【技术实现步骤摘要】
本公开涉及显示装置和制造显示装置的方法。
技术介绍
1、随着多媒体技术的发展，显示装置变得越来越重要。相应地，各种显示装置比如液晶显示(lcd)装置和有机发光二极管(oled)显示装置等被广泛地用于各种领域。
2、自发光显示装置(其为一类显示装置)包括自发光元件比如oled。自发光元件中的每一个可包括彼此相对的两个电极和插入两个电极之间的发射层。在其中自发光元件为oled的情况下，来自两个电极的电子和空穴可在发射层中复合在一起以生成激子，并且可响应激子从激发态到基态的跃迁而发射光。
3、自发光显示装置可不包括任何独立的光源(比如背光单元)，并且可因此实施为低功率消耗、薄且轻质的显示装置，其具有高质量特性比如宽视角、高亮度和高对比度以及快速响应速度，从而作为下一代显示装置引起关注。
技术实现思路
1、本公开的实施方式提供了显示装置，显示装置包括电源线，电源线设置在显示区域中，供应电压，并且电连接至公共电极。
2、本公开的实施方式也提供了显示装置和制造显示装置的方法，显示装置能够在将电源线和公共电极彼此连接时防止对电源线的损坏。
3、然而，本公开的实施方式不限于在本文中陈述的那些。通过参考下面给出的本公开的详细描述，本公开的上面的和其他方面将对于本公开所属领域的普通技术人员变得更显而易见。
4、根据本公开的实施方式，显示装置包括：数据导电层，包括设置在基板上的第一电源线；钝化层，设置在数据导电层上，其中通过钝化层限定暴露第一电
5、在实施方式中，保护层可在通孔层下面从像素限定膜的限定第二开孔的侧壁部分凹进。
6、在实施方式中，保护层可包括硅氧化物、硅氮化物或硅氧氮化物。
7、在实施方式中，连接电极可至少部分设置在数据主金属层的侧面上。
8、在实施方式中，第一电源线可包括：第一侧壁，与第一开孔和第二开孔重叠，并且电线连接结构设置在第一侧壁上；第二侧壁，与第一开孔重叠并且不与第二开孔重叠，并且被钝化层覆盖；以及第三侧壁，不与第一开孔和第二开孔重叠，并且被通孔层覆盖。
9、在实施方式中，第一电源线的第二侧壁和第三侧壁可与数据主金属层的侧面和数据封盖层的侧面对齐。
10、在实施方式中，连接电极可设置为覆盖数据主金属层的侧面。
11、在实施方式中，电线开孔可限定为穿过第一电源线，并且第一开孔和第二开孔可设置为与电线开孔部分重叠。
12、在实施方式中，电线连接结构可设置在第一电源线的限定电线开孔，并且与第一开孔和第二开孔重叠的第一侧壁上。
13、在实施方式中，电线开孔的不与选自第一开孔和第二开孔中的至少一个重叠的侧壁可被钝化层或通孔层覆盖，并且与数据主金属层的侧面和数据封盖层的侧面对齐。
14、在实施方式中，显示装置可进一步包括：与第一电源线间隔开的第二电源线，其中第一开孔和第二开孔可与第一电源线的侧面重叠，并且可不与第二电源线重叠。
15、在实施方式中，电线连接结构可与暴露第一电源线的第一开孔和第二开孔重叠。
16、在实施方式中，第一电源线可包括第一子线和第二子线，第一子线和第二子线至少部分彼此间隔开，并且第一开孔和第二开孔可与第一子线的侧面重叠，并且可不与第二子线重叠。
17、在实施方式中，电线连接结构可设置在第一子线的与第一开孔和第二开孔重叠的部分上。
18、根据本公开的实施方式，显示装置包括：数据导电层，包括设置在基板上的第一电源线；钝化层，设置在数据导电层上，其中通过钝化层限定暴露第一电源线的至少一部分的第一开孔；保护层，设置在钝化层上；通孔层，设置在保护层上，通过通孔层限定与第一开孔部分重叠的第二开孔；像素电极，设置在通孔层上；像素限定膜，设置在像素电极上，通过像素限定膜限定与第二开孔重叠的开孔；发光层，设置在像素限定膜上，并且至少部分设置在像素电极上；以及公共电极，设置在发光层上并且电连接至第一电源线。在这种实施方式中，数据导电层包括数据基底层、设置在数据基底层上的数据主金属层以及设置在数据主金属层上的数据封盖层，保护层从像素限定膜的侧面凹进，第一电源线包括电线连接结构，并且电线连接结构形成为数据主金属层从数据封盖层的侧面凹进，并且公共电极电连接至电线连接结构中的数据主金属层。
19、根据本公开的实施方式，制造显示装置的方法包括：在基板上形成第一电源线，其中第一电源线包括数据基底层、设置在数据基底层上的数据主金属层以及设置在数据主金属层上的数据封盖层；在第一电源线上形成钝化层，其中通过钝化层形成部分暴露第一电源线的第一开孔；在钝化层上形成保护层，以覆盖由第一开孔暴露的第一电源线的部分；在保护层上形成通孔层，其中通过通孔层形成与第一开孔部分重叠，并且暴露保护层的第二开孔；通过蚀刻由第二开孔暴露的保护层的部分并且蚀刻由第一开孔暴露的第一电源线的部分形成电线连接结构，并且电线连接结构形成为数据主金属层从数据封盖层的侧面凹进；以及在通孔层上形成公共电极并且公共电极在第二开孔中至少部分电连接至电线连接结构的数据主金属层。
20、在实施方式中，保护层可包括硅氧化物、硅氮化物或硅氧氮化物。
21、在实施方式中，蚀刻保护层的部分可包括使用通孔层作为掩模进行各向同性的蚀刻工艺，并且保护层可形成为从通孔层的侧面部分凹进。
22、在实施方式中，方法在形成公共电极之前可进一步包括：在通孔层上并且至少部分在第二开孔中形成连接电极；以及在连接电极上形成发光层，其中连接电极的至少一部分可设置在数据主金属层的侧面上，并且公共电极可设置在连接电极上。
