，且其中沿着所述外部环形气室及所述两个内部环形气室中的任何一个环形气室的所述多个位置中的每一个位置彼此等距地间隔开。
26.如权利要求25所述的零件涂覆反应器，其中存在以下至少一者：
27.如权利要求1至18中任一项所述的零件涂覆反应器，进一步包括：
28.如权利要求27所述的零件涂覆反应器，其中所述第一多个支管、所述第二多个支管或所述第三多个支管中的共用支管内的个别支管具有设置在共用平面中的水平部分、及从所述共用平面延伸至所述盖组件的竖直部分，而所述第一多个支管、所述第二多个支管或所述第三多个支管中的不同支管内的支管具有设置在不同平面中的相应水平...
【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·R·赖斯，哈尼什·库马尔·帕嫐瓦雷皮力·库马尔安库提，史蒂芬·D·马库斯，K·奈纳·尚穆甘，斯里哈尔沙·达尔马普拉·撒斯亚纳拉亚纳姆西，马杜卡尔·克里什纳，S·P·赫里马斯，森蒂尔·库马尔·纳塔迈·苏拉马尼安，桑卡·梅农·切鲁巴拉·帕塔亚普拉，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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