System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种高耐候防窥膜及其制备工艺制造技术_技高网

一种高耐候防窥膜及其制备工艺制造技术

技术编号:41007361 阅读:3 留言:0更新日期:2024-04-18 21:43
本发明专利技术涉及防窥膜领域,具体是一种高耐候防窥膜及其制备工艺,防窥膜包含依次层合的基膜、防窥功能层、防护层;防窥功能层中通过限定透视单元、非透视单元的宽度及形状设计,使其交替形成百叶窗结构;合成具有自修复性的预聚体作为光固化涂料的基料,本发明专利技术中用生物基原料蓖麻油替代化工原料,通过酰胺化反应制备蓖麻油酰二乙醇胺,然后将其与异佛尔酮二异氰酸酯、端羟基聚二甲基硅氧烷合成中间预聚体,以二氨基二苯二硫醚为扩链剂,甲基丙烯酸羟乙酯、复合二氧化硅作为封端剂;先在纳米氮化硼上复合二氧化硅,得到杂化二氧化硅,然后接枝硼酸基共轭微孔聚合物,与1,2,6‑己三醇继续反应,生成含有动态硼酸酯键的复合二氧化硅。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及防窥膜领域,具体是一种高耐候防窥膜及其制备工艺


技术介绍

1、随着科技的发展,手机与平板电脑的普及为人们提供了很多方便。然而由于目前使用的屏幕具有较大的可视角,浏览的信息易被其他人获取。因此需要防窥膜来提高信息的保护性。

2、目前市场上的防窥膜是光固化成型,常用裁切角度为5°-35°,裁切角度大,使防窥膜贴在手机或平板上后清晰度差,容易产生摩尔纹;市场现有防窥膜结构中的透视单元一般为长方体,容易造成拉丝纹,且具有较低的透光率和抗机械损伤能力,影响消费者的体验感。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种高耐候防窥膜及其制备工艺,以解决现有技术中的问题。

2、为了解决上述技术问题,本专利技术提供如下技术方案:

3、一种高耐候防窥膜,包括自下而上依次设置的基膜、防窥功能层、防护层,防窥功能层包括若干个透视单元和非透视单元,透视单元和非透视单元依次交替设置形成百叶窗结构;

4、防护层由以下组分制备:光引发剂、自修复预聚体、溶剂、复合二氧化硅;防窥功能层、防护层由光固化处理得到。

5、进一步的,防窥膜的裁切角度为0-5°。

6、进一步的,透视单元的宽度为24.5-48µm,透视单元的高度与宽度比为2.5-3.3。

7、进一步的,非透视单元的宽度为10-15µm。

8、进一步的,透视单元的截面底部为梯形,透视单元的侧壁与基膜的垂直面的夹角在1-2°。

9、一种高耐候防窥膜的制备工艺,包括以下步骤:

10、s1:取聚对苯二甲酸乙二醇酯作为基膜;

11、s2:将自修复预聚体、黑色染料、光引发剂、溶剂混合,超声处理,得到非透视单元涂料;

12、s3:将自修复预聚体、复合二氧化硅、光引发剂、溶剂混合,超声处理,得到防护涂料;

13、s4:将非透视单元涂料、防护涂料交替涂覆在基膜表面,一次光固化处理,得到防窥功能层;

14、s5:将防护涂料涂覆在防窥功能层表面,二次光固化处理,形成防护层,得到一种高耐候防窥膜。

15、进一步的,一次光固化处理的工作条件为:在波长为365nm的光下照射2-4秒;二次光固化处理的工作条件为:在波长为365nm的光下照射2-4秒。

16、进一步的,以重量份数计,非透视单元涂料中各组分含量为:自修复预聚体8-12份、黑色染料0.1-0.2份、光引发剂0.04-0.08份、溶剂20-25份。

17、进一步的,以重量份数计,防护涂料中各组分含量为:自修复预聚体8-12份、复合二氧化硅0.17-0.25份、光引发剂0.04-0.08份、溶剂20-25份。

18、进一步的,光引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-2-(4-吗啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦中一种或几种。