23、在实施方式中，方法在蚀刻保护层的部分之前可进一步包括：在通孔层上并且至少部分在第二开孔中形成像素限定膜，其中蚀刻保护层的部分可包括使用像素限定膜作为掩模进行各向同性的蚀刻工艺。
24、根据本公开的实施方式，提供了钝化层，能够在电源线的形成期间防止电源线的金属层被有机绝缘材料氧化。由于在形成与显示区域中的公共电极电连接的电源线期间，电源线的金属层被钝化层的保护，所以可有效防止公共电极和电源线之间的任何电连接缺陷。
25、在这种实施本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种显示装置，包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述保护层在所述通孔层下面从所述像素限定膜的限定所述第二开孔的侧壁部分凹进。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述保护层包括硅氧化物、硅氮化物或硅氧氮化物。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述连接电极至少部分设置在所述数据主金属层的侧面上。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一电源线包括：
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中所述第一电源线的所述第二侧壁和所述第三侧壁与所述数据主金属层的侧面和所述数据封盖层的侧面对齐。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述连接电极设置为覆盖所述数据主金属层的侧面。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中所述电线连接结构设置在所述第一电源线的限定所述电线开孔，并且与所述第一开孔和所述第二开孔重叠的第一侧壁上。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其中所述电线开孔的不与选自所述第一开孔和所述第二开孔中的至少一
11.根据权利要求1所述的显示装置，进一步包括：
12.根据权利要求11所述的显示装置，其中所述电线连接结构与暴露所述第一电源线的所述第一开孔和所述第二开孔重叠。
13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中所述电线连接结构设置在所述第一子线的与所述第一开孔和所述第二开孔重叠的部分上。
15.一种显示装置，包括：
16.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
17.根据权利要求16所述的方法，其中所述保护层包括硅氧化物、硅氮化物或硅氧氮化物。
18.根据权利要求16所述的方法，其中，
19.根据权利要求16所述的方法，在所述形成所述公共电极之前进一步包括：
20.根据权利要求17所述的方法，在所述蚀刻所述保护层的所述部分之前进一步包括：
...【技术特征摘要】
1.一种显示装置，包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述保护层在所述通孔层下面从所述像素限定膜的限定所述第二开孔的侧壁部分凹进。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述保护层包括硅氧化物、硅氮化物或硅氧氮化物。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述连接电极至少部分设置在所述数据主金属层的侧面上。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一电源线包括：
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中所述第一电源线的所述第二侧壁和所述第三侧壁与所述数据主金属层的侧面和所述数据封盖层的侧面对齐。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述连接电极设置为覆盖所述数据主金属层的侧面。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中所述电线连接结构设置在所述第一电源线的限定所述电线开孔，并且与所述第一开孔和所述第二开孔重叠的第一侧壁上。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其中所述电线开孔的...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁伸赫，姜东汉，金志训，文成权，孙昇锡，李禹根，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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