【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体，特别是涉及一种样品清洗装置及半导体设备。
技术介绍
1、随着我国半导体产业的发展，各行各业都进行了相关的投入，纷纷参与到器件制造加工的各个环节，各地科研院所、学校纷纷建立相关半导体制造研发平台。
2、部分传统的半导体设备运用强酸或强碱等清洗液对硅片等样品进行清洗。
3、然而，传统的半导体设备的清洗池内的强酸或强碱等清洗液，存在易被误触甚至溅出的风险，存在安全隐患。
4、本申请的
技术介绍
所公开的以上信息仅用于理解本申请构思的背景，并且可以包含不构成现有技术的信息。
技术实现思路
1、基于此，针对上述问题，有必要提供一种样品清洗装置及半导体设备。
2、一种样品清洗装置，其包括：
3、清洗组件，所述清洗组件包括装载盘及操作杆，所述操作杆设于所述装载盘上方，所述装载盘用于装载样品；及
4、清洗台，所述清洗台包括箱体与盖体，所述箱体开设有清洗池，所述清洗池用于盛放清洗液，所述清洗液用于清洗所述样品；所述盖体盖设于所述清洗池上方，所述盖体的侧周面开设有进料槽，所述盖体的顶面开设有与所述进料槽连通的导向槽，所述导向槽用于供所述操作杆通过，所述进料槽用于供所述装载盘通过。
5、上述样品清洗装置，其清洗池内可以盛放用于清洗样品的清洗液。其中，清洗液可以包括但不限于强酸或强碱，样品可以包括但不限于硅片。要清洗样品时，用户可以样品放置在装载盘上，利用操作杆带动装载盘，使装载盘从清洗台侧面的进料槽进入，并
6、在其中一个实施例中，所述箱体与所述盖体可拆卸连接。换言之，盖体可以是单独的部件，需要时再加装至清洗池上，若盖体需要维修或更换，亦可将盖体拆卸下来。
7、在其中一个实施例中，所述箱体与所述盖体一体成型。
8、在其中一个实施例中，所述箱体包括第一箱体和第二箱体，所述第一箱体开设有第一清洗池，所述第一清洗池用于盛放所述清洗液，所述第二箱体开设有第二清洗池，所述第二清洗池用于盛放去离子水，所述盖体同时盖设于所述第一清洗池上方与所述第二清洗池上方，所述导向槽从所述第一清洗池上方延伸至所述第二清洗池上方。样品经过第一清洗池的强酸或强碱等清洗液的清洗后，样品表面可能还会粘有清洗液，故可将样品放入第二清洗池，利用去离子水对样品再次清洗，以去除样品上残留的清洗液。
9、在其中一个实施例中，所述样品清洗装置还包括单向限位组件，所述单向限位组件设于盖体且能够相对所述导向槽运动至第一位置和第二位置，在所述第一位置时，所述单向限位组件位于所述导向槽内以拦截所述操作杆，在所述第二位置时，所述单向限位组件退出所述导向槽以让所述操作杆通过。这样的结构设置可以认为是，单向限位组件在第二位置时不阻挡操作杆在导向槽的运动，操作杆可以从第一清洗池上方沿着导向槽滑动至第二清洗池上方，而后再将装载盘及其上的样品浸入第二清洗池内。当样品在第二清洗池内利用去离子水清洗完成时，为了避免操作杆带动装载盘及样品，沿着导向槽从第二清洗池向第一清洗池原路返回，单向限位组件可以运动至第一位置，从而拦截操作杆，避免样品回到第一清洗池。换言之，单向限位组件的设置可以认为是限制了操作杆仅能从第一清洗池向第二清洗池作单向运动，从而避免经过第二清洗池清洗的样品回到第一清洗池。
10、在其中一个实施例中，所述单向限位组件包括导向块与弹性件，所述弹性件弹性抵接于所述导向块背向所述导向槽的一侧，所述弹性件用于提供弹力以使所述导向块运动至所述第一位置，在所述第一位置时，所述导向块位于所述导向槽内以拦截所述操作杆；所述导向块靠近所述第一箱体的一面为导向斜面，所述导向斜面用于与所述操作杆抵接，以使所述导向块挤压所述弹性件并从所述第一位置运动至所述第二位置，在所述第二位置时，所述导向块位于所述导向槽内以让所述操作杆通过。这样的结构设置可以认为是，操作杆可以通过导向斜面与导向块抵接，并使导向块沿克服弹力的方向运动，直至导向块退出导向槽运动至第二位置，此时操作杆便可以通过。当操作杆不与导向块抵接时，导向块便可以在弹性件的弹力作用下，从第二位置自动复位至第一位置。
11、在其中一个实施例中，所述装载盘镂空设置。以样品浸入清洗液中时为例，样品承载在装载盘上方，而装载盘镂空设置，则清洗液可以从装配盘的镂空之处浸润至样品的下方，从而对样品进行更为全面的清洗，提升了清洗效果。
12、在其中一个实施例中，所述操作杆的数量设置为多个，多个所述操作杆间隔设置；和/或，所述导向槽的数量设置为多个，多个所述导向槽平行设置，所述导向槽用于供至少一个所述操作杆通过。操作杆的数量增加，可以让多个操作杆与装载盘之间的连接更为牢靠，从而更为可靠地承载更多更大的样品，有利于提升工作可靠性和工作效率。
13、在其中一个实施例中，多个所述操作杆环绕所述装载盘的边缘间隔设置。
14、在其中一个实施例中，所述装载盘的横截面呈四方形，所述操作杆的数量设置为四个，四个所述操作杆分别设于所述装载盘的四个角上方；所述导向槽的数量设置为两个，两个所述导向槽平行设置，其中一个所述导向槽用于供两个所述操作杆通过，另一个所述导向槽用于供另外两个所述操作杆通过。