19、进一步的,溶剂为乙酸乙酯、n,n-二甲基甲酰胺中一种。

20、进一步的,基膜的厚度为23-75丝。

21、进一步的,自修复预聚体的制备包括以下步骤:

22、(1)在真空条件下,将蓖麻油、二乙醇胺混合,加入氢氧化钾,升温至50-60℃保温2-2.5h,加入乙酸乙酯,用饱和氯化钠洗涤3-5次,静置分层,用无水硫酸镁干燥、过滤、旋蒸,得到蓖麻油酰二乙醇胺;

23、(2)在氮气气氛下,将端羟基聚二甲基硅氧烷、蓖麻油酰二乙醇胺、异佛尔酮二异氰酸酯、n,n-二甲基甲酰胺、二月桂酸二丁基锡混合,在78-82℃保温1-2h,得到中间预聚体;将中间预聚体降温至35-40℃,加入二氨基二苯二硫醚,保温40-60min,加入甲基丙烯酸羟乙酯、复合二氧化硅、n,n-二甲基甲酰胺,保温1-2h,得到自修复预聚体。

24、进一步的,复合二氧化硅的制备包括以下步骤:

25、1)将纳米氮化硼用体积比为3:1的硫酸与硝酸溶液酸化处理4-5h,加入乙醇、去离子水混合液,超声分散50-60min,将ph调节为8-9,加入硅酸四乙酯、无水乙醇的混合液,超声处理50-60min,搅拌16-18h,加入3-氨丙基三乙氧基硅烷、乙醇、乙酸的混合液中,搅拌5-6h,离心、洗涤、干燥,得到杂化二氧化硅;

26、2)在氮气气氛下,将三(4-氨基苯基)胺、3,5-二溴苯硼酸、双(二亚苄基丙酮)钯、2-环己基磷-2',4',6'-三异丙基联苯、叔丁醇钠、1,4-二氧六环混合,在98-102℃油浴搅拌44-48h,依次经热去离子水、n,n-二甲基甲酰胺、四氢呋喃洗涤3-5次,干燥,得到硼酸基共轭微孔聚合物;

27、3)将杂化二氧化硅、异丙醇混合,加入硼酸基共轭微孔聚合物、氯仿,超声处理20min,得到改性二氧化硅;

28、4)将复合二氧化硅、1,2,6-己三醇、四氢呋喃混合,加入硫酸镁,在18-25℃保温22-24h,过滤,减压浓缩,加入乙酸乙酯,超声处理、过滤、减压浓缩,得到复合二氧化硅。

29、本专利技术的有益效果:

30、本专利技术提供一种高耐候防窥膜及其制备工艺,防窥膜包含依次层合的基膜、防窥功能层、防护层,通过原料及结构设计,光固化,得到具有自修复超疏水表面的高耐候防窥膜。

31、防窥功能层中通过限定透视单元、非透视单元的宽度及形状设计,使其交替形成百叶窗结构,使得防窥膜的裁切角度在0-5°,使其与现有市场中流通的手机与平板的屏幕不产生摩尔纹,清晰度高;将防窥功能层中透视单元设计成梯形结构,其与基膜连接处为梯形长边,且透视单元的侧壁与基膜的垂直面的夹角在1-2°,便于uv结构在转印的时候脱模,以利于更好转写。

32、为了提高防窥膜的抗机械损伤性,合成具有自修复性的预聚体作为光固化涂料的基料,本专利技术中用生物基原料蓖麻油替代化工原料,通过酰胺化反应制备蓖麻油酰二乙醇胺,然后将其与异佛尔酮二异氰酸酯、端羟基聚二甲基硅氧烷合成中间预聚体,以二氨基二苯二硫醚为扩链剂,甲基丙烯酸羟乙酯、复合二氧化硅作为封端剂,得到既含有双键,又兼具多重动态键,如二硫键、硼酸酯键的含硅预聚体,使其在uv条件下固化,赋予其自修复性与耐腐蚀性。

