显示装置以及用于制造其的掩模制造方法及图纸

技术编号:40995134 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-18 21:35
本申请涉及显示装置以及用于制造其的掩模。显示装置包括:衬底;像素电极,设置在衬底上;第一堤,包括暴露像素电极的中央部分的堤开口;第二堤,设置在第一堤的外侧上并且包括比第一堤大的厚度;发射层,设置在堤开口中并且对应于像素电极;以及相对电极,与第一堤、第二堤和发射层重叠,其中,第一堤和第二堤各自包括负型光刻胶。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及具有改进的显示质量的显示装置、用于制造其的掩模以及制造显示装置的方法。


技术介绍

1、通常,显示装置包括像素,其接收电信号并响应于电信号发光以显示图像。有机发光显示设备(oled)的像素包括有机发光二极管作为显示元件。每个有机发光二极管包括像素电极、发射层和相对电极。有机发光二极管的发射层可以通过将包括发光材料的墨水排放到像素电极上来形成。


技术实现思路

1、然而,在现有的显示装置中,有机发光二极管的相对电极可能由于下部结构而断开连接,并且因此,像素的亮度可能根据像素的位置而不同。

2、本公开实现了包括克服上述问题的各种技术目标,并且提供了其显示质量通过减小像素之间的根据像素的位置的亮度差而改善的显示装置、用于制造该显示装置的掩模以及制造显示装置的方法。然而,这仅是示例,并且本公开的范围不限于此。

3、另外的方面将部分地在随后的描述中阐述,并且部分地将从描述中显而易见,或者可以通过实践本公开的实施方式来获知。

4、根据一个或多个实施方式,显示装置可包括:衬底;像素电极,设置在衬底上;第一堤,包括暴露像素电极的中央部分的堤开口;第二堤,设置在第一堤的外侧上并且包括比第一堤大的厚度;发射层,设置在堤开口中并且对应于像素电极;以及相对电极,与第一堤、第二堤和发射层重叠,其中,第一堤和第二堤各自包括负型光刻胶。

5、第一堤和第二堤可以彼此成一体。

6、第一堤的厚度可以小于或等于第二堤的厚度的约一半。

7、第二堤的厚度可以是约300nm至约3μm。

8、由第一堤的侧壁与像素电极的上表面形成的角度可以小于或等于约50°。

9、由第二堤的侧壁与第一堤的上表面形成的角度可以小于或等于约50°。

10、第一堤和第二堤中的每一个的表面可以是拒液的。

11、显示装置还可以包括:间隔件,设置在衬底上以与像素电极分开;以及第三堤,与间隔件重叠并从第二堤的上表面突出。

12、第一堤、第二堤和第三堤可以彼此成一体。

13、间隔件可以包括正型光刻胶。

14、根据一个或多个实施方式,制造显示装置的方法可以包括:在衬底上形成像素电极;在像素电极上形成包括负型光刻胶的第一有机层;通过使用狭缝掩模将光照射到第一有机层上,并将第一有机层显影成有机图案层;通过加热有机图案层以形成第一堤和第二堤,第一堤包括堤开口,堤开口暴露像素电极的中央部分,第二堤设置在第一堤的外侧上,并且相比于第一堤,第二堤的厚度更大;与像素电极对应地在堤开口中形成发射层;以及形成相对电极以与第一堤、第二堤和发射层重叠。

15、有机图案层可以包括第一图案和第二图案,第一图案包括多个线图案,第二图案设置在第一图案的外侧上。

16、多个线图案中的任一个可以与像素电极的边缘重叠。

17、在平面图中,多个线图案中的每一个可以具有围绕像素电极的中央部分的环形形状。

18、该方法还可以包括在形成像素电极与形成第一有机层之间形成与像素电极分开的间隔件。

19、在形成第一堤和第二堤时,可以形成与间隔件重叠并从第二堤的上表面突出的第三堤。

20、间隔件可以包括正型光刻胶。

21、形成发射层可以包括通过将包括发光材料的墨水排放到堤开口中来形成发射层。

22、由第一堤的侧壁与像素电极的上表面形成的角度可以小于或等于约50°。

23、由第二堤的侧壁与第一堤的上表面形成的角度可以小于或等于约50°。

24、第一堤和第二堤中的每一个的表面可以是拒液的。

25、根据一个或多个实施方式,用于制造显示装置的掩模可以包括:第一掩模图案,与显示装置的像素电极对应;以及第二掩模图案,围绕第一掩模图案并包括供光穿过的多个狭缝。

26、在平面图中,多个狭缝中的每一个可以具有围绕第一掩模图案的环形形状。

27、多个狭缝中的任一个可对应于像素电极的边缘。

28、根据用于实施本公开的以下详细描述、权利要求书和附图,除了以上描述的方面、特征和优点之外的其它方面、特征和优点将变得显而易见。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一堤和所述第二堤彼此成一体。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一堤的厚度小于或等于所述第二堤的厚度的一半。

4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第二堤的厚度为300nm至3μm。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,由所述第一堤的侧壁与所述像素电极的上表面形成的角度小于或等于50°。

6.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,由所述第二堤的侧壁与所述第一堤的上表面形成的角度小于或等于50°。

7.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,还包括:

8.一种用于制造显示装置的掩模,其特征在于,所述掩模包括:

9.根据权利要求8所述的掩模,其特征在于,在平面图中,所述多个狭缝中的每一个具有围绕所述第一掩模图案的环形形状。

10.根据权利要求8所述的掩模,其特征在于,所述多个狭缝中的任一个对应于所述像素电极的边缘。

【技术特征摘要】

1.一种显示装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一堤和所述第二堤彼此成一体。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一堤的厚度小于或等于所述第二堤的厚度的一半。

4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第二堤的厚度为300nm至3μm。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,由所述第一堤的侧壁与所述像素电极的上表面形成的角度小于或等于50°。

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【专利技术属性】
技术研发人员:宋垠澔罗艺瑟具永谟
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:新型
国别省市:

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