【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空自耗炉领域，具体为一种真空自耗炉的底座旋转机构。
技术介绍
1、真空自耗炉一般指非自耗真空电弧炉，而真空自耗炉的底座旋转机构，就是用于将真空自耗炉的真空熔炼腔体旋转到不同的熔炼站上的机构。现在常用的旋转机构使用的是电机或气动马达驱动减速机，再由减速机上安装的齿轮、链轮或带轮，来带动底座的旋转，结构比较复杂，使用和维护成本较高。
技术实现思路
1、本技术的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种真空自耗炉的底座旋转机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、一种真空自耗炉的底座旋转机构，包括回转支撑轴承、旋转立柱支架和底座，所述回转支撑轴承安装在底座上端中间，所述旋转立柱支架安装在回转支撑轴承上部，所述旋转立柱支架前部安装有真空熔炼腔体；
3、所述底座上端后侧右方铰接有锁紧气缸，所述锁紧气缸的活塞杆末端与旋转立柱支架下部转动连接，所述底座上端左右两侧均固定有限位座，所述限位座上依次安装有弹簧缓存器、接近开关和限位螺钉，所述弹簧缓存器、接近开关和限位螺钉均与旋
【技术保护点】
1.一种真空自耗炉的底座旋转机构，包括回转支撑轴承(1)、旋转立柱支架(2)和底座(10)，所述回转支撑轴承(1)安装在底座(10)上端中间，所述旋转立柱支架(2)安装在回转支撑轴承(1)上部，所述旋转立柱支架(2)前部安装有真空熔炼腔体(14)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种真空自耗炉的底座旋转机构，其特征在于：所述回转支撑轴承(1)的外圈与旋转立柱支架(2)固定，所述回转支撑轴承(1)的内圈与底座(10)固定。
3.根据权利要求1所述的一种真空自耗炉的底座旋转机构，其特征在于：所述底座(10)上端后侧右方固定有固定座(4)，所述...
【技术特征摘要】
1.一种真空自耗炉的底座旋转机构，包括回转支撑轴承(1)、旋转立柱支架(2)和底座(10)，所述回转支撑轴承(1)安装在底座(10)上端中间，所述旋转立柱支架(2)安装在回转支撑轴承(1)上部，所述旋转立柱支架(2)前部安装有真空熔炼腔体(14)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种真空自耗炉的底座旋转机构，其特征在于：所述回转支撑轴承(1)的外圈与旋转立柱支架(2)固定，所述回转支撑轴承(1)的内圈与底座(10)固定。
3.根据权利要求1所述的一种真空自耗炉的底座旋转机构，其特征在于：所述底座(10)上端后侧右方固定有固定座(4)，所述固定座(4)左端固定有单耳支架(11)，所述锁紧气缸(3)靠近单耳支架(11)的一端固定有双耳支架(12)，所述单耳支架...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪澎，李心钰，
申请(专利权)人：上海元定科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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