33、为了赋予防窥膜增透减反性与耐腐蚀性,在防护涂料中引入纳米氮化硼与二氧化硅作为填料,为了提高填料的分散性,先在纳米氮化硼上复合二氧化硅,得到杂化二氧化硅,然后利用共轭微孔聚合物的π-π强相互作用,在杂化二氧化硅上接枝硼酸基共轭微孔聚合物,得到改性氮化硼,从而大幅提高其抗菌性,利用改性氮化硼上硼酸基与1,2,6-己三醇反应,进一步生成含有动态硼酸酯键的复合二氧化硅,将其作为自修复预聚体的封端剂,大幅提高涂料的自修复性。

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【技术保护点】

1.一种高耐候防窥膜,其特征在于,包括自下而上依次设置的基膜(1)、防窥功能层(2)、防护层(3),所述防窥功能层(2)包括若干个透视单元(21)和非透视单元(22),所述透视单元(21)和非透视单元(22)依次交替设置形成百叶窗结构;

2.根据权利要求1所述的一种高耐候防窥膜,其特征在于,所述防窥膜的裁切角度为0-5°。

3.根据权利要求1所述的一种高耐候防窥膜,其特征在于,所述透视单元(21)的宽度为24.5-48µm,所述透视单元(21)的高度与宽度比为2.5-3.3。

4.根据权利要求1所述的一种高耐候防窥膜,其特征在于,所述透视单元(21)的截面底部为梯形,所述透视单元(21)的侧壁与基膜(1)的垂直面的夹角在1-2°。

5.根据权利要求1-4任一项所述的高耐候防窥膜的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

6.根据权利要求5所述的一种高耐候防窥膜的制备工艺,其特征在于,一次光固化处理的工作条件为:在波长为365nm的光下照射2-4秒;二次光固化处理的工作条件为:在波长为365nm的光下照射2-4秒。

>7.根据权利要求5所述的一种高耐候防窥膜的制备工艺,其特征在于,以重量份数计,非透视单元涂料中各组分含量为:自修复预聚体8-12份、黑色染料0.1-0.2份、光引发剂0.04-0.08份、溶剂20-25份。

8.根据权利要求5所述的一种高耐候防窥膜的制备工艺,其特征在于,以重量份数计,防护涂料中各组分含量为:自修复预聚体8-12份、复合二氧化硅0.17-0.25份、光引发剂0.04-0.08份、溶剂20-25份。

9.根据权利要求5所述的一种高耐候防窥膜的制备工艺,其特征在于,自修复预聚体的制备包括以下步骤:

10.根据权利要求5所述的一种高耐候防窥膜的制备工艺,其特征在于,复合二氧化硅的制备包括以下步骤:

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【技术特征摘要】

1.一种高耐候防窥膜,其特征在于,包括自下而上依次设置的基膜(1)、防窥功能层(2)、防护层(3),所述防窥功能层(2)包括若干个透视单元(21)和非透视单元(22),所述透视单元(21)和非透视单元(22)依次交替设置形成百叶窗结构;

2.根据权利要求1所述的一种高耐候防窥膜,其特征在于,所述防窥膜的裁切角度为0-5°。

3.根据权利要求1所述的一种高耐候防窥膜,其特征在于,所述透视单元(21)的宽度为24.5-48µm,所述透视单元(21)的高度与宽度比为2.5-3.3。

4.根据权利要求1所述的一种高耐候防窥膜,其特征在于,所述透视单元(21)的截面底部为梯形,所述透视单元(21)的侧壁与基膜(1)的垂直面的夹角在1-2°。

5.根据权利要求1-4任一项所述的高耐候防窥膜的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

6.根据权利要求5所述的一种高耐候防窥...

【专利技术属性】
技术研发人员:毛佳明
申请(专利权)人:慈溪市上林电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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