15、本申请还提供一种半导体设备，其包括如上述任一实施例所述的样品清洗装置。
16、上述半导体设备包括有上述任一实施例所述的样品清洗装置，故所述半导体设备亦至少包括如下有益效果：样品清洗装置的清洗池内可以盛放用于清洗样品的清洗液。其中，清洗液可以包括但不限于强酸或强碱，样品可以包括但不限于硅片。要清洗样品时，用户可以样品放置在装载盘上，利用操作杆带动装载盘，使装载盘从清洗台侧面的进料槽进入，并使操作杆滑入导向槽，待装载盘运动至清洗池上方时，再将装载盘连同其上的样品一同浸入清洗池的清洗液内，从而利用清洗液对样品进行清洗。可以理解的，强酸或强碱等清洗液均具有强烈的腐蚀性，易对人员或其他物品造成损害，需妥善存放，故本申请在清洗池上方增设了盖体，盖体的设置可以避免清洗池内的清洗液溅出，盖体还可以防止非专业人员误操作而将手部伸入池内，亦或是防止非专业人员将清洗池内的清洗液误盛出，这极大地提升了该样品清洗装置使用时的安全系数。
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1.一种样品清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的样品清洗装置，其特征在于，所述箱体与所述盖体一体成型或可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述的样品清洗装置，其特征在于，所述箱体包括第一箱体和第二箱体，所述第一箱体开设有第一清洗池，所述第一清洗池用于盛放所述清洗液，所述第二箱体开设有第二清洗池，所述第二清洗池用于盛放去离子水，所述盖体同时盖设于所述第一清洗池上方与所述第二清洗池上方，所述导向槽从所述第一清洗池上方延伸至所述第二清洗池上方。
4.根据权利要求3所述的样品清洗装置，其特征在于，所述样品清洗装置还包括单向限位组件，所述单向限位组件设于盖体且能够相对所述导向槽运动至第一位置和第二位置，在所述第一位置时，所述单向限位组件位于所述导向槽内以拦截所述操作杆，在所述第二位置时，所述单向限位组件退出所述导向槽以让所述操作杆通过。
5.根据权利要求4所述的样品清洗装置，其特征在于，所述单向限位组件包括导向块与弹性件，所述弹性件弹性抵接于所述导向块背向所述导向槽的一侧，所述弹性件用于提供弹力以使所述导向块运动至所述第一位置，
6.根据权利要求1所述的样品清洗装置，其特征在于，所述装载盘镂空设置。
7.根据权利要求1所述的样品清洗装置，其特征在于，所述操作杆的数量设置为多个，多个所述操作杆间隔设置；和/或，所述导向槽的数量设置为多个，多个所述导向槽平行设置，所述导向槽用于供至少一个所述操作杆通过。
8.根据权利要求7所述的样品清洗装置，其特征在于，多个所述操作杆环绕所述装载盘的边缘间隔设置。
9.根据权利要求8所述的样品清洗装置，其特征在于，所述装载盘的横截面呈四方形，所述操作杆的数量设置为四个，四个所述操作杆分别设于所述装载盘的四个角上方；所述导向槽的数量设置为两个，两个所述导向槽平行设置，其中一个所述导向槽用于供两个所述操作杆通过，另一个所述导向槽用于供另外两个所述操作杆通过。
10.一种半导体设备，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的样品清洗装置。
...【技术特征摘要】
1.一种样品清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的样品清洗装置，其特征在于，所述箱体与所述盖体一体成型或可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述的样品清洗装置，其特征在于，所述箱体包括第一箱体和第二箱体，所述第一箱体开设有第一清洗池，所述第一清洗池用于盛放所述清洗液，所述第二箱体开设有第二清洗池，所述第二清洗池用于盛放去离子水，所述盖体同时盖设于所述第一清洗池上方与所述第二清洗池上方，所述导向槽从所述第一清洗池上方延伸至所述第二清洗池上方。
4.根据权利要求3所述的样品清洗装置，其特征在于，所述样品清洗装置还包括单向限位组件，所述单向限位组件设于盖体且能够相对所述导向槽运动至第一位置和第二位置，在所述第一位置时，所述单向限位组件位于所述导向槽内以拦截所述操作杆，在所述第二位置时，所述单向限位组件退出所述导向槽以让所述操作杆通过。
5.根据权利要求4所述的样品清洗装置，其特征在于，所述单向限位组件包括导向块与弹性件，所述弹性件弹性抵接于所述导向块背向所述导向槽的一侧，所述弹性件用于提供弹力以使所述导向块运动至所述第一位置，在所述第一位置时，所述导向块位于所述导向槽内...
【专利技术属性】
技术研发人员：张锐，马续航，王尧，王春柱，瞿学选，
申请(专利权)人：南方科技大学，
类型：新型
国别省市：
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